JPS62217980A - スキ−用滑走面材とその製造方法 - Google Patents
スキ−用滑走面材とその製造方法Info
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- JPS62217980A JPS62217980A JP6079386A JP6079386A JPS62217980A JP S62217980 A JPS62217980 A JP S62217980A JP 6079386 A JP6079386 A JP 6079386A JP 6079386 A JP6079386 A JP 6079386A JP S62217980 A JPS62217980 A JP S62217980A
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- Japan
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- molecular weight
- ultra
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- polyolefin resin
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、超高分子ポリオレフィン系樹脂（分子量１
００万以上）、並びに高分子オレフィン系樹脂（分子量
１０〜３０万）の両者の長所を具備するようにしたスキ
ー用滑走面材に関するものである。
００万以上）、並びに高分子オレフィン系樹脂（分子量
１０〜３０万）の両者の長所を具備するようにしたスキ
ー用滑走面材に関するものである。
〈従来の技術及びその問題点〉
スキー用滑走面材として、従来から汎用されでいるポリ
オレフィン系樹脂のシートには、その分子量が、１０〜
３０万程度の高分子ポリオレフィン系樹脂を使用したシ
ートと、分子量が１００万以上の超高分子ポリオレフィ
ン系樹上を使用したシートの２種類が存在するが、その
長所と短所を列記すると次の通りである。
オレフィン系樹脂のシートには、その分子量が、１０〜
３０万程度の高分子ポリオレフィン系樹脂を使用したシ
ートと、分子量が１００万以上の超高分子ポリオレフィ
ン系樹上を使用したシートの２種類が存在するが、その
長所と短所を列記すると次の通りである。
（１）高分子ポリオレフィン系樹脂製シート比較的低温
（１２０’Ｃ前後）で軟化するので、押し出し成型が可
能で、大量加工（生産）が可能である。また、ワックス
の透過（浸透）性も良好である。しかし、非常に傷が付
き易い。
（１２０’Ｃ前後）で軟化するので、押し出し成型が可
能で、大量加工（生産）が可能である。また、ワックス
の透過（浸透）性も良好である。しかし、非常に傷が付
き易い。
（２）超高分子ポリオレフィン系樹脂製シート傷が付き
難い長所を有するが、軟化温度が高い（２００℃以上）
ので、押し出し成型が不可能で、ブロックをスライス加
工しなければならす、大量加工（生産）か不可能である
。また、ワックスの透過（浸透）−ａも良くない。
難い長所を有するが、軟化温度が高い（２００℃以上）
ので、押し出し成型が不可能で、ブロックをスライス加
工しなければならす、大量加工（生産）か不可能である
。また、ワックスの透過（浸透）−ａも良くない。
しかし、これら両者の樹脂を単に加温・溶融してシート
状に加工すると、軟化温度に差があり過ぎるので、融点
の低い高分子ポリオレフィン系樹脂が劣化して良質なシ
ートか得られない。
状に加工すると、軟化温度に差があり過ぎるので、融点
の低い高分子ポリオレフィン系樹脂が劣化して良質なシ
ートか得られない。
く問題点を解決するための手段〉
そこでこの発明は、超高分子ポリオレフィン系樹脂（分
子量１００万以上）の顆粒を使用して、これを無理に溶
融せす、溶融高分子オレフィン系樹脂（分子量１０〜３
ｏ万）内に単に均一に分散させたスキー用滑走面材（第
１発明）と、超高分子ポリオレフィン系樹脂（分子量１
００万以上）の顆粒を、溶融高分子オレフィン系樹脂（
分子量１０〜３０万）内に均一に混練しで、押し出し成
型することによって、超高分子ポリオレフイシ系樹脂（
分子量１００万以上）の顆粒が、高分子オレフィン系樹
脂（分子ｆｉｌ○〜３０万）内に均一に分散しているス
キー用滑走面材の製造方法（第２発明）を提供して前記
した欠点の解消を図るものである。
子量１００万以上）の顆粒を使用して、これを無理に溶
融せす、溶融高分子オレフィン系樹脂（分子量１０〜３
ｏ万）内に単に均一に分散させたスキー用滑走面材（第
１発明）と、超高分子ポリオレフィン系樹脂（分子量１
００万以上）の顆粒を、溶融高分子オレフィン系樹脂（
分子量１０〜３０万）内に均一に混練しで、押し出し成
型することによって、超高分子ポリオレフイシ系樹脂（
分子量１００万以上）の顆粒が、高分子オレフィン系樹
脂（分子ｆｉｌ○〜３０万）内に均一に分散しているス
キー用滑走面材の製造方法（第２発明）を提供して前記
した欠点の解消を図るものである。
この発明に使用する超高分子オレフィン系樹脂（分子量
１００万以上）の顆粒は、通常の方法によって製造する
ことができるが、５０〜］○Ｏｕ程度の粒度を有する顆
粒が最も適しでいる。
１００万以上）の顆粒は、通常の方法によって製造する
ことができるが、５０〜］○Ｏｕ程度の粒度を有する顆
粒が最も適しでいる。
また、高分子オレフィン系樹脂（分子量ｉ１０〜３０万
）内に分散させる超高分子オレフィン系樹脂（分子量１
００万以上）の使用比率は、］：０．１〜］の範囲であ
る。
）内に分散させる超高分子オレフィン系樹脂（分子量１
００万以上）の使用比率は、］：０．１〜］の範囲であ
る。
く英 施 例〉
高密度ポリエチレン（分子量１１０〜３ｏ万）５０部を
加熱・溶融し、これに超高分子ポリエチレン（分子量１
０ｏ〜１３０万）の顆粒を（予じめ５０〜］○Ｏｕに線
通したもの）を３０部添加して充分混練し、常法により
シート状に押し出し成型して、スキー用滑走面材を得た
。このスキー用滑走面材は、従来の高密度ポリエチレン
に比較して傷が付き難く、超高分子ポリエチレンに近い
性質を有していた。また、このスキー用滑走面材（シー
ト）の表面は、高密度ポリエチレンの連続相内に、超高
分子ポリエチレンの顆粒が均一に分散、かつ突出しでい
た。そして、この表面にワックスを塗布したところ、突
出しでいる超高分子ポリエチレンの顆粒の間隙にワック
スが付着すると共に、連続相の高密度ポリエチレン内に
もワックスが充分透過（浸透）していることが判明した
。
加熱・溶融し、これに超高分子ポリエチレン（分子量１
０ｏ〜１３０万）の顆粒を（予じめ５０〜］○Ｏｕに線
通したもの）を３０部添加して充分混練し、常法により
シート状に押し出し成型して、スキー用滑走面材を得た
。このスキー用滑走面材は、従来の高密度ポリエチレン
に比較して傷が付き難く、超高分子ポリエチレンに近い
性質を有していた。また、このスキー用滑走面材（シー
ト）の表面は、高密度ポリエチレンの連続相内に、超高
分子ポリエチレンの顆粒が均一に分散、かつ突出しでい
た。そして、この表面にワックスを塗布したところ、突
出しでいる超高分子ポリエチレンの顆粒の間隙にワック
スが付着すると共に、連続相の高密度ポリエチレン内に
もワックスが充分透過（浸透）していることが判明した
。
このスキー用滑走面材を用いたスキーを長時間連続して
使用したところ、超高分子ポリエチレンの顆粒が幾分剥
落し、凹凸が生じた部位も認められたが、スキー用滑走
面材としで使用するにはなんら支障がなく、前記凹凸に
は、ワックスを塗布した場合に、ワックスの付着・保持
を高める効果が認められた。
使用したところ、超高分子ポリエチレンの顆粒が幾分剥
落し、凹凸が生じた部位も認められたが、スキー用滑走
面材としで使用するにはなんら支障がなく、前記凹凸に
は、ワックスを塗布した場合に、ワックスの付着・保持
を高める効果が認められた。
〈発明の効果〉
以上のようにこの発明に係るスキー用滑走面材とその製
造方法によれば、超高分子ポリオレフィン系樹脂と高分
子ポリオレフィン系樹脂の長所を兼ね備えた、傷が付き
難く、しかもワックスの透過（浸透）性が良好なスキー
用滑走面材が容易に得られるという効果を有する。
造方法によれば、超高分子ポリオレフィン系樹脂と高分
子ポリオレフィン系樹脂の長所を兼ね備えた、傷が付き
難く、しかもワックスの透過（浸透）性が良好なスキー
用滑走面材が容易に得られるという効果を有する。
Claims (2)
- （１）超高分子ポリオレフィン系樹脂（分子量１００万
以上）の顆粒が、高分子オレフィン系樹脂（分子量１０
〜３０万）内に均一に分散していることを特徴とするス
キー用滑走面シート。 - （２）超高分子ポリオレフィン系樹脂（分子量１００万
以上）の顆粒を、溶融高分子オレフィン系樹脂（分子量
１０〜３０万）内に均一に混練して、押し出し成型する
ことを特徴とするスキー用滑走面シートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6079386A JPS62217980A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | スキ−用滑走面材とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6079386A JPS62217980A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | スキ−用滑走面材とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62217980A true JPS62217980A (ja) | 1987-09-25 |
Family
ID=13152541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6079386A Pending JPS62217980A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | スキ−用滑走面材とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62217980A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5069803A (en) * | 1989-04-27 | 1991-12-03 | Dowa Mining Co., Ltd. | Synthetic resin composition containing gallium particles and use thereof in the glide surfacing material of skis and other applications |
| US5189130A (en) * | 1990-01-19 | 1993-02-23 | Yamaha Corporation | Snow ski base material and ski base manufacture |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5241264B2 (ja) * | 1973-05-21 | 1977-10-17 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP6079386A patent/JPS62217980A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5241264B2 (ja) * | 1973-05-21 | 1977-10-17 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5069803A (en) * | 1989-04-27 | 1991-12-03 | Dowa Mining Co., Ltd. | Synthetic resin composition containing gallium particles and use thereof in the glide surfacing material of skis and other applications |
| US5189130A (en) * | 1990-01-19 | 1993-02-23 | Yamaha Corporation | Snow ski base material and ski base manufacture |
| US5356573A (en) * | 1990-01-19 | 1994-10-18 | Yamaha Corporation | Snow ski base material and ski base manufacture |
| AT403123B (de) * | 1990-01-19 | 1997-11-25 | Yamaha Corp | Verfahren zur herstellung eines ski-laufflächenbelages |
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