JPS62216324A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPS62216324A JPS62216324A JP61058223A JP5822386A JPS62216324A JP S62216324 A JPS62216324 A JP S62216324A JP 61058223 A JP61058223 A JP 61058223A JP 5822386 A JP5822386 A JP 5822386A JP S62216324 A JPS62216324 A JP S62216324A
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- deflection
- exposure apparatus
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
露光装置であって、磁界変動検出回路（２）と偏向量補
正回路（３）を備え、該露光装置近傍の磁界変動を検出
し、該磁界変動による荷電粒子線の偏向量を打消すよう
補正することにより、高精度な位置合せおよび露光を可
能とする。
正回路（３）を備え、該露光装置近傍の磁界変動を検出
し、該磁界変動による荷電粒子線の偏向量を打消すよう
補正することにより、高精度な位置合せおよび露光を可
能とする。
本発明は露光装置に関し、特に、荷電粒子線（電子ビー
ム、イオンビーム等）が通過する経路を挾んで互いに対
向配置された少なくとも２組の偏向器を有する露光装置
に関する。本発明による装置は、例えば半導体ウェハ上
のレジストへ回路パターンを精度良く位置決めし、露光
する電子ビーム露光装置として利用される。
ム、イオンビーム等）が通過する経路を挾んで互いに対
向配置された少なくとも２組の偏向器を有する露光装置
に関する。本発明による装置は、例えば半導体ウェハ上
のレジストへ回路パターンを精度良く位置決めし、露光
する電子ビーム露光装置として利用される。
例えば電子ビームを用いた露光装置を例にとると、該装
置においては、電子銃から放出された電子ビームを、該
ビームが通過する経路を挾んで互いに対向配置された少
なくとも２組の偏向器（例えば静電偏向プレート）の間
を通過させ、ターゲット（半導体ウェハ上のレジスト等
）の所望の位置に照射させるようにしている。このター
ゲット上の電子ビームの照射位置は、偏向器に印加する
電圧すなわち該偏向器間に生じる電界のみを制御するこ
とにより、任意に変更される。
置においては、電子銃から放出された電子ビームを、該
ビームが通過する経路を挾んで互いに対向配置された少
なくとも２組の偏向器（例えば静電偏向プレート）の間
を通過させ、ターゲット（半導体ウェハ上のレジスト等
）の所望の位置に照射させるようにしている。このター
ゲット上の電子ビームの照射位置は、偏向器に印加する
電圧すなわち該偏向器間に生じる電界のみを制御するこ
とにより、任意に変更される。
上述した従来形の電子ビームを用いた露光装置において
は、荷電粒子からなる電子ビームの照射を何らかの磁界
が発生している空間あるいは領域において行った場合に
は、フレミングの左手の法則に基づいて該電子ビームが
偏向させられ、その結果としてターゲット上の所定の位
置へのビーム照射を高精度に行うことができないという
問題があった。この問題は、分電盤等の電源設備の近く
に露光装置が設置されているような場合には一層顕著で
ある。
は、荷電粒子からなる電子ビームの照射を何らかの磁界
が発生している空間あるいは領域において行った場合に
は、フレミングの左手の法則に基づいて該電子ビームが
偏向させられ、その結果としてターゲット上の所定の位
置へのビーム照射を高精度に行うことができないという
問題があった。この問題は、分電盤等の電源設備の近く
に露光装置が設置されているような場合には一層顕著で
ある。
また、このような問題点を考慮して、露光装置の設置条
件として磁界変動の小さい場所を設定したとしても、そ
の後の周囲の状況により磁界変動が許容値以上に大きく
なる場合もある。
件として磁界変動の小さい場所を設定したとしても、そ
の後の周囲の状況により磁界変動が許容値以上に大きく
なる場合もある。
本発明は、上述した従来形における問題点に鑑み創作さ
れたもので、周囲の磁界変動に影響されることなく高精
度に位置合せして露光を行うことができる露光装置を提
供することを目的としている。
れたもので、周囲の磁界変動に影響されることなく高精
度に位置合せして露光を行うことができる露光装置を提
供することを目的としている。
第１図に本発明による露光装置の原理ブロック図が示さ
れる。
れる。
第１図において１は偏向器であり、該偏向器は荷電粒子
線が通過する経路を挾んで互いに対向するように、少な
くとも２組配置されている。該偏向器は、例えば静電偏
向プレートであってもよいし、あるいは磁気偏向コイル
であってもよい。２は磁界変動検出回路であって、露光
装置近傍の磁界変動を検出し、その検出信号Ｓ１を出力
する機能を有している。３は偏向量補正回路であって、
上述の検出信号Ｓ１に基づき、前述の荷電粒子線が磁界
変動に起因して偏向する量を打消すように偏向器１に制
御信号Ｓ２を供給する機能を有している。
線が通過する経路を挾んで互いに対向するように、少な
くとも２組配置されている。該偏向器は、例えば静電偏
向プレートであってもよいし、あるいは磁気偏向コイル
であってもよい。２は磁界変動検出回路であって、露光
装置近傍の磁界変動を検出し、その検出信号Ｓ１を出力
する機能を有している。３は偏向量補正回路であって、
上述の検出信号Ｓ１に基づき、前述の荷電粒子線が磁界
変動に起因して偏向する量を打消すように偏向器１に制
御信号Ｓ２を供給する機能を有している。
すなわち、本発明の装置は全体として、磁界変動に起因
する荷電粒子線の偏向量が補正されるように構成されて
いる。
する荷電粒子線の偏向量が補正されるように構成されて
いる。
［作 用〕
本発明による露光装置においては、仮に周囲の磁界が変
動してそれにより荷電粒子線が偏向させられたとしても
、磁界変動検出回路２において周囲の磁界変動が検出さ
れ、その検出結果に基づき偏向量補正回路３において上
述の荷電粒子線の偏向量が打消されるようになっている
ため、高精度な位置合せおよび露光が可能となる。
動してそれにより荷電粒子線が偏向させられたとしても
、磁界変動検出回路２において周囲の磁界変動が検出さ
れ、その検出結果に基づき偏向量補正回路３において上
述の荷電粒子線の偏向量が打消されるようになっている
ため、高精度な位置合せおよび露光が可能となる。
第２図には本発明の一実施例としての電子ビームを用い
た露光装置が概略的に示され、第３図には第２図のｌ−
ｌｌ１線、ｍ’−ｍ’線から見た平面図が示される。
た露光装置が概略的に示され、第３図には第２図のｌ−
ｌｌ１線、ｍ’−ｍ’線から見た平面図が示される。
第２図においてｌｌｘ、 ｌｌｙ、１２ｘおよび１２ｙ
は静電偏向プレートであり、該偏向プレート１１ｘ。
は静電偏向プレートであり、該偏向プレート１１ｘ。
１２Ｘおよびｌｌｙ、１２ｙはそれぞれ、電子銃４１か
ら放出された電子ビーム４２が通過する経路を挾いて互
いに直交する方向に対向配置されており、各々位相変換
器３３から信号を印加されている。
ら放出された電子ビーム４２が通過する経路を挾いて互
いに直交する方向に対向配置されており、各々位相変換
器３３から信号を印加されている。
第２図では省略されているが、一般に偏向プレート１１
Ｘと１２ Ｘ 、 １１ Ｙと１２ｙに印加される信号
は符号が正、食道の電圧信号である。４３は電子ビーム
が照射されるべきターゲットであり、該ターゲット４３
上での電子ビーム４２の照射位置は、制御装置（図示せ
ず）により偏向プレート１１ｘおよびｌｌｙに印加する
電圧、言い換えると偏向プレー） １１ ｘ 、 １２
ｘ間に生じる電界および偏向プレート１１ｙ’、 １
２ｙ間に生じる電界、を制御することにより、任意に変
更され得るようになっている。
Ｘと１２ Ｘ 、 １１ Ｙと１２ｙに印加される信号
は符号が正、食道の電圧信号である。４３は電子ビーム
が照射されるべきターゲットであり、該ターゲット４３
上での電子ビーム４２の照射位置は、制御装置（図示せ
ず）により偏向プレート１１ｘおよびｌｌｙに印加する
電圧、言い換えると偏向プレー） １１ ｘ 、 １２
ｘ間に生じる電界および偏向プレート１１ｙ’、 １
２ｙ間に生じる電界、を制御することにより、任意に変
更され得るようになっている。
２１．２２は露光装置近傍の磁界を検出するためのコイ
ルである。コイル２１は所定の方向（Ｘ方向とする）に
対して垂直な面内に配置され、従って、Ｘ方向成分の磁
界ＢＸにより該コイル２１には磁界ＢＸの大きさに応じ
た電流が誘導されるようになっている。コイル２２はＸ
方向と直交するＹ方向に対して垂直な面内に配置され、
従って、Ｙ方向成分の磁界ＢＹにより該コイル２２には
磁界ＢＹの大きさに応じた電流が誘導されるようになっ
ている。この誘導電流信号すなわち磁界変動検出信号を
ＳＩＸ、ＳＩＹとする。
ルである。コイル２１は所定の方向（Ｘ方向とする）に
対して垂直な面内に配置され、従って、Ｘ方向成分の磁
界ＢＸにより該コイル２１には磁界ＢＸの大きさに応じ
た電流が誘導されるようになっている。コイル２２はＸ
方向と直交するＹ方向に対して垂直な面内に配置され、
従って、Ｙ方向成分の磁界ＢＹにより該コイル２２には
磁界ＢＹの大きさに応じた電流が誘導されるようになっ
ている。この誘導電流信号すなわち磁界変動検出信号を
ＳＩＸ、ＳＩＹとする。
３１．３２は増幅器であり、それぞれコイル２１、コイ
ル２２からの出力信号ＳＩＸ、ＳＩＹを増幅する。増幅
器３１．３２には位相変換器３３が接続され、この位相
変換器３３は偏向プレー目１ｘ、ｌｌｙに接続されてい
る。位相変換器３３は、コイル２１．２２が配置されて
いるＸ−Ｙ平面（第３図（ａ）参照）と偏向プレー目ｌ
ｘ。
ル２２からの出力信号ＳＩＸ、ＳＩＹを増幅する。増幅
器３１．３２には位相変換器３３が接続され、この位相
変換器３３は偏向プレー目１ｘ、ｌｌｙに接続されてい
る。位相変換器３３は、コイル２１．２２が配置されて
いるＸ−Ｙ平面（第３図（ａ）参照）と偏向プレー目ｌ
ｘ。
１１ｙ、１２ｘ、１２ｙが配置されているｘ−ｙ平面（
第３図（ｂ）参照）との間の位相のずれθ（第３図（Ｃ
）参照）を補正し、増幅器３１．３２からの信号を逆位
相にし、さらにゲイン調整を行った後で偏向プレー）
１１ｘ、 １１ Ｙに制御信号３２Ｘ。
第３図（ｂ）参照）との間の位相のずれθ（第３図（Ｃ
）参照）を補正し、増幅器３１．３２からの信号を逆位
相にし、さらにゲイン調整を行った後で偏向プレー）
１１ｘ、 １１ Ｙに制御信号３２Ｘ。
Ｓ２ｙとして供給する機能を有している。すなわち位相
変換器３３においては、 第４図に位相変換器の一例としての回路が示される。こ
の回路は２個の演算増幅器ＯＰＩ、ＯＰ２と、５個の入
力用可変抵抗Ｒ１−Ｒ４およびＲ７と、２個のフィード
バック用抵抗Ｒ５，Ｒ６とで構成される。今仮に、Ｘ、
Ｙ、 ｘ、 ｙを信号のレベルとして扱うと、 ［ｘ］＝−［θ］ ［Ｘ］＝−［ｃｏ”θ−””］［Ｘ
］５ｉｎｌｌ＋ ｃｏｔｅ Ｙうに、露光装
置本体の配置すなわち偏向プレートの配置とコイルの配
置との間に生じる位相のずれθの調整は、可変抵抗Ｒ１
〜Ｒ４およびＲ７の値を適宜調整することにより容易に
行われる。この調整は実際においては電子ビームをナイ
フェツジ法により観測しつつ行われるもので、一度調整
を行うとその後の調整は不要となる。
変換器３３においては、 第４図に位相変換器の一例としての回路が示される。こ
の回路は２個の演算増幅器ＯＰＩ、ＯＰ２と、５個の入
力用可変抵抗Ｒ１−Ｒ４およびＲ７と、２個のフィード
バック用抵抗Ｒ５，Ｒ６とで構成される。今仮に、Ｘ、
Ｙ、 ｘ、 ｙを信号のレベルとして扱うと、 ［ｘ］＝−［θ］ ［Ｘ］＝−［ｃｏ”θ−””］［Ｘ
］５ｉｎｌｌ＋ ｃｏｔｅ Ｙうに、露光装
置本体の配置すなわち偏向プレートの配置とコイルの配
置との間に生じる位相のずれθの調整は、可変抵抗Ｒ１
〜Ｒ４およびＲ７の値を適宜調整することにより容易に
行われる。この調整は実際においては電子ビームをナイ
フェツジ法により観測しつつ行われるもので、一度調整
を行うとその後の調整は不要となる。
従って、第２図に示される露光装置を比較的高レベルの
磁界変動が生じている電源設備等の近傍に仮に設置した
場合でも、コイル２Ｌ２２により検出された磁界変動に
相応する信号ＳＩＸ、ＳＩＹが位相変換器３３において
逆位相に変換され、そしてその逆位相変換された信号Ｓ
２に、Ｓ２Ｙがそれぞれ偏向プレーＨ１ｘ、Ｉｌｙに印
加されるようになっているため、磁界変動に起因する電
子ビーム４２の偏向量は偏向プレートＩＩＸ、 １１ｙ
に印加された制御信号Ｓ２ｘ、Ｓ２ｙにより補正され得
る。これによって、周囲の磁界変動に関係なく、電子ビ
ーム４２をターゲット４３上の所望の位置に高精度に照
射することができる。
磁界変動が生じている電源設備等の近傍に仮に設置した
場合でも、コイル２Ｌ２２により検出された磁界変動に
相応する信号ＳＩＸ、ＳＩＹが位相変換器３３において
逆位相に変換され、そしてその逆位相変換された信号Ｓ
２に、Ｓ２Ｙがそれぞれ偏向プレーＨ１ｘ、Ｉｌｙに印
加されるようになっているため、磁界変動に起因する電
子ビーム４２の偏向量は偏向プレートＩＩＸ、 １１ｙ
に印加された制御信号Ｓ２ｘ、Ｓ２ｙにより補正され得
る。これによって、周囲の磁界変動に関係なく、電子ビ
ーム４２をターゲット４３上の所望の位置に高精度に照
射することができる。
第５図にはコイル２１において検出された磁界ＢＸに相
応する信号ＳＩＸの波形と偏向プレート１１ｘに印加さ
れる制御信号Ｓ２ｘの波形との関係が示される。電子ビ
ームは信号ＳＩＸの波形に応じて偏向されるが、その一
方では信号Ｓ２ｘに基づき偏向プレートｌｌｘ、１２ｘ
間の電界により該偏向が補正される。第５図の波形はＸ
方向（Ｘ方向）成分のみを示しているが、Ｙ方向（Ｙ方
向）についても同様である。
応する信号ＳＩＸの波形と偏向プレート１１ｘに印加さ
れる制御信号Ｓ２ｘの波形との関係が示される。電子ビ
ームは信号ＳＩＸの波形に応じて偏向されるが、その一
方では信号Ｓ２ｘに基づき偏向プレートｌｌｘ、１２ｘ
間の電界により該偏向が補正される。第５図の波形はＸ
方向（Ｘ方向）成分のみを示しているが、Ｙ方向（Ｙ方
向）についても同様である。
なお、第２図に示される装置においては偏向器１として
静電偏向プレートを例にとって説明したが、磁気偏向コ
イルの場合にも同様に適用され得ることはもちろんであ
る。
静電偏向プレートを例にとって説明したが、磁気偏向コ
イルの場合にも同様に適用され得ることはもちろんであ
る。
さらに、第２図に示される装置においては磁界のＺ方向
成分およびＹ方向成分のみについて説明したが、それに
限らず、Ｚ方向成分も考慮して３次元的に本装置を適用
することもできる。
成分およびＹ方向成分のみについて説明したが、それに
限らず、Ｚ方向成分も考慮して３次元的に本装置を適用
することもできる。
以上説明したように本発明によれば、周囲の磁界の存在
あるいは磁界変動に影響されることなく高精度な位置合
せおよび露光を行うことができる。
あるいは磁界変動に影響されることなく高精度な位置合
せおよび露光を行うことができる。
第１図は本発明による露光装置の原理ブロック図、
第２図は本発明の一実施例を示す概略的な構成図、
第３図は第２図のｍ−ｍ線、Ｉ’−１１１’線から見た
平面図であって、コイルおよび偏向プレートの配置関係
を示す図、 第４図は第２図に示される位相変換器の一例を示す回路
図、 第５図は磁界変動検出信号ｓｉｘの波形と制御信号Ｓ２
ｘの波形との関係を示す信号波形図、である。 １・・・偏向器、 ２・・・磁界変動検出回路
、３・・・偏向量補正回路、 Ｓｌ・・・磁界変動検出信号、Ｓ２・・・制御信号。
平面図であって、コイルおよび偏向プレートの配置関係
を示す図、 第４図は第２図に示される位相変換器の一例を示す回路
図、 第５図は磁界変動検出信号ｓｉｘの波形と制御信号Ｓ２
ｘの波形との関係を示す信号波形図、である。 １・・・偏向器、 ２・・・磁界変動検出回路
、３・・・偏向量補正回路、 Ｓｌ・・・磁界変動検出信号、Ｓ２・・・制御信号。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 荷電粒子線が通過する経路を挾んで互いに対向配置され
た少なくとも２組の偏向器（１）を有する露光装置にお
いて、 該露光装置の近傍の磁界変動を検出し、その検出信号（
Ｓ１）を出力する磁界変動検出回路（２）と、 前記検出信号（Ｓ１）に基づき、前記荷電粒子線が前記
磁界変動により偏向する量を打消すように前記偏向器（
１）に制御信号（Ｓ２）を供給する偏向量補正回路（３
）とを備えたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61058223A JPH0722108B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61058223A JPH0722108B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62216324A true JPS62216324A (ja) | 1987-09-22 |
| JPH0722108B2 JPH0722108B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=13078078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61058223A Expired - Fee Related JPH0722108B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722108B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6452172B1 (en) | 1998-05-19 | 2002-09-17 | Seiko Instruments Inc. | Composite charged particle beam apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5648045A (en) * | 1979-09-12 | 1981-05-01 | Siemens Ag | Method and device for controlling magnetic deflecting system |
| JPS6010723A (ja) * | 1983-06-30 | 1985-01-19 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光方式 |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61058223A patent/JPH0722108B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5648045A (en) * | 1979-09-12 | 1981-05-01 | Siemens Ag | Method and device for controlling magnetic deflecting system |
| JPS6010723A (ja) * | 1983-06-30 | 1985-01-19 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光方式 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6452172B1 (en) | 1998-05-19 | 2002-09-17 | Seiko Instruments Inc. | Composite charged particle beam apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0722108B2 (ja) | 1995-03-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |