JPS62250528A - 半導体レ−ザ装置 - Google Patents
半導体レ−ザ装置Info
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- JPS62250528A JPS62250528A JP61092410A JP9241086A JPS62250528A JP S62250528 A JPS62250528 A JP S62250528A JP 61092410 A JP61092410 A JP 61092410A JP 9241086 A JP9241086 A JP 9241086A JP S62250528 A JPS62250528 A JP S62250528A
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/123—Integrated head arrangements, e.g. with source and detectors mounted on the same substrate
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- G—PHYSICS
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- G11B7/1359—Single prisms
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
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- H01S5/02255—Out-coupling of light using beam deflecting elements
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- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、光ディスクに対しレーザ光を照射し、光デ
ィスクに記録されている情報を読み出すような光学装置
に使用される半導体レーザ装置に関するものである。
ィスクに記録されている情報を読み出すような光学装置
に使用される半導体レーザ装置に関するものである。
本発明の半導体レーザ装置は、半導体基板面にレーザ発
光用のダイオードと、光記録媒体から反射された戻り光
を受光するための光検出器と、少なくとも2個の半透過
反射面を備えているプ゛リズムを搭載し、前記プリズム
と前記半導体基板の境界面には入射角の大きい迷光に対
しては全反射の条件を満足するような2層のコーティン
グ層を付加したものである。
光用のダイオードと、光記録媒体から反射された戻り光
を受光するための光検出器と、少なくとも2個の半透過
反射面を備えているプ゛リズムを搭載し、前記プリズム
と前記半導体基板の境界面には入射角の大きい迷光に対
しては全反射の条件を満足するような2層のコーティン
グ層を付加したものである。
そのため、光検出器には光記録媒体からの戻り光のみが
有効に照射されるようになり、光学ヘッドのトラシキノ
グ論御又はフォーカス制御等が向1するようになる。
有効に照射されるようになり、光学ヘッドのトラシキノ
グ論御又はフォーカス制御等が向1するようになる。
光学式記録再生装置等で使用されている光学へ7ド゛に
は、例えば光ディスク等にレーザ光を照射し、その反射
光から記録情報を読み出すことが行われている。
は、例えば光ディスク等にレーザ光を照射し、その反射
光から記録情報を読み出すことが行われている。
このような光学ヘッドは集束されたレーザ光を高密度で
記録されている光ディスクの狭い記録トラックに正確に
照射するため、光ディスクからの戻り光を利用してトラ
ッキング制御、及びフォーカス制御をかけることが不可
欠であって、レーザ発光源と共にビームスプリッタ、光
検出器等の各種光学部材を光軸に沿って精密に配置する
必要がある。
記録されている光ディスクの狭い記録トラックに正確に
照射するため、光ディスクからの戻り光を利用してトラ
ッキング制御、及びフォーカス制御をかけることが不可
欠であって、レーザ発光源と共にビームスプリッタ、光
検出器等の各種光学部材を光軸に沿って精密に配置する
必要がある。
そのため一般的に光学ヘッドは装置が大型化すると共に
、その製造作業及び調整作業が煩雑となり、コストアッ
プを招くという問題があった。
、その製造作業及び調整作業が煩雑となり、コストアッ
プを招くという問題があった。
そこで、本出願人は先に半導体を基台とした一体型の半
導体レーザ装置(特願昭81−38578号)を提案し
た。
導体レーザ装置(特願昭81−38578号)を提案し
た。
第4図はこの半導体レーザ装置の概要を示す側面図で、
半導体レーザ装置10にはレーザダイオード11が半導
体基板12の上に形成されている。
半導体レーザ装置10にはレーザダイオード11が半導
体基板12の上に形成されている。
13.14,15.16は前記半導体基板12の表面に
形成されている光検出部を示し、これらは良く知られて
いるように分割された複数個の光電面を半導体基板12
上に形成することにより、トラッキングエラー、フォー
カスエラー、RF信号等を検出するために使用される。
形成されている光検出部を示し、これらは良く知られて
いるように分割された複数個の光電面を半導体基板12
上に形成することにより、トラッキングエラー、フォー
カスエラー、RF信号等を検出するために使用される。
17は前記半導体基板12上に配置されている断面台膨
軟の小さなプリズムである。
軟の小さなプリズムである。
−L述した半導体レーザ装置はレーザダイオード11か
ら出力された光20aは、まず、プリズム17の半透過
反射面17aによって矢印方向Fに反射され、対物レン
ズ18を介して光デイスク面19に集束されるように照
射されており、光デイスク面19からの反射光(R)は
同一の光路を経て再び半透過反射面17aに入射し、プ
リズム17を介して第1の光検出部13に照射されると
共に、その一部はプリズム17の底面17bに形成され
ている半透過反射面、及び上面17cのミラー面によっ
て反射され、第2の光検出部14に入射される。
ら出力された光20aは、まず、プリズム17の半透過
反射面17aによって矢印方向Fに反射され、対物レン
ズ18を介して光デイスク面19に集束されるように照
射されており、光デイスク面19からの反射光(R)は
同一の光路を経て再び半透過反射面17aに入射し、プ
リズム17を介して第1の光検出部13に照射されると
共に、その一部はプリズム17の底面17bに形成され
ている半透過反射面、及び上面17cのミラー面によっ
て反射され、第2の光検出部14に入射される。
ヌ、第2の光検出部14に入射される光の一部は、さら
にプリズム17の底面17b及び上面17cによって反
射され第3の光検出部15にも入射される。
にプリズム17の底面17b及び上面17cによって反
射され第3の光検出部15にも入射される。
なお、光検出部16はレーザダイオード11のモニター
用として使用するようになされている。
用として使用するようになされている。
このような半導体レーザ装置10は発光源であるレーザ
ダイオード(11)と、各光検出部(13,14,15
)及びプリズム(17)等が同一の半導体基板上に形成
されているため、光学ヘッドの構造が小型かつ簡易化さ
れ、製造コストを大幅に低減゛することができるが、プ
リズム17の半透過反射面反射面17aから入射される
迷光すなわち、2点鎖線で示すようなレーザダイオード
11からの直射光が前記光検出部13,14゜15等に
入射し、検出感度が低下すると共に、検出誤差が増大す
るという問題がある。
ダイオード(11)と、各光検出部(13,14,15
)及びプリズム(17)等が同一の半導体基板上に形成
されているため、光学ヘッドの構造が小型かつ簡易化さ
れ、製造コストを大幅に低減゛することができるが、プ
リズム17の半透過反射面反射面17aから入射される
迷光すなわち、2点鎖線で示すようなレーザダイオード
11からの直射光が前記光検出部13,14゜15等に
入射し、検出感度が低下すると共に、検出誤差が増大す
るという問題がある。
又、この迷光を除去するためには光学系が複雑になり、
さらに別の光学部品が必要になるという問題がある。
さらに別の光学部品が必要になるという問題がある。
この発明は、かかる問題点を解消するためになされたも
ので、半導体レーザ装置に対して格別な光学素子を付加
することなく、発光源からの迷光を低減させるようにし
た半導体レーザ装置を提供するものである。
ので、半導体レーザ装置に対して格別な光学素子を付加
することなく、発光源からの迷光を低減させるようにし
た半導体レーザ装置を提供するものである。
この発明の半導体レーザ装置には、半導体基板1−に形
成されている光検出部と、この光検出部の上面に配置さ
れるプリズムの境界面に二重のコーティング層を設け、
このコーティング層によってし・−ザ発光源からの迷光
が光検出部に入射されることを防止する。
成されている光検出部と、この光検出部の上面に配置さ
れるプリズムの境界面に二重のコーティング層を設け、
このコーティング層によってし・−ザ発光源からの迷光
が光検出部に入射されることを防止する。
レーザ発光源からプリズムの半透過反射面に入射する光
の角度と、光ディスクの反射面からの戻り光がプリズム
の半透過反射面に入射する角度には20°〜40°の差
が形成されている。
の角度と、光ディスクの反射面からの戻り光がプリズム
の半透過反射面に入射する角度には20°〜40°の差
が形成されている。
この入射角の異なる光はそれぞれプリズムの底面に形成
されている半透過反射面を通過して光電検出器に入射さ
れるが、プリズムの底面と半導体基板の境界面に、屈折
率の異なる2層のplJ(Si0? 。
されている半透過反射面を通過して光電検出器に入射さ
れるが、プリズムの底面と半導体基板の境界面に、屈折
率の異なる2層のplJ(Si0? 。
c、H3Ns)が適当な厚みでコーティングされている
ので、このコーティング層によって戻り光の透過率は太
きく、入射角の大きい迷光は殆ど全反射させることがで
さるようになる。
ので、このコーティング層によって戻り光の透過率は太
きく、入射角の大きい迷光は殆ど全反射させることがで
さるようになる。
第1図は、本発明の半導体レーザ!I装置の要部を拡大
して示した斜視図で、21は前述した半導体基板22に
半田21Aを介して固定されているレーデダイオード、
23a (23b、23c)は半導体基板22に形成さ
れている光検出部、24は厚さ0.3+wm位のプリズ
ムである。
して示した斜視図で、21は前述した半導体基板22に
半田21Aを介して固定されているレーデダイオード、
23a (23b、23c)は半導体基板22に形成さ
れている光検出部、24は厚さ0.3+wm位のプリズ
ムである。
プリズム24の底面にはマルチコーティングによるハー
フミラ−25が形成されている。そして接Ii剤26に
より半導体基板22の上面に形成されている5iTo
(酸化シリコン)からなる第1のコー・ティング層27
と、5i=NA(シリコンナ・イトライト)からなる第
2のコーティング層28t−介して接ノiされている。
フミラ−25が形成されている。そして接Ii剤26に
より半導体基板22の上面に形成されている5iTo
(酸化シリコン)からなる第1のコー・ティング層27
と、5i=NA(シリコンナ・イトライト)からなる第
2のコーティング層28t−介して接ノiされている。
この実施例では接着剤26の屈折率nはプリズム24の
屈折率とほぼ等しい値、例えば1.58のものが使用さ
れており、第1のコーティング層27の屈折率nl
、及び第2のコーティング層28の屈折率n2はそれぞ
れ1.45 、及び2.0に設定されている。
屈折率とほぼ等しい値、例えば1.58のものが使用さ
れており、第1のコーティング層27の屈折率nl
、及び第2のコーティング層28の屈折率n2はそれぞ
れ1.45 、及び2.0に設定されている。
又、第1のコーティング層27の膜厚はdl =37
2OA、第2のコーティング層2Bの膜厚はd2 =1
128Aとされている。
2OA、第2のコーティング層2Bの膜厚はd2 =1
128Aとされている。
なお、この第1.第2のコーティング層27゜28は半
導体基板22の上に光検出部23a。
導体基板22の上に光検出部23a。
(23b、23c)等を形成したのち真空蒸着等によっ
て所定の膜厚としたものである。
て所定の膜厚としたものである。
本発明の半導体レーザ装置の要部は上述したように構成
されているので、レーザダイオード21から出射された
レーザ光30aは、プリズム24の前面にある半透過反
射面24aによって反射され、光ディスク等にレーザ光
3Ofとして照射される。そして、その戻り光30rは
同一の光路を通り、約40°±5°の角度で再び半透過
反射面24 aからプリズム24内に入射され、底面の
ハーフミラ−25で一部は反射されるが、さらに接着剤
26、第1.第2のコーティング層27゜28を通過し
て光検出部23に照射される。
されているので、レーザダイオード21から出射された
レーザ光30aは、プリズム24の前面にある半透過反
射面24aによって反射され、光ディスク等にレーザ光
3Ofとして照射される。そして、その戻り光30rは
同一の光路を通り、約40°±5°の角度で再び半透過
反射面24 aからプリズム24内に入射され、底面の
ハーフミラ−25で一部は反射されるが、さらに接着剤
26、第1.第2のコーティング層27゜28を通過し
て光検出部23に照射される。
一方、レーザダイオード21から出射されたレーザ光3
0 aの一部分はプリズム24の半透過反射面24aを
通過してプリズム内に二点鎖線で示すように迷光30s
として入射されるがこのときの入射角はほぼ66″〜8
2″とされている。
0 aの一部分はプリズム24の半透過反射面24aを
通過してプリズム内に二点鎖線で示すように迷光30s
として入射されるがこのときの入射角はほぼ66″〜8
2″とされている。
ところで、本発明の半導体レーザ装置では後述するよう
に第1.第2のコーティング層27゜28を半導体基板
22とプリズム24の境界に形成しているため、この迷
光30sは第1及び第2のコーティング層27.28に
よってほぼ全反射され、光検出部23a (23b 、
23c)に照射されないようにすることができる。
に第1.第2のコーティング層27゜28を半導体基板
22とプリズム24の境界に形成しているため、この迷
光30sは第1及び第2のコーティング層27.28に
よってほぼ全反射され、光検出部23a (23b 、
23c)に照射されないようにすることができる。
第2図(a)、(b)は2層ノコ−ティング層27゜2
8をそれぞれ屈折率が1.45 、厚み3720Aの5
i02と、屈折率が2.0.厚み1120Aの5iJ4
とからなる膜厚で形成したときのレーザ光(7800A
)の透過状態と、入射角αに対する透過率のデータを示
したもので、横軸には入射角α、縦軸には透過率が示さ
れている。
8をそれぞれ屈折率が1.45 、厚み3720Aの5
i02と、屈折率が2.0.厚み1120Aの5iJ4
とからなる膜厚で形成したときのレーザ光(7800A
)の透過状態と、入射角αに対する透過率のデータを示
したもので、横軸には入射角α、縦軸には透過率が示さ
れている。
この図から理解できるように未発明の実施例で採用する
2層のコーティング層27.28によると入射角が40
°±5°とされているレーザ光、つまり、光ディスクか
らの戻り光に対しては90%以北の透過率を示している
のに対し、入射角が66°以上の迷光に対しては透過率
が数%以下に低減され、全反射に近い特性を示している
。
2層のコーティング層27.28によると入射角が40
°±5°とされているレーザ光、つまり、光ディスクか
らの戻り光に対しては90%以北の透過率を示している
のに対し、入射角が66°以上の迷光に対しては透過率
が数%以下に低減され、全反射に近い特性を示している
。
したがって、光検出部23aは戻り光に対しては、大き
な感度で反応するが、迷光に対しては殆ど反応せず、光
ディスクの反射光の情報を高い感度で検出することがで
きるようになる。
な感度で反応するが、迷光に対しては殆ど反応せず、光
ディスクの反射光の情報を高い感度で検出することがで
きるようになる。
なお、このデータはレーザ光の偏光面が紙面方向である
いわゆるS偏光のものについて記載されているが、一点
鎖線で示すようにP偏光のレーザ光とのf均データによ
る場合も入射角αによる透過(への変化は同様な傾向を
示している。
いわゆるS偏光のものについて記載されているが、一点
鎖線で示すようにP偏光のレーザ光とのf均データによ
る場合も入射角αによる透過(への変化は同様な傾向を
示している。
ちなみに、細線で示した二点鎖線の特性は第1のコーテ
ィング層27が形成されていないときの中層のデータ(
dl =0)を示し、この場合は入射角αが約70°ま
で透過率の変化は殆どなく、戻り光に対する選別機能は
殆ど期待できない。
ィング層27が形成されていないときの中層のデータ(
dl =0)を示し、この場合は入射角αが約70°ま
で透過率の変化は殆どなく、戻り光に対する選別機能は
殆ど期待できない。
第3 UA(a)、(b)、(c)は第1及び第2のコ
ーティング層27.28の厚みdl、d2 を変化した
ときの入射角αに依存する透過率の特性を示したもので
ある。
ーティング層27.28の厚みdl、d2 を変化した
ときの入射角αに依存する透過率の特性を示したもので
ある。
これらの実施例では第2図(b)の場合よりも、戻り光
射迷光の透過率の割合が劣化しているが。
射迷光の透過率の割合が劣化しているが。
コーティング層が全くない場合、又は中層のコーティン
グ層が付加されている場合に比較すると戻り光の選択効
果は大きくなり、光検出部の感度を向上させることがで
きる。
グ層が付加されている場合に比較すると戻り光の選択効
果は大きくなり、光検出部の感度を向上させることがで
きる。
以上、:51明したように、本発明の半導体レーザ装置
は、′吟導体基板上にレーザ発光源と、光検出器と、プ
リズムを一体的に形成し、光学ヘッドを小型化する際に
、プリズムと半導体基板の境界面に2層のコーティング
層を施し、この2層のコーチインi゛層を、プリズムに
入射される迷光に対して全反射に近い条件となるように
設定したので、−“光検出器の戻り光に対する感度を高
くすることができるという効果がある。
は、′吟導体基板上にレーザ発光源と、光検出器と、プ
リズムを一体的に形成し、光学ヘッドを小型化する際に
、プリズムと半導体基板の境界面に2層のコーティング
層を施し、この2層のコーチインi゛層を、プリズムに
入射される迷光に対して全反射に近い条件となるように
設定したので、−“光検出器の戻り光に対する感度を高
くすることができるという効果がある。
又、このような半導体装置を光学ヘッドに使用すれば、
高い精度でトラッキングエラー信号、又はフォーカスエ
ラー信号等が検出できるという利点を有する。
高い精度でトラッキングエラー信号、又はフォーカスエ
ラー信号等が検出できるという利点を有する。
第1図は本発明の半導体レーザ装置の要部を示す断面図
、第2図(a)は第1.第2のコーティング層の形状を
示す説明図、第2図(b)はレーザ光の入射角αと透過
率の関係を示すデータ図、第3図(a)、(b)、(c
)は第1.第2のコーティング層の厚みを変化したとき
のデータ図、第4図は半導体し・−ザ装置の先行技術を
示す断面図である。 図中、21はレーザダイオード、22は半導体基板、2
3aは光検出部、24はプリズム、24aは第1の参透
過反射面、25は第2の半透過反射面(ハーフミラ−)
、26は接着剤、27は第1のコーティング層、28は
第2のコーティング層を示す。 牛善体し−f【置の側面 第4図 手続補正書印釦 昭和61年 7月 7日
、第2図(a)は第1.第2のコーティング層の形状を
示す説明図、第2図(b)はレーザ光の入射角αと透過
率の関係を示すデータ図、第3図(a)、(b)、(c
)は第1.第2のコーティング層の厚みを変化したとき
のデータ図、第4図は半導体し・−ザ装置の先行技術を
示す断面図である。 図中、21はレーザダイオード、22は半導体基板、2
3aは光検出部、24はプリズム、24aは第1の参透
過反射面、25は第2の半透過反射面(ハーフミラ−)
、26は接着剤、27は第1のコーティング層、28は
第2のコーティング層を示す。 牛善体し−f【置の側面 第4図 手続補正書印釦 昭和61年 7月 7日
Claims (1)
- 少なくとも半導体基板に形成されている1又は2以上の
光検出器と、この光検出器の受光面に接面し、第1の半
透過反射面から入射された戻り光を前記光検出器の受光
面に照射するような第2の半透過反射面を有するプリズ
ムと、前記第1の半透過反射面にレーザ光を入射する半
導体レーザ発光源とからなり、前記半導体基板と前記プ
リズムの境界面には、前記第1の半透過反射面から入射
された所定入射角以上の迷光がほぼ全反射するような屈
折率とされた2層以上のコーティング層が形成されてい
ることを特徴とする半導体レーザ装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092410A JPH0719394B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 半導体レ−ザ装置 |
CA000534645A CA1277406C (en) | 1986-04-23 | 1987-04-14 | Semiconductor laser apparatus for optical head |
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DE8787303534T DE3776186D1 (de) | 1986-04-23 | 1987-04-22 | Halbleiterlaser-vorrichtung. |
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JP61092410A JPH0719394B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 半導体レ−ザ装置 |
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---|---|
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Family
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Family Applications (1)
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- 1987-04-21 KR KR1019870003798A patent/KR950001875B1/ko not_active IP Right Cessation
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-
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- 1995-07-20 HK HK119395A patent/HK119395A/xx not_active IP Right Cessation
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US4772784A (en) | 1988-09-20 |
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