JPS62253777A - 銅系部材の貴金属被覆方法 - Google Patents
銅系部材の貴金属被覆方法Info
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- JPS62253777A JPS62253777A JP61097220A JP9722086A JPS62253777A JP S62253777 A JPS62253777 A JP S62253777A JP 61097220 A JP61097220 A JP 61097220A JP 9722086 A JP9722086 A JP 9722086A JP S62253777 A JPS62253777 A JP S62253777A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
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- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は２例えばしゃ断器に用いられるコンタクタな
どの銅系部材の貴金属被覆方法に関し。
どの銅系部材の貴金属被覆方法に関し。
特にその被覆プロセスの改善に関するものである。
（従来の技術〕
従来のしゃ断器のコンタクタは、銅系部材に湿式めっき
により銀めっきされており、レーザビームを利用した方
法はなかった）材 材料として銅系部材の貴金属被覆に限定しなければ、レ
ーザビームを用いた金属被覆方法として、例えば特開昭
５７−１５５３６３号公報に記載されているものがあっ
た。第４図はこの被覆方法による金属被覆装置を示す構
成図であるっ図において、（１）はレーザ発振器、（１
λ）はレーザ発振器（１）で発振されたレーザビーム、
Ｃ２＠）≦２ｂ）【２Ｃ）はレーザビーム（１ａ）の
方向を変更するためのペンドミラーで。
により銀めっきされており、レーザビームを利用した方
法はなかった）材 材料として銅系部材の貴金属被覆に限定しなければ、レ
ーザビームを用いた金属被覆方法として、例えば特開昭
５７−１５５３６３号公報に記載されているものがあっ
た。第４図はこの被覆方法による金属被覆装置を示す構
成図であるっ図において、（１）はレーザ発振器、（１
λ）はレーザ発振器（１）で発振されたレーザビーム、
Ｃ２＠）≦２ｂ）【２Ｃ）はレーザビーム（１ａ）の
方向を変更するためのペンドミラーで。
レーザビーム（ｌＫ）を伝送するビーム伝送光学系を構
成している。（３１はレーザビーム（１りを集光するた
めの集光レンズ、（４）は被覆金属粉末を送給するため
の粉末送給装置、（５）は粉末を導くための粉末送給管
、（６）は粉末を下地金属材料、例えば基材（７）に吹
きりはるためのノズル、（８）はノズル（６）より噴出
する被覆金属粉末、（９）は基材（７）を被覆する金属
皮膜である５図中、矢印Ａはレーザビーム（１ａ）の進
行方向、矢印Ｂは基材（７）の進行方向を示している。
成している。（３１はレーザビーム（１りを集光するた
めの集光レンズ、（４）は被覆金属粉末を送給するため
の粉末送給装置、（５）は粉末を導くための粉末送給管
、（６）は粉末を下地金属材料、例えば基材（７）に吹
きりはるためのノズル、（８）はノズル（６）より噴出
する被覆金属粉末、（９）は基材（７）を被覆する金属
皮膜である５図中、矢印Ａはレーザビーム（１ａ）の進
行方向、矢印Ｂは基材（７）の進行方向を示している。
従来の金属被覆装置は上記のように構成され、レーザ発
振器（１）で発振されたレーザビーム（１ａ）は矢印Ａ
で示されるよりにペンドミラー（２り、（２ｂ）（２Ｃ
〕により伝送されろうこれと共に、基材（７）を矢印Ｂ
方向に移動させながら、ノズル（６）より被覆金属粉末
（８１を基材（７１Ｊ：、に送給する。この被覆金属粉
末（８）に対し、集光レンズ（３）で適度なビーム径に
集光されたレーザビーム（１２）を照射する。レーザビ
ーム（１ｍ）は被覆金属粉末（８）および基材（７）に
吸収されて、被覆金属粉末（８）および基材（７）の表
面層は溶融し、両者は金属的に結合して基材（７）は金
属皮膜（９）で被覆される。
振器（１）で発振されたレーザビーム（１ａ）は矢印Ａ
で示されるよりにペンドミラー（２り、（２ｂ）（２Ｃ
〕により伝送されろうこれと共に、基材（７）を矢印Ｂ
方向に移動させながら、ノズル（６）より被覆金属粉末
（８１を基材（７１Ｊ：、に送給する。この被覆金属粉
末（８）に対し、集光レンズ（３）で適度なビーム径に
集光されたレーザビーム（１２）を照射する。レーザビ
ーム（１ｍ）は被覆金属粉末（８）および基材（７）に
吸収されて、被覆金属粉末（８）および基材（７）の表
面層は溶融し、両者は金属的に結合して基材（７）は金
属皮膜（９）で被覆される。
上記のような従来の金属被覆方法では、基材（７）とし
て鉄系合金、被覆金属粉末（８］としてＮｉ、Ｃｒおよ
びこれらの合金が主として用いられ、この場合には良好
な金属皮膜（９）を形成するのが比較的浮島であった。
て鉄系合金、被覆金属粉末（８］としてＮｉ、Ｃｒおよ
びこれらの合金が主として用いられ、この場合には良好
な金属皮膜（９）を形成するのが比較的浮島であった。
しかしながら、銅系部材から成る基材（７）に銀や金な
どの貴金属を被覆する場合には。
どの貴金属を被覆する場合には。
銅系部材のレーザビーム吸収率が鉄系材料に比較して著
しく低く、さらに銅系部材の熱伝導率が高い点が異なる
。第６図は従来の方法によって銅系部材に被覆した貴金
属被覆部を示す断面図であり。
しく低く、さらに銅系部材の熱伝導率が高い点が異なる
。第６図は従来の方法によって銅系部材に被覆した貴金
属被覆部を示す断面図であり。
この図に示されるようにレーザビーム照射部において、
基材（７）の表面層の温度は接合温度に８易に到達せず
、その結果レーザビーム（１乳）が照射された部分の貴
金属粉末のみが溶融し、粒子状に凝集して貴金属粒子ａ
ｖを形成し、均一な貴金属皮膜で被覆できないという問
題点があった口 れたもので、銅系部材に貴金属を均一に被覆すると共に
耐摩耗性を向とすることのできる銅系部材の貴金属被覆
方法を得ることを目的とするつ〔問題点を解決するため
の手段〕 この発明に係る銅系部材の貴金属被覆部法は、真空室内
でセラミックスにレーザビームを照射してセラミックス
の蒸気を発生させ、その蒸気によって銅系部材の貴金属
被覆部にセラミックス膜を形成し、このセラミックス膜
の形成部に貴金属材を供給し、これらに高密度エネルギ
ービームを照射して、貴金属中にセラミックスを分散さ
せたもので銅系部材を被覆するようにしたものである。
基材（７）の表面層の温度は接合温度に８易に到達せず
、その結果レーザビーム（１乳）が照射された部分の貴
金属粉末のみが溶融し、粒子状に凝集して貴金属粒子ａ
ｖを形成し、均一な貴金属皮膜で被覆できないという問
題点があった口 れたもので、銅系部材に貴金属を均一に被覆すると共に
耐摩耗性を向とすることのできる銅系部材の貴金属被覆
方法を得ることを目的とするつ〔問題点を解決するため
の手段〕 この発明に係る銅系部材の貴金属被覆部法は、真空室内
でセラミックスにレーザビームを照射してセラミックス
の蒸気を発生させ、その蒸気によって銅系部材の貴金属
被覆部にセラミックス膜を形成し、このセラミックス膜
の形成部に貴金属材を供給し、これらに高密度エネルギ
ービームを照射して、貴金属中にセラミックスを分散さ
せたもので銅系部材を被覆するようにしたものである。
この発明においては、銅系部材の貴金属被覆部に形成し
たセラミックス膜は高密度エネルギービームを吸収して
銅系部材を昇温せしめると共に、粒子状または片状のセ
ラミックスとなって貴金属中に分散して、被覆する貴金
属の耐摩耗性を向丘させる。
たセラミックス膜は高密度エネルギービームを吸収して
銅系部材を昇温せしめると共に、粒子状または片状のセ
ラミックスとなって貴金属中に分散して、被覆する貴金
属の耐摩耗性を向丘させる。
「寥槁酬）
第１図はこの発明の一実施例による銅系部材の貴金属被
覆方法を実現するための貴金属被覆装置示す構成図であ
り、図において、（１）〜ａ〔は従来測長 と同一、または相当のものである。（２ａ）は発振器（
１）からの高密度エネルギービーム、例えばレーザビー
ムを矢印Ａ ａ 、 Ａ ｂ方向の２本のレーザビーム
に分割するためのビーム分割ミラー、 （３ｂ）は集光
レンズ、（７）は銅系部材による基材、（８］は銀など
の貴金属材であり１例えば粉体である。（９）は貴金属
による皮膜、■は銅系部材による基材（７）の少くとも
貴金属被覆部に形成されたセラミックス膜。
覆方法を実現するための貴金属被覆装置示す構成図であ
り、図において、（１）〜ａ〔は従来測長 と同一、または相当のものである。（２ａ）は発振器（
１）からの高密度エネルギービーム、例えばレーザビー
ムを矢印Ａ ａ 、 Ａ ｂ方向の２本のレーザビーム
に分割するためのビーム分割ミラー、 （３ｂ）は集光
レンズ、（７）は銅系部材による基材、（８］は銀など
の貴金属材であり１例えば粉体である。（９）は貴金属
による皮膜、■は銅系部材による基材（７）の少くとも
貴金属被覆部に形成されたセラミックス膜。
αのは１０−’ ｔｏｒｒ程度の真空室を構成する真空
８器。
８器。
（ＸＳａ）および（１５ｂ）はそれぞｔＬ Ｌ／−ｆ
ヒ−ム（１１）を真空浮器圓内に導くためのウィンドウ
レンズ。
ヒ−ム（１１）を真空浮器圓内に導くためのウィンドウ
レンズ。
ｕ６１はセラミックスを保持するためのセラミックスホ
ルダ、αηはセラミックスホルダαｅに固定されたセラ
ミックス、 （ＩＩはレーザビーム（１１）が照射され
てセラミックスαηから蒸発したセラミックスの蒸気で
るる。なお、この実施例において、セラミックスとして
は例えばアルミナ（Ａ／１ｏｓ）を用いているっ 上記のように構成された銅系部材の貴金属被覆方法にお
いては、ビーム分割ミラー（２２）で分割されたレーザ
ビーム（１＠）の一方は矢印Ａｂ方向に導かれ、セラミ
ックス（１？）に照射されて、基材（７）の少くとも貴
金属被覆部にセラミックス膜α２を膜厚が２μｍ程度に
なるように形成する。さらに、基材（７）は矢印８方向
に移動し、ノズル（６）より貴金属材（８）がセラミッ
クス膜αりとに供給される０欠に、ビーム分割ミラー（
２りで分割されたレーザビームの池方が矢印Ａｉｉ方向
に導かれ粉末送給装置（４１によりセラミックス膜Ｃｌ
５Ｊ：に送給された貴金搗材（８）に照射される。ここ
で、貴金属材（８）にレーザビーム（１ａ）を照射して
貴金属による皮膜（９）を形成する時の貴金属被覆部の
断面図を第２図に示す５図において、基材Ｆ７１ 、ｈ
に形成されたセラミックス膜０りは貴金属から成る被覆
貴金属粉末（１０を通過してきたレーザビーム（１りを
吸収して、その熱を基材（７）へ熱伝導によし伝えて基
材（７）を昇温せしめるっ基材（７）が昇温すると、基
材（７）とセラミックス膜■の熱膨張係数の差により基
材（７）とセラミックス膜αりとの界面にせん断応力が
発生して、セラミックス膜α２は基材（７）より剥離す
る。剥離によりセラミックス膜αりは細かく破壊して片
状あるいは粒子状となる。このプロセスにおいて２貴金
属から成る被覆貴金属粉末ｕｌのレーザビーム（１ａ）
が照射された部分は溶融しているため１片状あるいは粒
子状のセラミックス０３は溶融［７た貴金属中に分散し
、昇温した基材（７）と溶融貴金属とが結合する。従っ
て。
ルダ、αηはセラミックスホルダαｅに固定されたセラ
ミックス、 （ＩＩはレーザビーム（１１）が照射され
てセラミックスαηから蒸発したセラミックスの蒸気で
るる。なお、この実施例において、セラミックスとして
は例えばアルミナ（Ａ／１ｏｓ）を用いているっ 上記のように構成された銅系部材の貴金属被覆方法にお
いては、ビーム分割ミラー（２２）で分割されたレーザ
ビーム（１＠）の一方は矢印Ａｂ方向に導かれ、セラミ
ックス（１？）に照射されて、基材（７）の少くとも貴
金属被覆部にセラミックス膜α２を膜厚が２μｍ程度に
なるように形成する。さらに、基材（７）は矢印８方向
に移動し、ノズル（６）より貴金属材（８）がセラミッ
クス膜αりとに供給される０欠に、ビーム分割ミラー（
２りで分割されたレーザビームの池方が矢印Ａｉｉ方向
に導かれ粉末送給装置（４１によりセラミックス膜Ｃｌ
５Ｊ：に送給された貴金搗材（８）に照射される。ここ
で、貴金属材（８）にレーザビーム（１ａ）を照射して
貴金属による皮膜（９）を形成する時の貴金属被覆部の
断面図を第２図に示す５図において、基材Ｆ７１ 、ｈ
に形成されたセラミックス膜０りは貴金属から成る被覆
貴金属粉末（１０を通過してきたレーザビーム（１りを
吸収して、その熱を基材（７）へ熱伝導によし伝えて基
材（７）を昇温せしめるっ基材（７）が昇温すると、基
材（７）とセラミックス膜■の熱膨張係数の差により基
材（７）とセラミックス膜αりとの界面にせん断応力が
発生して、セラミックス膜α２は基材（７）より剥離す
る。剥離によりセラミックス膜αりは細かく破壊して片
状あるいは粒子状となる。このプロセスにおいて２貴金
属から成る被覆貴金属粉末ｕｌのレーザビーム（１ａ）
が照射された部分は溶融しているため１片状あるいは粒
子状のセラミックス０３は溶融［７た貴金属中に分散し
、昇温した基材（７）と溶融貴金属とが結合する。従っ
て。
基材（７）はセラミックスαＪが分散した貴金属により
被覆される。
被覆される。
このように製造工程において貴金属の凝集が防止され、
基材（７）を貴金属で比較的均一に被覆できる。さらに
被覆した貴金属の皮膜（９）中にセラミックス日が分散
しているため、耐摩耗性が向丘する。
基材（７）を貴金属で比較的均一に被覆できる。さらに
被覆した貴金属の皮膜（９）中にセラミックス日が分散
しているため、耐摩耗性が向丘する。
なお、セラミックス膜ｕりの膜厚は２μｍ程度としたが
、これに限るものではな（，０，５μｍ〜１０μｍ程度
が望ましい。との膜厚が０．５μｍ未満だと基材（７）
に対する昇温効果が低く、１０μｍを越えると工程中に
セラミックス膜（２）が剥離しやすくなるう また１片状あるいは粒子状のセラミックス０３の体積分
率を上記実施例では５％程度としており、１チル１０％
程度が耐摩耗性および導電率の両方を満足するという点
で望ましい。体積分率が１％未満の場合には耐摩耗性が
とがらず４１０％を越えると、導電率が低下する。また
丘記実施例では１台のレーザ発振器（１）を用いて、こ
れから発振されたレーザビーム曲を真空室（１４１外で
分割して一方をセラミックスαりの蒸発に用い、池方を
貴金属被覆工程に用いたものにりいて説明したが、レー
ザビームを第３図に示すように真空室圓内で分割しても
同様の効果が期待できる。
、これに限るものではな（，０，５μｍ〜１０μｍ程度
が望ましい。との膜厚が０．５μｍ未満だと基材（７）
に対する昇温効果が低く、１０μｍを越えると工程中に
セラミックス膜（２）が剥離しやすくなるう また１片状あるいは粒子状のセラミックス０３の体積分
率を上記実施例では５％程度としており、１チル１０％
程度が耐摩耗性および導電率の両方を満足するという点
で望ましい。体積分率が１％未満の場合には耐摩耗性が
とがらず４１０％を越えると、導電率が低下する。また
丘記実施例では１台のレーザ発振器（１）を用いて、こ
れから発振されたレーザビーム曲を真空室（１４１外で
分割して一方をセラミックスαりの蒸発に用い、池方を
貴金属被覆工程に用いたものにりいて説明したが、レー
ザビームを第３図に示すように真空室圓内で分割しても
同様の効果が期待できる。
また、レーザ発振器を２台用いればセラミックスの蒸発
工程と貴金属被覆工程とが独立に制御できる効果があり
、それぞれの波長を変えることによってビーム吸収率が
異なっても高い生産効率が得られる効果があるっ この時、貴金属被覆工程に用いるレーザビームは、電子
ビームなどの高密度エネルギーと−ムを用いることもで
きる。
工程と貴金属被覆工程とが独立に制御できる効果があり
、それぞれの波長を変えることによってビーム吸収率が
異なっても高い生産効率が得られる効果があるっ この時、貴金属被覆工程に用いるレーザビームは、電子
ビームなどの高密度エネルギーと−ムを用いることもで
きる。
この発明は以と説明したとおり、真空室内でセラミック
スにレーザビームを照射してセラミックスの蒸気を発生
させ、その蒸気によって銅系部材の貴金属被覆部にセラ
ミックス膜を形成し、このセラミックス膜の形成部に貴
金属材を供給し、これらに高密度エネルギービームを照
射して、貴金属中にセラミックスを分散させたもので銅
系部材を被覆することにより、真空室内で基材にセラミ
ックス膜を形成した後貴金属被覆を行なって銅系部材に
貴金属を比較的均一に被覆すると共に、被覆した貴金属
の耐摩耗性を向上することのできる銅系部材の貴金属被
覆方法が得られる効果がある。
スにレーザビームを照射してセラミックスの蒸気を発生
させ、その蒸気によって銅系部材の貴金属被覆部にセラ
ミックス膜を形成し、このセラミックス膜の形成部に貴
金属材を供給し、これらに高密度エネルギービームを照
射して、貴金属中にセラミックスを分散させたもので銅
系部材を被覆することにより、真空室内で基材にセラミ
ックス膜を形成した後貴金属被覆を行なって銅系部材に
貴金属を比較的均一に被覆すると共に、被覆した貴金属
の耐摩耗性を向上することのできる銅系部材の貴金属被
覆方法が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による銅系部材の貴金属被
覆方法に係る被覆装置を示す構成図、第２図は貴金属被
覆工程における貴金属被覆部の断面図、第３図はこの発
明の池の実施例による被覆装置を示す構成図、第４図は
従来の金属被覆方法による金属被覆装置を示す構成図１
ｍ５図は従来の金属被覆方法により銅系部材に貴金属被
覆した時の貴金属被覆部を示す断面図でろるっ図におい
て、 （ｌａ）はレーザビーム、（７）は銅系部材、
（８１、（９）は貴金属材、＋１２１はセラミックス膜
、αＪはセラミックス、ａ句は真空室、０７）はセラミ
ックス、囮はセラミックスの蒸気である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第２図 ／Ｊ：でラミッ７人
覆方法に係る被覆装置を示す構成図、第２図は貴金属被
覆工程における貴金属被覆部の断面図、第３図はこの発
明の池の実施例による被覆装置を示す構成図、第４図は
従来の金属被覆方法による金属被覆装置を示す構成図１
ｍ５図は従来の金属被覆方法により銅系部材に貴金属被
覆した時の貴金属被覆部を示す断面図でろるっ図におい
て、 （ｌａ）はレーザビーム、（７）は銅系部材、
（８１、（９）は貴金属材、＋１２１はセラミックス膜
、αＪはセラミックス、ａ句は真空室、０７）はセラミ
ックス、囮はセラミックスの蒸気である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代 理 人 大 岩 増 雄第２図 ／Ｊ：でラミッ７人
Claims (9)
- （１）真空室内でセラミックスにレーザビームを照射し
て上記セラミックスの蒸気を発生させ、その蒸気によつ
て銅系部材の貴金属被覆部にセラミックス膜を形成し、
このセラミックス膜の形成部に貴金属材を供給し、これ
らに高密度エネルギービームを照射して、上記貴金属中
に上記セラミックスを分散させたもので上記銅系部材を
被覆するようにした銅系部材の貴金属被覆方法。 - （２）高密度エネルギービームは、電子ビームであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の銅系部材の
貴金属被覆方法。 - （３）高密度エネルギービームは、レーザビームである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の銅系部材
の貴金属被覆方法。 - （４）発振器から発振されたレーザビームをビーム分割
ミラーで分割し、一方のレーザビームをセラミックスに
照射し、他方のレーザビームを銅系部材の貴金属被覆部
に照射することを特徴とする特許請求の範囲第３項記載
の銅系部材の貴金属被覆方法。 - （５）セラミックスに照射するレーザビームの波長は、
銅系部材の貴金属被覆部に照射するレーザビームの波長
と異なるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
３項記載の銅系部材の貴金属被覆方法。 - （６）貴金属材は粉体であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の銅系部材
の貴金属被覆方法。 - （７）セラミックス膜は、その膜厚が０．５μｍ〜１０
μｍであることを特徴とする特許請求の範囲第１項ない
し第６項のいずれかに記載の銅系部材の貴金属被覆方法
。 - （８）貴金属材中のセラミックスの体積分率は、１％〜
１０％であることを特徴とする特許請求の範囲第１項な
いし第７項のいずれかに記載の銅系部材の貴金属被覆方
法。 - （９）貴金属材は、銀であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の銅系部材
の貴金属被覆方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097220A JPS62253777A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 銅系部材の貴金属被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097220A JPS62253777A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 銅系部材の貴金属被覆方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62253777A true JPS62253777A (ja) | 1987-11-05 |
Family
ID=14186547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61097220A Pending JPS62253777A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 銅系部材の貴金属被覆方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62253777A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0664349A1 (de) * | 1994-01-25 | 1995-07-26 | DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT e.V. | Verfahren zum Beschichten von Kupferwerkstoffen |
| EP0915184A1 (de) * | 1997-11-06 | 1999-05-12 | Sulzer Innotec Ag | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Schicht auf einem metallischen Grundwerkstoff |
| US7501603B2 (en) * | 2005-03-23 | 2009-03-10 | Vojislav Kalanovic | Positioning apparatus and method incorporating modular gimbal unit and jewelry processing system incorporating the positioning apparatus |
| WO2015038371A1 (en) * | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Caterpillar Inc. | Machine component cladding strategy |
-
1986
- 1986-04-25 JP JP61097220A patent/JPS62253777A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0664349A1 (de) * | 1994-01-25 | 1995-07-26 | DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT e.V. | Verfahren zum Beschichten von Kupferwerkstoffen |
| EP0915184A1 (de) * | 1997-11-06 | 1999-05-12 | Sulzer Innotec Ag | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Schicht auf einem metallischen Grundwerkstoff |
| US6221175B1 (en) | 1997-11-06 | 2001-04-24 | Sulzer Innotec Ag | Method for the production of a ceramic layer on a metallic base material |
| US7501603B2 (en) * | 2005-03-23 | 2009-03-10 | Vojislav Kalanovic | Positioning apparatus and method incorporating modular gimbal unit and jewelry processing system incorporating the positioning apparatus |
| WO2015038371A1 (en) * | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Caterpillar Inc. | Machine component cladding strategy |
| US9555503B2 (en) | 2013-09-10 | 2017-01-31 | Caterpillar Inc. | Machine component cladding strategy |
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