JPS6224763Y2 - - Google Patents
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- JPS6224763Y2 JPS6224763Y2 JP7213382U JP7213382U JPS6224763Y2 JP S6224763 Y2 JPS6224763 Y2 JP S6224763Y2 JP 7213382 U JP7213382 U JP 7213382U JP 7213382 U JP7213382 U JP 7213382U JP S6224763 Y2 JPS6224763 Y2 JP S6224763Y2
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- JP
- Japan
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- guide
- bypass valve
- cylinder head
- hole
- valve
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- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 6
- 241000234435 Lilium Species 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Multiple-Way Valves (AREA)
- Control Of Throttle Valves Provided In The Intake System Or In The Exhaust System (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、内燃機関のヘリカル型吸気ポートの
流路制御装置に関し、とくにヘリカル型吸気ポー
トのバイパス通路に設けられるバイパスバルブの
シリンダヘツドへの装着構造に関するものであ
る。
流路制御装置に関し、とくにヘリカル型吸気ポー
トのバイパス通路に設けられるバイパスバルブの
シリンダヘツドへの装着構造に関するものであ
る。
内燃機関の燃焼特性を改善しひいては燃費、出
力性能を改善するために、吸気ポートにヘリカル
型吸気ポートが用いられることがある。ヘリカル
型吸気ポートは機関の低速低負荷域において燃焼
室にスワールを生成せしめて燃焼性を向上させる
ものの、高速高負荷域においては旋回流が抵抗と
なつて充填効率を低下させるため、バイパス通路
が並設されて、充填効率の低下の防止がはかられ
る。この場合は、バイパス通路に開閉弁が設けら
れ、機関の運転条件に応じてバイパス通路が開閉
される。たとえば、特願昭56−51149号(特開昭
57−165629号公報)、および特願昭56−120634号
(特開昭58−23224号公報)。
力性能を改善するために、吸気ポートにヘリカル
型吸気ポートが用いられることがある。ヘリカル
型吸気ポートは機関の低速低負荷域において燃焼
室にスワールを生成せしめて燃焼性を向上させる
ものの、高速高負荷域においては旋回流が抵抗と
なつて充填効率を低下させるため、バイパス通路
が並設されて、充填効率の低下の防止がはかられ
る。この場合は、バイパス通路に開閉弁が設けら
れ、機関の運転条件に応じてバイパス通路が開閉
される。たとえば、特願昭56−51149号(特開昭
57−165629号公報)、および特願昭56−120634号
(特開昭58−23224号公報)。
上記のような装置において良好な流路制御を行
なうには、開閉弁のバイパス通路内における配設
および開閉の精度が高精度に設定されなければな
らない。すなわち、開閉弁がバイパス通路内の中
心に正確に配設されなければスワールがばらつ
き、出力、燃費の悪化を生じ、かつシリンダヘツ
ドに弁体があたるような場合は開閉作動自体が阻
害される。また、弁の開閉精度のうち開き角が全
開の位置から外れれば流れ抵抗の増加より出力の
低下を招くし、さらに、閉じ角が全閉の位置から
ずれるならばスワールの生成が低下し燃費の向上
がそれだけ阻止されることになる。
なうには、開閉弁のバイパス通路内における配設
および開閉の精度が高精度に設定されなければな
らない。すなわち、開閉弁がバイパス通路内の中
心に正確に配設されなければスワールがばらつ
き、出力、燃費の悪化を生じ、かつシリンダヘツ
ドに弁体があたるような場合は開閉作動自体が阻
害される。また、弁の開閉精度のうち開き角が全
開の位置から外れれば流れ抵抗の増加より出力の
低下を招くし、さらに、閉じ角が全閉の位置から
ずれるならばスワールの生成が低下し燃費の向上
がそれだけ阻止されることになる。
本考案は、ヘリカル型吸気ポートのバイパスバ
ルブの精度の高い取付けを可能とするシリンダヘ
ツドへの装着構造を提供することを目的とし、こ
れによつて確実な流路制御を通して機関の出力の
向上、燃費の改善をはかることを目的とする。
ルブの精度の高い取付けを可能とするシリンダヘ
ツドへの装着構造を提供することを目的とし、こ
れによつて確実な流路制御を通して機関の出力の
向上、燃費の改善をはかることを目的とする。
この目的を達成するために、本考案のヘリカル
型吸気ポートの流路制御装置においては、バイパ
スバルブはガイドに回動可能に支承されており、
このガイドがその下端でシリンダヘツドにインロ
ー嵌合されて装着されるとともに、その上端でガ
イドとシリンダヘツド間に介装されたナツトユニ
オンにより押圧されることによりシリンダヘツド
に固定されている。
型吸気ポートの流路制御装置においては、バイパ
スバルブはガイドに回動可能に支承されており、
このガイドがその下端でシリンダヘツドにインロ
ー嵌合されて装着されるとともに、その上端でガ
イドとシリンダヘツド間に介装されたナツトユニ
オンにより押圧されることによりシリンダヘツド
に固定されている。
この構成をとることにより、ガイドのシリンダ
ヘツドへの装着において位置出しと固定とを別々
に行なうことができ、すなわち位置出しはガイド
の下端外周とシリンダヘツドのバイパスバルブ装
着用穴の嵌合で行ない、固定はナツトユニオンで
ガイドの鍔部を押えることによつて行なうことが
できるので、ガイドの取付けの位置出しをインロ
ーの嵌合により高精度に行なうことができ、これ
によつてガイドに支持されたバイパスバルブの弁
体を高精度にバイパス通路内に配設することがで
きる。また、正規の位置からずれて配設されるこ
とによる開閉角度のずれも除去され、これら装着
精度の向上を通して内燃機関の燃焼性の向上、出
力の増大、燃費の改善がはかられる。
ヘツドへの装着において位置出しと固定とを別々
に行なうことができ、すなわち位置出しはガイド
の下端外周とシリンダヘツドのバイパスバルブ装
着用穴の嵌合で行ない、固定はナツトユニオンで
ガイドの鍔部を押えることによつて行なうことが
できるので、ガイドの取付けの位置出しをインロ
ーの嵌合により高精度に行なうことができ、これ
によつてガイドに支持されたバイパスバルブの弁
体を高精度にバイパス通路内に配設することがで
きる。また、正規の位置からずれて配設されるこ
とによる開閉角度のずれも除去され、これら装着
精度の向上を通して内燃機関の燃焼性の向上、出
力の増大、燃費の改善がはかられる。
以下に、本考案のヘリカル型吸気ポートの流路
制御装置の望ましい実施例を図面を参照しながら
説明する。
制御装置の望ましい実施例を図面を参照しながら
説明する。
第1図ないし第3図は本考案の一実施例に係る
ヘリカル型吸気ポートの流路制御装置の全体構成
を示している。図中、1はシリンダブロツク、2
はピストン、3はシリンダヘツド、4は燃焼室、
5は吸気弁で、6はヘリカル型吸気ポートを示し
ている。ヘリカル型吸気ポート6は、第2図に示
すように、ほぼ真直に延びる入口通路部6aとそ
の下流側に接続する渦巻部6bとからなり、入口
通路部6aと渦巻部6b終端とはほぼ真直に延び
るバイパス通路7によつて連絡されている。バイ
パス通路7には開閉弁としてのバイパスバルブ8
が装着され、機関の運転条件に合わせてバイパス
通路7を開閉する。
ヘリカル型吸気ポートの流路制御装置の全体構成
を示している。図中、1はシリンダブロツク、2
はピストン、3はシリンダヘツド、4は燃焼室、
5は吸気弁で、6はヘリカル型吸気ポートを示し
ている。ヘリカル型吸気ポート6は、第2図に示
すように、ほぼ真直に延びる入口通路部6aとそ
の下流側に接続する渦巻部6bとからなり、入口
通路部6aと渦巻部6b終端とはほぼ真直に延び
るバイパス通路7によつて連絡されている。バイ
パス通路7には開閉弁としてのバイパスバルブ8
が装着され、機関の運転条件に合わせてバイパス
通路7を開閉する。
第3図はバイパスバルブ8のアクチユエータ側
の構造を示している。バイパスバルブ8はリンク
装置9を介してダイアフラム装置10に連結され
ている。ダイアフラム装置10はダイアフラム1
1によつて画成された負圧室12を有しており、
該負圧室12は負圧制御装置13を介してスロツ
トル弁下流の吸気マニホルド14または大気に切
換可能に連通される。負圧制御装置13は、吸気
マニホルド14に接続する負圧ポート15と大気
に接続する大気ポート16とを有しており、それ
ぞれ弁体17,18によつて開閉される。大気ポ
ート16側の弁体18はダイアフラム19に支持
され、該ダイアフラム19の位置側には負圧室2
0が設けられいて、該負圧室20はコンパウンド
型気化器21の1次側の負圧ポート22および2
次側の負圧ポート23に連通している。なお、2
4,25,26は負圧導管、27,28はそれぞ
れ1次側スロツトルバルブおよび2次側スロツト
ルバルブである。これらの機器または部材は、機
関が低速低負荷域のときにバイパスバルブ8がバ
イパス通路7を閉弁し、高速高負荷域のときにバ
イパスバルブ8がバイパス通路7を開弁するよう
に互いに連結されている。
の構造を示している。バイパスバルブ8はリンク
装置9を介してダイアフラム装置10に連結され
ている。ダイアフラム装置10はダイアフラム1
1によつて画成された負圧室12を有しており、
該負圧室12は負圧制御装置13を介してスロツ
トル弁下流の吸気マニホルド14または大気に切
換可能に連通される。負圧制御装置13は、吸気
マニホルド14に接続する負圧ポート15と大気
に接続する大気ポート16とを有しており、それ
ぞれ弁体17,18によつて開閉される。大気ポ
ート16側の弁体18はダイアフラム19に支持
され、該ダイアフラム19の位置側には負圧室2
0が設けられいて、該負圧室20はコンパウンド
型気化器21の1次側の負圧ポート22および2
次側の負圧ポート23に連通している。なお、2
4,25,26は負圧導管、27,28はそれぞ
れ1次側スロツトルバルブおよび2次側スロツト
ルバルブである。これらの機器または部材は、機
関が低速低負荷域のときにバイパスバルブ8がバ
イパス通路7を閉弁し、高速高負荷域のときにバ
イパスバルブ8がバイパス通路7を開弁するよう
に互いに連結されている。
第4図および第5図はバイパスバルブ8のシリ
ンダヘツド3への装着部とその近傍の構造の詳細
を示している。図に示すように、バイパスバルブ
8は、幅方向の中央部が両端に比べて厚く形成さ
れ両端にいくに従い厚さが小になつている薄い羽
根状の板から成る弁体29と、弁体29と一体化
され上方に向かつて延びる軸部30とから成つて
いる。軸部30はその下端に円板状の弁体取付部
31をその上部に縮径された円柱状部を有してい
る。
ンダヘツド3への装着部とその近傍の構造の詳細
を示している。図に示すように、バイパスバルブ
8は、幅方向の中央部が両端に比べて厚く形成さ
れ両端にいくに従い厚さが小になつている薄い羽
根状の板から成る弁体29と、弁体29と一体化
され上方に向かつて延びる軸部30とから成つて
いる。軸部30はその下端に円板状の弁体取付部
31をその上部に縮径された円柱状部を有してい
る。
弁体8はその軸部30で回動自在にガイド32
に支承されている。ガイド32は下端に外周が円
筒面のインロー部33を有しており、その上部は
インロー部33より拡径された鍔部34を有して
おり、鍔部34の上部には再び縮径された円柱状
部35を有している。ガイド32はその円柱状部
35に円周状に延びるOリング溝36を有してお
り、Oリング溝36にはシリンダヘツド3への嵌
着に際し、Oリング37が嵌着される。
に支承されている。ガイド32は下端に外周が円
筒面のインロー部33を有しており、その上部は
インロー部33より拡径された鍔部34を有して
おり、鍔部34の上部には再び縮径された円柱状
部35を有している。ガイド32はその円柱状部
35に円周状に延びるOリング溝36を有してお
り、Oリング溝36にはシリンダヘツド3への嵌
着に際し、Oリング37が嵌着される。
シリンダヘツド3にはバイパスバルブ装着用穴
38が穿設される。このバイパスバルブ装着用穴
38は、下部に穴位置、ピツチ、穴径寸法、穴径
の方向が機械加工により高精度に出されたインロ
ー穴部39を有しており、その上部は段状に拡径
された拡径穴部40を有している。拡径穴部40
の上部は雌ねじ41が刻設されている。そして、
前記ガイド32は、そのインロー部33をバイパ
スバルブ装着用穴38のインロー穴部39に挿入
されることにより、正確に位置出しされてシリン
ダヘツド3に装着される。なお装着はつぎに述べ
るナツトユニオン42とともに行なわれる。
38が穿設される。このバイパスバルブ装着用穴
38は、下部に穴位置、ピツチ、穴径寸法、穴径
の方向が機械加工により高精度に出されたインロ
ー穴部39を有しており、その上部は段状に拡径
された拡径穴部40を有している。拡径穴部40
の上部は雌ねじ41が刻設されている。そして、
前記ガイド32は、そのインロー部33をバイパ
スバルブ装着用穴38のインロー穴部39に挿入
されることにより、正確に位置出しされてシリン
ダヘツド3に装着される。なお装着はつぎに述べ
るナツトユニオン42とともに行なわれる。
シリンダヘツド3のバイパスバルブ装着用穴3
8とガイド32との間にはさらにナツトユニオン
42が装着される。ナツトユニオン42は、第5
図に示したように、外周に雄ねじ43を有する円
筒状部44とその上部の角ナツト部45とを有し
ている。ナツトユニオン42はその雄ねじ43を
雌ねじ41にねじ込むことにより穴38に螺着さ
れる。ただし、ねじ部41,43間はシールロツ
ク剤でシールされる。また、ガイド32とナツト
ユニオン42との間はOリング37によつてシー
ルされる。ナツトユニオン42の下端の端面は、
ナツトユニオン42が穴38に螺着されたとき、
ガイド32の鍔部34の上面を押圧し、穴38の
段部との間にガイド32の鍔部34を強固に挾持
して固定する。
8とガイド32との間にはさらにナツトユニオン
42が装着される。ナツトユニオン42は、第5
図に示したように、外周に雄ねじ43を有する円
筒状部44とその上部の角ナツト部45とを有し
ている。ナツトユニオン42はその雄ねじ43を
雌ねじ41にねじ込むことにより穴38に螺着さ
れる。ただし、ねじ部41,43間はシールロツ
ク剤でシールされる。また、ガイド32とナツト
ユニオン42との間はOリング37によつてシー
ルされる。ナツトユニオン42の下端の端面は、
ナツトユニオン42が穴38に螺着されたとき、
ガイド32の鍔部34の上面を押圧し、穴38の
段部との間にガイド32の鍔部34を強固に挾持
して固定する。
再びバイパスバルブ8の構造についてである
が、バイパスバルブ8の軸部30にはEリング4
6が嵌着され、ガイド32との相対位置が規制さ
れている。軸部30とガイド32との間にはオイ
ルシール47が設けられ、両者間を摺動を許して
シールしている。軸部30の上端にはプレート状
のアーム48の一端が軸部30とは相対回動不能
に連結されており、アーム48の他端にはボール
ジヨイント49が回動可能に取付けられ、リンク
9に連結され、ダイアフラム装置10へと連結さ
れている。
が、バイパスバルブ8の軸部30にはEリング4
6が嵌着され、ガイド32との相対位置が規制さ
れている。軸部30とガイド32との間にはオイ
ルシール47が設けられ、両者間を摺動を許して
シールしている。軸部30の上端にはプレート状
のアーム48の一端が軸部30とは相対回動不能
に連結されており、アーム48の他端にはボール
ジヨイント49が回動可能に取付けられ、リンク
9に連結され、ダイアフラム装置10へと連結さ
れている。
つぎに上記装置の作用について説明する。ま
ず、機関の低速低負荷時には、ベンチユリ負圧が
小で負圧制御装置13は大気ポート16を閉弁
し、ダイアフラム装置10の負圧室12には吸気
マニホルド14の高負圧が導かれてリンク装置9
を引き、バイパスバルブ8を閉弁側に移動させて
バイパスポート7を閉弁し、ヘリカル型吸気ポー
ト6のみに吸気を流して強力な旋回流を生成せし
め、燃焼室4内のスワールにより燃焼性を向上さ
せる。また、機関の高速高負荷時には、負圧制御
装置13は大気ポート16を開弁し、ダイアフラ
ム装置10の負圧室12を大気に開放してリンク
装置9を押し、バイパスバルブ8を開弁側に回動
させてバイパスポート7を開弁し、バイパスポー
ト7にも吸気を流して充填効率を高め、出力の低
下を防止する。
ず、機関の低速低負荷時には、ベンチユリ負圧が
小で負圧制御装置13は大気ポート16を閉弁
し、ダイアフラム装置10の負圧室12には吸気
マニホルド14の高負圧が導かれてリンク装置9
を引き、バイパスバルブ8を閉弁側に移動させて
バイパスポート7を閉弁し、ヘリカル型吸気ポー
ト6のみに吸気を流して強力な旋回流を生成せし
め、燃焼室4内のスワールにより燃焼性を向上さ
せる。また、機関の高速高負荷時には、負圧制御
装置13は大気ポート16を開弁し、ダイアフラ
ム装置10の負圧室12を大気に開放してリンク
装置9を押し、バイパスバルブ8を開弁側に回動
させてバイパスポート7を開弁し、バイパスポー
ト7にも吸気を流して充填効率を高め、出力の低
下を防止する。
このように各バイパスバルブ8はアクチユエー
タとしてのダイアフラム装置10により一つのリ
ンク装置9を介して同時に回動される。この場
合、バイパスバルブ8の位置および各気筒のバイ
パス通路7に対するバイパスバルブ8間のピツチ
が正規の位置からずれていれば、弁体29のバイ
パス通路7内における位置がバイパス通路7の中
心からずれるとともに、弁の全開の角度が通路7
の長手方向中心線からずれかつ全閉の角度が通路
7の長手方向中心線と直角方向からずれる。しか
し、本考案の装置ではバイパスバルブ8の位置決
めと固定機能が分離され、バイパスバルブ8はガ
イド32に本質的に間隙なく、ただし回動は自由
にして支持され、かつガイド32がインロー部3
3をバイパスバルブ装着用穴38のインロー穴3
9に嵌合させてシリンダヘツド3に装着されるの
で、バイパスバルブ8はガイド32を介して正確
に正規の位置に装着される。したがつて本考案の
装置では、バイパスバルブ8の弁体29はバイパ
ス通路7の中心に位置し、バイパス通路の流れに
ばらつきができ難く、スワールの生成にばらつき
が生じない。また、精度の高い取付けにより当然
に弁体29の開閉角度も正確となるが、このため
に弁全開時に弁体29が全開の位置からずれた位
置に位置することはなくなり、バイパス通路7を
通る吸気の抵抗の増加とそれに伴なう出力低下は
生じない。さらに弁全閉時には弁体29が全閉の
位置からずれた位置に位置することもなく、吸気
は効果的にヘリカル型吸気ポート6に流れ、所期
のスワールの生成が可能になる。
タとしてのダイアフラム装置10により一つのリ
ンク装置9を介して同時に回動される。この場
合、バイパスバルブ8の位置および各気筒のバイ
パス通路7に対するバイパスバルブ8間のピツチ
が正規の位置からずれていれば、弁体29のバイ
パス通路7内における位置がバイパス通路7の中
心からずれるとともに、弁の全開の角度が通路7
の長手方向中心線からずれかつ全閉の角度が通路
7の長手方向中心線と直角方向からずれる。しか
し、本考案の装置ではバイパスバルブ8の位置決
めと固定機能が分離され、バイパスバルブ8はガ
イド32に本質的に間隙なく、ただし回動は自由
にして支持され、かつガイド32がインロー部3
3をバイパスバルブ装着用穴38のインロー穴3
9に嵌合させてシリンダヘツド3に装着されるの
で、バイパスバルブ8はガイド32を介して正確
に正規の位置に装着される。したがつて本考案の
装置では、バイパスバルブ8の弁体29はバイパ
ス通路7の中心に位置し、バイパス通路の流れに
ばらつきができ難く、スワールの生成にばらつき
が生じない。また、精度の高い取付けにより当然
に弁体29の開閉角度も正確となるが、このため
に弁全開時に弁体29が全開の位置からずれた位
置に位置することはなくなり、バイパス通路7を
通る吸気の抵抗の増加とそれに伴なう出力低下は
生じない。さらに弁全閉時には弁体29が全閉の
位置からずれた位置に位置することもなく、吸気
は効果的にヘリカル型吸気ポート6に流れ、所期
のスワールの生成が可能になる。
以上の通りであるから、本考案のヘリカル型吸
気ポートの流路制御装置によるときは、バイパス
バルブの取付精度を向上でき、これを通して内燃
機関の出力の増大、燃費の改善をはかることがで
きるという効果が得られる。
気ポートの流路制御装置によるときは、バイパス
バルブの取付精度を向上でき、これを通して内燃
機関の出力の増大、燃費の改善をはかることがで
きるという効果が得られる。
第1図は本考案のヘリカル型吸気ポートの流路
制御装置のバイパスバルブ近傍の断面図、第2図
は第1図のうち吸気ポートのみを取出して示した
概略平面図、第3図は本考案のヘリカル型吸気ポ
ートの流路制御装置のアクチユエータ側の系統
図、第4図はバイパスバルブとその直近の断面
図、第5図は第4図のバイパスバルブの正面図、
である。 3……シリンダヘツド、6……ヘリカル型吸気
ポート、7……バイパス通路、8……バイパスバ
ルブ、9……リンク装置、10……ダイアフラム
装置、13……負圧制御装置、29……弁体、3
0……軸部、32……ガイド、33……インロー
部、34……鍔部、37……Oリング、38……
バイパスバルブ装着用穴、39……インロー穴
部、40……拡径穴部、41……雌ねじ部、42
……ナツトユニオン、43……雄ねじ部、47…
…オイルシール。
制御装置のバイパスバルブ近傍の断面図、第2図
は第1図のうち吸気ポートのみを取出して示した
概略平面図、第3図は本考案のヘリカル型吸気ポ
ートの流路制御装置のアクチユエータ側の系統
図、第4図はバイパスバルブとその直近の断面
図、第5図は第4図のバイパスバルブの正面図、
である。 3……シリンダヘツド、6……ヘリカル型吸気
ポート、7……バイパス通路、8……バイパスバ
ルブ、9……リンク装置、10……ダイアフラム
装置、13……負圧制御装置、29……弁体、3
0……軸部、32……ガイド、33……インロー
部、34……鍔部、37……Oリング、38……
バイパスバルブ装着用穴、39……インロー穴
部、40……拡径穴部、41……雌ねじ部、42
……ナツトユニオン、43……雄ねじ部、47…
…オイルシール。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ヘリカル型吸気ポート6のバイパス通路7を開
閉するバイパスバルブ8をガイド32に回動可能
に支承し、該ガイド32をシリンダヘツド3のバ
イパスバルブ装着用穴38に装着したヘリカル型
吸気ポートの流路制御装置において、 前記ガイド22の下端部にインロー部33と拡
径された鍔部34とを形成する一方、前記シリン
ダヘツドのバイパスバルブ装着用穴38をインロ
ー穴部39と上部に雌ねじ41が刻設された拡径
穴部40とからなる段付形状とし、 前記ガイドのインロー部33を前記シリンダヘ
ツドのインロー穴部39に嵌合させるとともに、 前記雌ねじ41にねじ止めしたナツトユニオン
42の下端面と前記バイパスバルブ装着用穴38
の段部との間に前記ガイドの鍔部34を挾持する
ことにより、 前記ガイド32をシリンダヘツド3に固定した
ことを特徴とするヘリカル型吸気ポートの流路制
御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7213382U JPS58175128U (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | ヘリカル型吸気ポ−トの流路制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7213382U JPS58175128U (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | ヘリカル型吸気ポ−トの流路制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58175128U JPS58175128U (ja) | 1983-11-22 |
JPS6224763Y2 true JPS6224763Y2 (ja) | 1987-06-24 |
Family
ID=30081707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7213382U Granted JPS58175128U (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | ヘリカル型吸気ポ−トの流路制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58175128U (ja) |
-
1982
- 1982-05-18 JP JP7213382U patent/JPS58175128U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58175128U (ja) | 1983-11-22 |
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