JPS62219610A - エツチング装置 - Google Patents
エツチング装置Info
- Publication number
- JPS62219610A JPS62219610A JP61062398A JP6239886A JPS62219610A JP S62219610 A JPS62219610 A JP S62219610A JP 61062398 A JP61062398 A JP 61062398A JP 6239886 A JP6239886 A JP 6239886A JP S62219610 A JPS62219610 A JP S62219610A
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- Japan
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- etching
- aluminum foil
- carbon electrodes
- carbon
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- Granted
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Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は電解コンデンサ用アルミニウム箔を連続的にエ
ツチングするためのエツチング装置に関するものである
。
ツチングするためのエツチング装置に関するものである
。
[従来の技術]
一般に、電解コンデンサ用アルミニウム箔は静電容量を
増大させるために適当な電解液中でその表面をエツチン
グにより増大している。
増大させるために適当な電解液中でその表面をエツチン
グにより増大している。
このエツチング方法は電解コンデンサの用途により中高
圧用(中高電圧用)と低圧用(低電圧用)とに大別され
る。特に、低圧用電解コンデンサにおける低圧用エツチ
ング箔では、エツチングにより形成される凹凸は微細な
ものほど良いために、エツチング箔をエツチング後に速
かに電解液中から引上げないと、微細な凹凸が電解液中
で溶解し、粗面化率が低下してしまうものである。
圧用(中高電圧用)と低圧用(低電圧用)とに大別され
る。特に、低圧用電解コンデンサにおける低圧用エツチ
ング箔では、エツチングにより形成される凹凸は微細な
ものほど良いために、エツチング箔をエツチング後に速
かに電解液中から引上げないと、微細な凹凸が電解液中
で溶解し、粗面化率が低下してしまうものである。
そこで、エツチング箔をエツチング後に速かに電解液中
から引−ヒげろように構成したエツチング装置として、
特公昭42−21410号「電解蓄電器用アルミニウム
箱のエツチング方法」がすでにある。第2図に示すよう
に、このエツチング装置(1)は適当な電解液(2)を
満した電解J1!(3)内に一対のカーボン電極(4)
、(5)を相対向させて縦設し、給電ローラ(6)、(
7)を電解槽(3)外に配設し、また電解槽(3)内に
は中間ローラ(8)、(9)を配設し、給電ローラ(6
)、(7)とカーボン電極(4)、(5)との間に電源
(10)を接続し、アルミニウム箔(11)を第1の給
電ローラ(6)側から導入し、第1の中間ローラ(8)
および第2の中間ローラ(9)を介し、カーボン電極(
4)、(5)間を通′通させ、第2の給電ローラ(7)
′側から導出するようにしたものである。このエツチン
グ装置(1)におけるアルミニウム箔(11)のエツチ
ングは、カーボン電極(4)、(5)の下端間に進入し
た、時点からエツチングが開始し、その上端に向けて移
行する間にエツチングが進行し、電解液(2)から引上
げられると終了することになる。エツチング用の電源と
しては交流電源、直流電源のほか、パルス電源あるいは
これらの組合せ電源などがある。また、カーボン電極(
4)、(5)には余分な電流が流れないようにその背面
、底面あるいは側面などに電流を遮断するための絶縁板
(12)が設けられることもある。
から引−ヒげろように構成したエツチング装置として、
特公昭42−21410号「電解蓄電器用アルミニウム
箱のエツチング方法」がすでにある。第2図に示すよう
に、このエツチング装置(1)は適当な電解液(2)を
満した電解J1!(3)内に一対のカーボン電極(4)
、(5)を相対向させて縦設し、給電ローラ(6)、(
7)を電解槽(3)外に配設し、また電解槽(3)内に
は中間ローラ(8)、(9)を配設し、給電ローラ(6
)、(7)とカーボン電極(4)、(5)との間に電源
(10)を接続し、アルミニウム箔(11)を第1の給
電ローラ(6)側から導入し、第1の中間ローラ(8)
および第2の中間ローラ(9)を介し、カーボン電極(
4)、(5)間を通′通させ、第2の給電ローラ(7)
′側から導出するようにしたものである。このエツチン
グ装置(1)におけるアルミニウム箔(11)のエツチ
ングは、カーボン電極(4)、(5)の下端間に進入し
た、時点からエツチングが開始し、その上端に向けて移
行する間にエツチングが進行し、電解液(2)から引上
げられると終了することになる。エツチング用の電源と
しては交流電源、直流電源のほか、パルス電源あるいは
これらの組合せ電源などがある。また、カーボン電極(
4)、(5)には余分な電流が流れないようにその背面
、底面あるいは側面などに電流を遮断するための絶縁板
(12)が設けられることもある。
[発明が解決しようとする問題点]
このようなエツチング装置(1)において、アルミニウ
ム箔(11)のエツチングは上述したようにアルミニウ
ム箔(11)がカーボン電極(4)、(5)の下端間に
進入した時点で開始するが、カーボン電極(4)、(5
)の下端間では図示の破線にて示すようにエツチング電
流の漏れ(LC)が生じており、当該位置では所定の電
流密度より著しく低い電流密度でエツチングが開始して
しまうことになる。このため、アルミニウム箔(11)
は不均一な溶解を起こし、目的とする高粗面化率を有す
る電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を得ることがで
きないものであった。
ム箔(11)のエツチングは上述したようにアルミニウ
ム箔(11)がカーボン電極(4)、(5)の下端間に
進入した時点で開始するが、カーボン電極(4)、(5
)の下端間では図示の破線にて示すようにエツチング電
流の漏れ(LC)が生じており、当該位置では所定の電
流密度より著しく低い電流密度でエツチングが開始して
しまうことになる。このため、アルミニウム箔(11)
は不均一な溶解を起こし、目的とする高粗面化率を有す
る電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を得ることがで
きないものであった。
[問題点を解決するための手段]
しかるに、本発明は上述した電流の漏れを完全に防止し
、高粗面化率を有する電解コンデンサ用アルミニウム箔
を得ることが可能なエツチング装置を提供するものであ
り、具体的には相対向する−・対のカーボン電極のそれ
ぞれの下端に漏れ電流遮断用絶縁体を設けると共に、同
胞縁体の先端が互いに接触し合うような位置関係に配置
したものである。
、高粗面化率を有する電解コンデンサ用アルミニウム箔
を得ることが可能なエツチング装置を提供するものであ
り、具体的には相対向する−・対のカーボン電極のそれ
ぞれの下端に漏れ電流遮断用絶縁体を設けると共に、同
胞縁体の先端が互いに接触し合うような位置関係に配置
したものである。
[実施例]
以下、本発明に係るエツチング装置(IA)を第1図に
もとづいて説明する。
もとづいて説明する。
説明に先立って、第2図に示した従莱例と同一の箇所に
ちいては同二符萼を付す。そして、本発明に都いては特
に改mした箇所についてのみ説明、、′、、′
□ を加えるものとする。
ちいては同二符萼を付す。そして、本発明に都いては特
に改mした箇所についてのみ説明、、′、、′
□ を加えるものとする。
第1図に呆すように、一対のカーボン電極(4□
)、(5)の下端にカーボン電極(4)、(5)間以外
への電流の漏れを防止するために、それ装置する。この
漏れ電流遮断−絶縁体(13)、(14゛)は画先−が
互いに接触し合うような位−量体、例えば重なり合うよ
うな長さをもって配置さゎ誌。iゎ電流遮断□絶ii採
(13)、(□4)としては電解Jl(3)内に満され
た電解液(2)夏反応しない材料、例えば樹脂材あるい
はゴム材ト などからなり、可撓性を有することが好ましい。
への電流の漏れを防止するために、それ装置する。この
漏れ電流遮断−絶縁体(13)、(14゛)は画先−が
互いに接触し合うような位−量体、例えば重なり合うよ
うな長さをもって配置さゎ誌。iゎ電流遮断□絶ii採
(13)、(□4)としては電解Jl(3)内に満され
た電解液(2)夏反応しない材料、例えば樹脂材あるい
はゴム材ト などからなり、可撓性を有することが好ましい。
13)、(14)の先端は単に接触し合っている析態に
あるので、アルミニウム箔(11)は第1図に示すよう
に画先端を押し退けて進行する。したがって、アルミニ
ウム!(11)のエツチングに際してカーボン電極(4
)、(5)の下端からの電流あ漏れは生じなくなる。
あるので、アルミニウム箔(11)は第1図に示すよう
に画先端を押し退けて進行する。したがって、アルミニ
ウム!(11)のエツチングに際してカーボン電極(4
)、(5)の下端からの電流あ漏れは生じなくなる。
次に□、i体的なエツチングとその効果について述べる
。電解液(2)の組成を、HCeが0.5藺、Aeci
sが0.5M、H,SO2が0.05i%H3PO4が
0.5Mとし、液温60℃でJかつ電流密度が400m
A/cm2で、純度が9′9.96%のナルミニウ云箔
(11)をエツチングする。次に、エツチングしたアル
ミニラ云箔(11)をアジピン酸アンモニウム系水溶液
にて50Vの電圧を印加して化成する。このようにして
製造された化成箔(実施例)と従来例一ついて静電容量
と折曲強度との対比を第1門に示す。
。電解液(2)の組成を、HCeが0.5藺、Aeci
sが0.5M、H,SO2が0.05i%H3PO4が
0.5Mとし、液温60℃でJかつ電流密度が400m
A/cm2で、純度が9′9.96%のナルミニウ云箔
(11)をエツチングする。次に、エツチングしたアル
ミニラ云箔(11)をアジピン酸アンモニウム系水溶液
にて50Vの電圧を印加して化成する。このようにして
製造された化成箔(実施例)と従来例一ついて静電容量
と折曲強度との対比を第1門に示す。
なお、従来例は第2図に示した従来のエツチング装置に
より上述したエツチング条件および化成条件により得た
ものである。
より上述したエツチング条件および化成条件により得た
ものである。
第1表から判るように1本発明によって製造されたエツ
チング箔は従来例より静電容量が大きく、また折曲強度
が大きいものを得ることができるものである。
チング箔は従来例より静電容量が大きく、また折曲強度
が大きいものを得ることができるものである。
[効果]
以上に述べたように、本発明においてはエツチング装置
の相対向する一対のカーボン電極のそれぞれの下端に漏
れ電流遮断用絶縁体を配置したので、従来のように漏れ
電流によるアルミニウム箱の不均一な溶解を防止するこ
とができるものである。このため、高粗面化率を有する
エツチング箔を提供することができるものである。
の相対向する一対のカーボン電極のそれぞれの下端に漏
れ電流遮断用絶縁体を配置したので、従来のように漏れ
電流によるアルミニウム箱の不均一な溶解を防止するこ
とができるものである。このため、高粗面化率を有する
エツチング箔を提供することができるものである。
′s1図は本発明に係るエツチング装置を示す図、第2
図は従来のエツチング装置を示す図である。 図中、(1)、(IA)・・・エツチング装置、 (
2)・・・電解液、 (3)・・・電解槽、
(4)、、(5)・・・カーボン電極、(6)、(7)
、(8)、<9) ・・・ローラ、(10)・・・電
源、 (11)・・・アルミニウム箔、 (
12)・・・絶縁板、 (13)、(14)・・・
漏れ電流遮断用絶縁体。 特許出願人 エルナー株式会社 転 法
図は従来のエツチング装置を示す図である。 図中、(1)、(IA)・・・エツチング装置、 (
2)・・・電解液、 (3)・・・電解槽、
(4)、、(5)・・・カーボン電極、(6)、(7)
、(8)、<9) ・・・ローラ、(10)・・・電
源、 (11)・・・アルミニウム箔、 (
12)・・・絶縁板、 (13)、(14)・・・
漏れ電流遮断用絶縁体。 特許出願人 エルナー株式会社 転 法
Claims (1)
- (1)電解液を満した電解槽内に一対のカーボン電極を
縦設し、両カーボン電極の下端の間隙からアルミニウム
箔を導入してエッチングを開始し、アルミニウム箱の電
解液からの引上げに伴ってエッチングを終了するように
した連続エツチング装置において、カーボン電極のそれ
ぞれの下端に漏れ電流遮断用絶縁体を同漏れ電流遮断用
絶縁体の先端が互いに接触し合うような関係に配置した
ことを特徴としたエッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61062398A JPS62219610A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61062398A JPS62219610A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62219610A true JPS62219610A (ja) | 1987-09-26 |
JPH0240757B2 JPH0240757B2 (ja) | 1990-09-13 |
Family
ID=13198989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61062398A Granted JPS62219610A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | エツチング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62219610A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS648299A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Device for etching aluminum foil for electrolytic capacitor |
JPS648300A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Etching device |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP61062398A patent/JPS62219610A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS648299A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Device for etching aluminum foil for electrolytic capacitor |
JPS648300A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Etching device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0240757B2 (ja) | 1990-09-13 |
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