JPS6224425A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6224425A JPS6224425A JP16356985A JP16356985A JPS6224425A JP S6224425 A JPS6224425 A JP S6224425A JP 16356985 A JP16356985 A JP 16356985A JP 16356985 A JP16356985 A JP 16356985A JP S6224425 A JPS6224425 A JP S6224425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- film layer
- cobalt
- mechanical strength
- atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層を記
録層とする磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは、耐久
性に優れた前記の磁気記録媒体に関する。
録層とする磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは、耐久
性に優れた前記の磁気記録媒体に関する。
酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層を記録層とする磁
気記録媒体は、通常、γ−Ｆｅ２Ｏ３、バリウムフェラ
イトなどの酸化鉄強磁性材をスパッタリング等によって
ポリエステルフィルム等の基体上に被着してつくられ、
高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘッド等
との摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受けやすく、耐久
性に劣る。
気記録媒体は、通常、γ−Ｆｅ２Ｏ３、バリウムフェラ
イトなどの酸化鉄強磁性材をスパッタリング等によって
ポリエステルフィルム等の基体上に被着してつくられ、
高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘッド等
との摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受けやすく、耐久
性に劣る。
このため、この種の酸化鉄強磁性材からなる強磁性全屈
薄膜層の表面に種々の保護膜層を設ＧＪるなどして耐久
性を改善することが行われており、たとえば、−酸化ケ
イ素からなる保護膜層を設けることが行われている。（
特開昭５（１８０１０２号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種の酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜
層の表面に一酸化ケイ素からなる保護膜層を設けると、
摩耗が抑制されて耐久性が改善されるものの、未だ機械
的強度は充分に満足できるものではなく、耐久性を充分
に向上することができない。
薄膜層の表面に種々の保護膜層を設ＧＪるなどして耐久
性を改善することが行われており、たとえば、−酸化ケ
イ素からなる保護膜層を設けることが行われている。（
特開昭５（１８０１０２号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種の酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜
層の表面に一酸化ケイ素からなる保護膜層を設けると、
摩耗が抑制されて耐久性が改善されるものの、未だ機械
的強度は充分に満足できるものではなく、耐久性を充分
に向上することができない。
この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、基体上に設けた酸化鉄強磁性材からなる
強磁性薄膜層の表面に、コバルトを主成分とし、かつ酸
素原子をｌＯ〜４０原子％含む、結晶構造が六方稠密構
造の機械的強度に優れた保護膜層を設けることによって
、機械的強度を充分に強化し、耐久性を充分に向上させ
たものである。
されたもので、基体上に設けた酸化鉄強磁性材からなる
強磁性薄膜層の表面に、コバルトを主成分とし、かつ酸
素原子をｌＯ〜４０原子％含む、結晶構造が六方稠密構
造の機械的強度に優れた保護膜層を設けることによって
、機械的強度を充分に強化し、耐久性を充分に向上させ
たものである。
この発明において、酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜
層上に形成される保護膜層は、コバルトもしくはコバル
トを主成分とする合金を、酸素ガス雰囲気中で、スパッ
タリングあるいは真空蒸着もしくはイオンブレーティン
グするなどして形成される。このようにして形成される
保護膜層は、コバルト原子を保護膜層を構成する全構成
原子に対して３６〜９０原子％含有させて主成分とし、
かつ酸素原子を１０〜４０原子％含有させると、六方稠
密構造の結晶構造を有する機械的強度に優れた保護膜層
が形成され、磁気ヘッドに対し六方稠密構造の結晶構造
のＣ軸が摺接して、磁気ヘッドとの凝着を起こさず、機
械的強度が充分に向上されて耐摩耗性が向上されるとと
もに、大きな局所的外力にも強くなり、耐久性が一段と
向上される。
層上に形成される保護膜層は、コバルトもしくはコバル
トを主成分とする合金を、酸素ガス雰囲気中で、スパッ
タリングあるいは真空蒸着もしくはイオンブレーティン
グするなどして形成される。このようにして形成される
保護膜層は、コバルト原子を保護膜層を構成する全構成
原子に対して３６〜９０原子％含有させて主成分とし、
かつ酸素原子を１０〜４０原子％含有させると、六方稠
密構造の結晶構造を有する機械的強度に優れた保護膜層
が形成され、磁気ヘッドに対し六方稠密構造の結晶構造
のＣ軸が摺接して、磁気ヘッドとの凝着を起こさず、機
械的強度が充分に向上されて耐摩耗性が向上されるとと
もに、大きな局所的外力にも強くなり、耐久性が一段と
向上される。
このように、酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層上に
形成される保護膜層は、コバルト原子を保護膜層を構成
する全構成原子に対して３６〜９０原子％含み、かつ酸
素原子を１０〜４０原子％含有するものであることが好
ましく、コバルト原子の含有量が少なすぎると保護膜層
の結晶構造が六方稠密構造をとりにくくなって、機械的
強度に優れた保護膜層が得られず、また酸素原子が少な
すぎると充分に機械的強度に優れた保護膜層が形成され
ず、多すぎると保護層が脆くなって逆に耐久性が劣化す
る。またコバルト原子の含有量が多くなりすぎて、９０
原子％を超えると、この保護膜層が磁性を有し、飽和磁
化量が大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす
ため好ましくない。このように磁性を有するこの保護膜
層の飽和磁化量は、５００ガウス以下にするのが好まし
く、このような飽和磁化量の調整は、酸素原子の含有量
を多くしてコバルトの含有量を９０原子％より少なくし
たり、他の非磁性元素を含をさせるなどの方法で容易に
行える。このような飽和磁化量を低減するための非磁性
元素は、特に限定されないが、コバルトによく固溶する
ものが好ましく使用され、たとえば、（、ｒ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ｍｇｘ Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ−Ｏｓ、、Ｐ Ｌ、Ｒｅ
、、Ｒｕ、Ｓ ｉ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔ ｉ、、Ｖ、、Ｗ、
Ｚｎ等が好適なものとして含有される。
形成される保護膜層は、コバルト原子を保護膜層を構成
する全構成原子に対して３６〜９０原子％含み、かつ酸
素原子を１０〜４０原子％含有するものであることが好
ましく、コバルト原子の含有量が少なすぎると保護膜層
の結晶構造が六方稠密構造をとりにくくなって、機械的
強度に優れた保護膜層が得られず、また酸素原子が少な
すぎると充分に機械的強度に優れた保護膜層が形成され
ず、多すぎると保護層が脆くなって逆に耐久性が劣化す
る。またコバルト原子の含有量が多くなりすぎて、９０
原子％を超えると、この保護膜層が磁性を有し、飽和磁
化量が大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす
ため好ましくない。このように磁性を有するこの保護膜
層の飽和磁化量は、５００ガウス以下にするのが好まし
く、このような飽和磁化量の調整は、酸素原子の含有量
を多くしてコバルトの含有量を９０原子％より少なくし
たり、他の非磁性元素を含をさせるなどの方法で容易に
行える。このような飽和磁化量を低減するための非磁性
元素は、特に限定されないが、コバルトによく固溶する
ものが好ましく使用され、たとえば、（、ｒ、Ｃｕ、Ｇ
ｅ、Ｍｇｘ Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ−Ｏｓ、、Ｐ Ｌ、Ｒｅ
、、Ｒｕ、Ｓ ｉ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔ ｉ、、Ｖ、、Ｗ、
Ｚｎ等が好適なものとして含有される。
このようにして形成される保護膜層は、厚みが０．００
５μｍより薄くては耐久性を充分に向上させることがで
きず、０．０５μｍより厚くするとスペーシングロスが
大きくなって高密度記録が良好に行えないため、Ｑ、０
０５〜０．０５μｍの範囲内の厚みにするのが好ましい
。
５μｍより薄くては耐久性を充分に向上させることがで
きず、０．０５μｍより厚くするとスペーシングロスが
大きくなって高密度記録が良好に行えないため、Ｑ、０
０５〜０．０５μｍの範囲内の厚みにするのが好ましい
。
このように、酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層上に
、コバルトを主成分としかつ酸素原子を１０〜４０原子
％含有する保護膜層を形成すると、機械的強度が強化さ
れて耐久性が充分に向上され、この効果はこの保護膜層
と酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層間に種々の下地
膜層がある場合でも発揮される。また、この保護膜層上
に、さらに潤滑剤層を形成すると、潤滑剤層の潤滑効果
が発揮され、摩擦係数が充分に低減されて、耐久性が一
段と向上される。
、コバルトを主成分としかつ酸素原子を１０〜４０原子
％含有する保護膜層を形成すると、機械的強度が強化さ
れて耐久性が充分に向上され、この効果はこの保護膜層
と酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層間に種々の下地
膜層がある場合でも発揮される。また、この保護膜層上
に、さらに潤滑剤層を形成すると、潤滑剤層の潤滑効果
が発揮され、摩擦係数が充分に低減されて、耐久性が一
段と向上される。
保護膜層上にさらに形成される潤滑剤層は、潤滑剤を、
トルエン、メチルイソブチルケＩ−ン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン等の適当な溶剤に熔解し、熔解
によって得られた溶液中に前記の保護膜層を浸漬するか
、あるいは前記溶液を潤滑剤を含む前記の保護膜層上に
塗布または噴霧するなどの方法で形成され、この他、潤
滑剤を前記の保護膜層上に真空蒸着するなどの方法でも
形成される。使用される潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪
酸の金属塩、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールなどの
脂肪族系潤滑剤、パーフルオロポリエーテル、パーフル
オロアルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカル
ボン酸などのフッ素系潤滑剤、シリコーンオイル、変性
シリコーンオイルなどのシリコーン系潤滑剤およびパラ
フィン、スクアラン、ワンクスなどの炭化水素系潤滑剤
等がいずれも好適なものとして使用される。
トルエン、メチルイソブチルケＩ−ン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン等の適当な溶剤に熔解し、熔解
によって得られた溶液中に前記の保護膜層を浸漬するか
、あるいは前記溶液を潤滑剤を含む前記の保護膜層上に
塗布または噴霧するなどの方法で形成され、この他、潤
滑剤を前記の保護膜層上に真空蒸着するなどの方法でも
形成される。使用される潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪
酸の金属塩、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールなどの
脂肪族系潤滑剤、パーフルオロポリエーテル、パーフル
オロアルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカル
ボン酸などのフッ素系潤滑剤、シリコーンオイル、変性
シリコーンオイルなどのシリコーン系潤滑剤およびパラ
フィン、スクアラン、ワンクスなどの炭化水素系潤滑剤
等がいずれも好適なものとして使用される。
酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層としては、ｒ
Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、バリウムフェライトなどの酸
化鉄強磁性材からなるものが好ましく、これらの酸化鉄
強磁性材からなる強磁性薄膜層は、スパッタリング、真
空蒸着、イオンブレーティング、メッキ等の手段によっ
て基体上に被着形成される。
Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、バリウムフェライトなどの酸
化鉄強磁性材からなるものが好ましく、これらの酸化鉄
強磁性材からなる強磁性薄膜層は、スパッタリング、真
空蒸着、イオンブレーティング、メッキ等の手段によっ
て基体上に被着形成される。
また、基体としては、ポリイミド、ポリエステル、ポリ
アミド、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチ
レン等一般に使用されている高分子成形物からなるプラ
スチックフィルムやプラスチック板、および銅、アルミ
ニウムなどの非磁性金属からなる金属フィルムや金属板
などが使用される。
アミド、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチ
レン等一般に使用されている高分子成形物からなるプラ
スチックフィルムやプラスチック板、および銅、アルミ
ニウムなどの非磁性金属からなる金属フィルムや金属板
などが使用される。
また、磁気記録媒体としては、合成樹脂フィルムを基体
とする磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板
およびガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁
気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構
造の種々の形態を包含する。
とする磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板
およびガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁
気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構
造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
第１図に示すスパッタ処理装置を使用し、表面をアルマ
イト処理したアルミニウム円盤１を、処理槽２内の上部
に配設した基板３の下面に七ノドするとともに、処理槽
２内の下部に配設したステンレスからなる電極４にター
ゲットとして鉄金属５をセットした。次いで、酸素分圧
ｌＸｌ０−５１−−ルおよびアルゴンガス分圧３Ｘ１０
−１−ルの雰囲気下に、電極４の高周波電力密度７ Ｗ
／ ｃＪで２．５分間スパッタリングを行って、厚さ
０．１５μｎ）のＦｅ３Ｏ４からなる強磁性薄膜層Ｑ層
を形成し、その後これを酸化処理してγ−Ｆｅ２Ｏ３か
らなる強磁性薄膜層を形成した。次に、処理槽２内の下
部に配設したステンレスからなる電極４に、鉄金属に代
えて、ターゲットとしてコバルト−オスミウム合金（原
子％７５：２５）５をセントし、処理槽２に取りつけた
ガス導入管６から酸素ガスを、導入量を種々に変えて導
入して、電極４の高周波電力密度７Ｗ／−で０．３分間
スパッタリングを行い、酸素原子を下記第１表に示すよ
うに種々の割合で含有させた厚さ０．０２μｍのコパル
Ｉ・−オスミウム合金からなるスパッタ膜を形成し、第
２図に示すようなアルミニウム円盤１上に、強磁性金属
薄膜層９および保護膜層１０を順次に積層形成した磁気
ディスクＡをつくった。なお、図中７は処理槽２内を減
圧するための排気系であり、８は電極４に高周波を印加
するための高周波電源である。
イト処理したアルミニウム円盤１を、処理槽２内の上部
に配設した基板３の下面に七ノドするとともに、処理槽
２内の下部に配設したステンレスからなる電極４にター
ゲットとして鉄金属５をセットした。次いで、酸素分圧
ｌＸｌ０−５１−−ルおよびアルゴンガス分圧３Ｘ１０
−１−ルの雰囲気下に、電極４の高周波電力密度７ Ｗ
／ ｃＪで２．５分間スパッタリングを行って、厚さ
０．１５μｎ）のＦｅ３Ｏ４からなる強磁性薄膜層Ｑ層
を形成し、その後これを酸化処理してγ−Ｆｅ２Ｏ３か
らなる強磁性薄膜層を形成した。次に、処理槽２内の下
部に配設したステンレスからなる電極４に、鉄金属に代
えて、ターゲットとしてコバルト−オスミウム合金（原
子％７５：２５）５をセントし、処理槽２に取りつけた
ガス導入管６から酸素ガスを、導入量を種々に変えて導
入して、電極４の高周波電力密度７Ｗ／−で０．３分間
スパッタリングを行い、酸素原子を下記第１表に示すよ
うに種々の割合で含有させた厚さ０．０２μｍのコパル
Ｉ・−オスミウム合金からなるスパッタ膜を形成し、第
２図に示すようなアルミニウム円盤１上に、強磁性金属
薄膜層９および保護膜層１０を順次に積層形成した磁気
ディスクＡをつくった。なお、図中７は処理槽２内を減
圧するための排気系であり、８は電極４に高周波を印加
するための高周波電源である。
実施例２
実施例１における保護膜層の形成において、ステンレス
からなる電極４にターゲットとしてコバルト−オスミウ
ム合金に代えてコバルト−クロム合金（原子％７５：２
５）をセットした以外は、実施例１と同様にして、酸素
原子を下記第２表に示すように種々の割合で含有させた
厚さ０．０２μｍのコバルト−クロム合金からなる保護
膜層を形成し、磁気ディスクＡをつくった。
からなる電極４にターゲットとしてコバルト−オスミウ
ム合金に代えてコバルト−クロム合金（原子％７５：２
５）をセットした以外は、実施例１と同様にして、酸素
原子を下記第２表に示すように種々の割合で含有させた
厚さ０．０２μｍのコバルト−クロム合金からなる保護
膜層を形成し、磁気ディスクＡをつくった。
第１表
第２表
比較例１
実施例１において、保護膜層の形成を省いた以外は実施
例１と同様にして磁気ディスクをつくった。
例１と同様にして磁気ディスクをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気ディスクについて
、Ｃ８Ｓテスト（コンタクト・スタート・ストップ試験
）を行い、耐久性をしらべた。
、Ｃ８Ｓテスト（コンタクト・スタート・ストップ試験
）を行い、耐久性をしらべた。
下記第３表はその結果である。
第３表
〔発明の効果〕
上記第３表から明らかなように、この発明で得られた磁
気ディスク（試料２，３，４，７，８゜９）は、いずれ
も試料１，５，６．１０および比較例１で得られた磁気
ディスクに比し、耐久性が格段によく、このことからこ
の発明によって得られる磁気記録媒体は、耐久性が大幅
に向上されていることがわかる。
気ディスク（試料２，３，４，７，８゜９）は、いずれ
も試料１，５，６．１０および比較例１で得られた磁気
ディスクに比し、耐久性が格段によく、このことからこ
の発明によって得られる磁気記録媒体は、耐久性が大幅
に向上されていることがわかる。
第１図はこの発明で使用するスパッタリング装置の１例
を示す概略断面図、第２図はこの発明によって得られた
磁気ディスクの部分拡大断面図である。 ■・・・アルミニウム円盤（基体）、９・・・強磁性金
属薄膜層、１０・・・保護膜層、Ａ・・・磁気ディスク
（磁気記録媒体） 特許出願人 日立マクセル株式会社 第１ス
を示す概略断面図、第２図はこの発明によって得られた
磁気ディスクの部分拡大断面図である。 ■・・・アルミニウム円盤（基体）、９・・・強磁性金
属薄膜層、１０・・・保護膜層、Ａ・・・磁気ディスク
（磁気記録媒体） 特許出願人 日立マクセル株式会社 第１ス
Claims (1)
- １、基体上に、酸化鉄強磁性材からなる強磁性薄膜層を
設け、この強磁性薄膜層の表面に、コバルトを主成分と
し、かつ酸素原子を１０〜４０原子％含む保護膜層を設
けたことを特徴とする磁気記録媒体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16356985A JPS6224425A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16356985A JPS6224425A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224425A true JPS6224425A (ja) | 1987-02-02 |
Family
ID=15776398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16356985A Pending JPS6224425A (ja) | 1985-07-24 | 1985-07-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6224425A (ja) |
-
1985
- 1985-07-24 JP JP16356985A patent/JPS6224425A/ja active Pending
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