JPS62223602A - 表面計測装置 - Google Patents

表面計測装置

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JPS62223602A
JPS62223602A JP6563786A JP6563786A JPS62223602A JP S62223602 A JPS62223602 A JP S62223602A JP 6563786 A JP6563786 A JP 6563786A JP 6563786 A JP6563786 A JP 6563786A JP S62223602 A JPS62223602 A JP S62223602A
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magnetic
electrons
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JP6563786A
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Shigeyuki Hosoki
茂行 細木
Keiji Takada
啓二 高田
Sumio Hosaka
純男 保坂
Toshiyuki Aida
会田 敏之
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、固体表面の計測装置に係り、特に、表面の微
細構造などの三次元の計測ならびに表面電位を測定する
のに好適な表面計測装置に関する。
〔従来の技術〕
走査型トンネル顕微979 (Scannjng Tu
nnel、tngMicroscopy ;以下STM
と省略)なる測定装置がある。(例えばジー・ピニング
らによるフィジカル レビュー レター(Phys、 
Rev、 Lett、) 49&1  pP57〜61
 (1982) 、第5図にその概念を表す略図を示す
、タングステンからなる尖針1の微小な曲率半径(〜1
00人)の突起と試料2の間隔を10人程度という微小
な大きさに保つとき、尖針1と試料2の間に電源5から
数V以下の電圧をかけることによって、尖針1という金
属および試料2.という金属の間には、真空という媒質
をトンネル現象によって電子が流れる。
試料2を圧電素子からなる試料走査装置4によって移動
するとき、トンネル電流を検出器6および増幅器7で検
出増幅し試料2の表面の微細な凹凸に対応してトンネル
電流が一定になるように尖針1を圧電素子からなる尖針
駆動装置3によって上下させる。このとき、例えば尖針
駆動装置3を駆動させる電圧は、試料表面の凹凸の信号
を増幅したものであり、X−Yレコーダー等でY軸に上
配電圧信号、X軸に試料微動量を表示することによって
試料表面上のある直線部分での表面形状を得ることがで
きろ。さらに上記を二次元の領域で走査することによっ
て試料表面の該当する領域での形状を得ろことができる
一方、上記STMの原型とみなされるトポゲラファイナ
−(Topografiner)と称される装置が文献
3に示されている。上記STMが真空トンネル領域であ
るのに対して、この装置では、振動対策の困難さ故に上
記STMにおける金属実計1と試料2間の間隔10人が
達成できず、100〜1000人となったために、電界
放出領域であり、実計1が陰極となり、電界放出させた
トンネル電子を陽極たる試料2に入射さ仕ている。
すなわち、STMでは実計1と試料2間の真空ギャップ
が130Å以下の場合であり、実計1と試料2に印加す
る電圧の極性によらないで行われるのに対して、トポゲ
ラファイナ−では、上記真空ギャップが100〜100
0人程度であり、程度1には必ず負の極性を印加するよ
うにすなわち実計1゜を陰極として行われる。試料走査
装置および走査像のとり方に関してはSTMと同等であ
る。
分解能に関しては、STMおよびトポゲラファイナ−と
もに、試料表面に垂直な方向では1と2間の真空ギャッ
プの1/Zoo程度、試料表面内の二次元では真空ギャ
ップと同程度の値がそれぞれ大よその限界と考えられて
いる。すなわち、上記の従来技術では分解能を支配する
ものは実計1と試料2間の真空ギャップであり、分解能
を向上させようとすれば、〜10人という微小ギャップ
にしなければならないし、逆に〜1000人という比較
的大きいギャップにすると、分解能の低下を余儀なくさ
れた。
一方、実用上計測しようとする試料の表面の凹凸は、〈
10人オーダーであることは少なく、当然のことなから
]−00〜1000人におよぶ場合が多数ある。これら
の表面を例えばSTMで計測することは以下の理由によ
って殆ど不可能である。すなわち、STMにおける試料
表面に垂直な(Z)方向での大よその分解能は〜1/1
o人であることを述べたが、それは、Z方向で1/10
Å以下の安定性をもって圧電素子を制御しているためで
ある。その制御を満足させるためには、尖針駆動装@3
の駆動範囲を数10人以内にしなければならない。した
がって、試料の走査によって試料表面にある〜1ooo
人の段差に実計駆動装置3が追従して、なおかつ、1/
1o人の分解能をもっことは非常に困難である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記で詳細に説明したように、従来技術では、実計と試
料間の真空ギャップを大きくすると(トポゲラファイナ
−)、分解能が悪くなり、分解能を向上させるためには
真空ギャップを小さくする(STM)I、かなかった。
本発明の目的は、実用上の観点から大きい真空ギャップ
に対して分解能を向上させる手段を提供することにある
〔問題点を解決するための手段〕
上記真空ギャップを大きくすることは、既に述べたよう
にトンネル現象の形態としては、実計がらの電界放出電
子を用いることになる。
第6図の略図に示すように、電界放出電子針1から陽極
たる試料2に放出される放射角αは、実計の金属の種類
、実計の先端形状等に依存するが、一般に1 rad程
度である。したがって、実計1と試料2間の真空ギャッ
プdと、試料2における放射電子(電流)分布の広がり
noは、大よそ等しい。dとして1μmのギャップを定
めると0〜1μmであり、前記トポグラフッイナーの例
で述べたように試料表面上の分解能としては、〜1μm
しか得られないつ そこで、Do を小さくする方法として何らかの電子に
対するレンズ作用を応用して、実計1から〜1 rad
程度に広がって放射された電子を集束させることが考え
られる。この場合、実計1と試料2間の真空ギャップの
近傍には電場を乱すようなどんな電極があってもならな
いから電子レンズとして静電型レンズは不適当であり、
磁界型レンズを用いなけれなならない。また通常の電子
光学系では電子ビ・−11の光路の最もレンズ作用を必
要とする領域で強い磁界がかけられるが、上記静電レン
ズに対するのと同様の理由および、〜1μmという微小
ギャップから従来用いられているような磁極の構成は不
可能である。
第1図は、本発明の原理を示す図で、実計1の外周空間
に導線で作るコイル8を設け、直流の電流を通ずること
により実計の軸方向に平行な磁界を発生させる。試料2
に対して実計1に負の適当な電圧を印加することにより
実計1から電界放出電子を放射させる。コイル8に通電
しないときの放射領域Doに対し、通電したときの領域
はDlと小さくなる。この場合、1〜2間の真空ギャッ
プへの電界の影響を小さくするため、コイル8の下端は
実計1よりも真空ギャップ側にあってはならない。Dの
大きさとしては、実計先端の曲率半径が〜5o人のとき
Doすなわち真空ギャップの〜1/10程度が得られる
〔作用〕
本発明における磁界の集束作用について以下に詳しく説
明する。一般に磁場中を運動する電子はローレンツ力に
よって磁束に巻き付くように運動し、その回転半径Rは
、Roc−で表される。こJ「 こでBは磁束密度。したがって電子のエネルギーが一定
であれば磁束密度が大きい程小さい回転半径をもつ。例
として第2図に示すように、先端の曲率半径(1)とし
て大きい500A程度の実計1が陽極と1μm程度の真
空ギャップで対向していて、100vの電圧で電子が引
き出されるとき。
実計の先端のほぼ半球面から放出された電子は、初速か
ら数Vないし数10v程度に加速される領域で磁場によ
る影響を強くうけて磁束と平行方向に進行方向を変える
。その後、磁束密度の低下と電子の運動エネルギーの増
大によって再び広がる。
(実際には、電子は回転しながら進むが、図ではZ座標
でもつ電子の動径でのみ示しである。)この集束作用に
よる集束の形態は、実計の曲率半径。
磁束密度、itt界放射電圧および真空ギャップのそれ
ぞれの値によって異なるが、試料面上での広がりDIは
、実計の先端部直径の2倍程度すなわち上記例で200
0人程度程度ることができる。
この集束作用を強めるためには、試料に近づく程加速さ
れる電子のエネルギーに合せて磁束密度を大きくするこ
とである。すなわち、第3図に示すように試料2の近傍
で磁束を集中させることによって試料2上での広がりD
zとしてさらに小さな値とすることができる。第2図と
同様の配置で、Dzとして50人近傍まで集束すること
ができる。
すなわち、実計の先端部曲率半径(r)が〜50人であ
るとき、Dzとして〜10人が得られる。
この値は、真空ギャップを1μm程度にしてもSTMと
同様の分解能が得られることを示している。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第4図により説明する。円柱
状の永久磁石10の中心部に実計1の支持棒9を設け、
この支持棒9および永久磁石10は、圧W&素子からな
る実計駆動装置3と結合させる。非磁性体からなる試料
台13は、実計1と垂直をなすように実計駆動装置3と
結合する(図中省略)。試料2は試料台13上に固定し
実計】と1μm程度の真空ギャップを保つようにする。
試料台13の実計に対向する位置の試料2と接する側で
円錐形をなし、反対側で円柱状のパーマロイなどの強磁
性体からなる磁極11および円柱状部分の外周に絶縁被
覆導線からなるコイル12を配置し、直流電源(図示せ
ず)からコイル12に通電して磁極11の作る磁界が試
料2の表面に垂直な方向となるようにする。この場合、
永久磁石1oの作る実計側の磁極と、磁極11の円錐状
先端部の磁極は互に反対極性となるようにコイル12に
通電する。
本実施例において、電源5から実計1および試料2の間
に電圧を印加(実計側に負)して電界出電子を放射させ
るとき、その集束作用は第3図で説明したようになる。
すなわち、永久磁石10からの磁束は、電磁石たる磁極
11の円錐状部分の先端に集中するため、試料表面2に
入射する電子は、試料表面に近づくほど強い集束作用を
うける。
実計1と試料2間の真空ギャップおよび試料2の厚さが
異なる場合、試料表面上で集束電子の径が最も小さくな
るように電源によってコイル12への通電電流値を制御
する。尚磁極11の円錐状部分の先端での磁束密度が飽
和することがあるので、磁極11はできるだけ飽和磁束
密度の高い物質を選択する方が良い。なお、試料走査装
置については従来と同様であるので省略する。
本実施例で、先端の曲率半径50人の実計を用いて、実
計1と試料2間の真空ギャップを1μm程度に設定した
とき、試料面内の分解能として前記の如くおよそ10人
が得られる。試料面に垂直な方向の分解能としては、は
ぼ同じloAN度である。
本実施例を用いて、従来のSTMと同様の表面形状WA
察2表面電位測定が可能であり、真空ギャップが大きい
だけ実用性が高い。
〔発明の効果〕
以上、詳述したように本発明によれば、真空ギャップを
1μm程度の大きい間隔に保っても、試料面内での分解
能を真空ギャップの1/10〜1、 / 100とする
ことができ、従来のSTMで10人程度の真空ギャップ
に保たなければ実現できなかった分解能を得ることがで
きる。
また真空ギャップを1μmという大きい間隔に保てると
いうことは、実計駆動装置の駆動範囲を、例えば0.1
〜1μmという大きい値に予め設定することができ、そ
のため実用上、試料表面の凹凸2段差等のwt察が容易
となり、対象とする試料の種類が拡大される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の原理を示す概念図、第2図および第
3図は本発明の詳細な説明するための概念図、第4図は
本発明の一実施例を示す縦断面図、第5図は従来例の原
理を示す概念図、第6図は電界放出電子の放射角分布を
説明する説明図。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、尖針と、この尖針に対向して配置した試料および試
    料表面に平行な面内を二次元に尖針と試料を相対的に走
    査する装置、尖針の軸方向に磁場を加える手段、および
    尖針から試料に放出される電子流を検出する信号検出手
    段を具備してなることを特徴とする表面計測装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、尖針か
    ら放出される電子流を一定に保つように試料表面と尖針
    間の間隙を調整する尖針駆動装置を具備することを特徴
    とする表面計測装置。
JP6563786A 1986-03-26 1986-03-26 表面計測装置 Expired - Lifetime JPH0762601B2 (ja)

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JP6563786A JPH0762601B2 (ja) 1986-03-26 1986-03-26 表面計測装置

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JP6563786A JPH0762601B2 (ja) 1986-03-26 1986-03-26 表面計測装置

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JPS62223602A true JPS62223602A (ja) 1987-10-01
JPH0762601B2 JPH0762601B2 (ja) 1995-07-05

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0161604U (ja) * 1987-10-13 1989-04-19
JPH01127903A (ja) * 1987-11-12 1989-05-19 Jeol Ltd 試料移動機構を備えた走査トンネル顕微鏡
JPH01130460A (ja) * 1987-11-16 1989-05-23 Hitachi Ltd イオン加工装置
JPH0249101A (ja) * 1988-08-11 1990-02-19 Hitachi Ltd 微小距離測定方法および装置
JPH0290003A (ja) * 1988-09-28 1990-03-29 Hitachi Ltd 磁気ヘッドスライダ浮上量測定装置
JPH03115903A (ja) * 1989-09-29 1991-05-16 Kao Corp 表面形状の測定方法および装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0161604U (ja) * 1987-10-13 1989-04-19
JPH01127903A (ja) * 1987-11-12 1989-05-19 Jeol Ltd 試料移動機構を備えた走査トンネル顕微鏡
JPH01130460A (ja) * 1987-11-16 1989-05-23 Hitachi Ltd イオン加工装置
JPH0249101A (ja) * 1988-08-11 1990-02-19 Hitachi Ltd 微小距離測定方法および装置
JPH0290003A (ja) * 1988-09-28 1990-03-29 Hitachi Ltd 磁気ヘッドスライダ浮上量測定装置
JPH03115903A (ja) * 1989-09-29 1991-05-16 Kao Corp 表面形状の測定方法および装置

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