JPS62213955A - Polishing device for disc base board - Google Patents

Polishing device for disc base board

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Publication number
JPS62213955A
JPS62213955A JP5607986A JP5607986A JPS62213955A JP S62213955 A JPS62213955 A JP S62213955A JP 5607986 A JP5607986 A JP 5607986A JP 5607986 A JP5607986 A JP 5607986A JP S62213955 A JPS62213955 A JP S62213955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
polishing
disk substrate
abrasive tape
tension
Prior art date
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Pending
Application number
JP5607986A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Morita
森田 宜夫
Hiroichi Suzuki
博一 鈴木
Masunobu Sonoda
園田 益伸
Shunei Miyajima
宮島 俊英
Yasunori Fukuyama
福山 保則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP5607986A priority Critical patent/JPS62213955A/en
Publication of JPS62213955A publication Critical patent/JPS62213955A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide precision grind finishing by coupling a tensioning means with a supply reel, and controlling the tension of a polishing tape produced by said tensioning means on the basis of signals informing the residual amount of the polishing tape in the supply reel. CONSTITUTION:A disc base plate 1 is rotated, and a pressure member 8 to press a polishing tape 4 to this disc base plate is reciprocated in the radial direction of the disc plate 1. The polishing tape 4 is sent from the supply reel 5 to a takeup reel 6, while it is rubbed with the disc base plate 1, and thereby the surface of the plate 1 is polished. Control is made for the load on the supply reel 5 produced by a tension motor 11 as a tensioning means, on the basis of signals from a tape residual amount sensor 12, which senses the residual amount of the polishing tape 4 in the supply reel 15. Thus the polishing operation can be made with the tape 4 given a constant tension at all times regardless of the tape residual amount, that should prevent generation of unevenness in polishing due to stretch and shrinkage of the tape 4.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は、磁気ディスク、光ディスク等のディスク基板
の表面を平滑に仕上げるために用いられるディスク基板
の研摩装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field 1] The present invention relates to a disk substrate polishing apparatus used for smoothing the surface of a disk substrate such as a magnetic disk or an optical disk.

[従来の技術1 ディスク基板として、例えば磁気ディスクは。[Conventional technology 1 For example, a magnetic disk is used as a disk substrate.

アルミニウム等からなるディスク基板の表面に蒸着等の
手段で磁性体の被膜を形成することによって製造される
か、この磁性体被膜を均一に形成するために、該被膜の
形成前にディスク基板の表面を極めて平滑となるように
研摩仕上げがなされる。また、この磁性体被膜を形成し
た後にも該磁性体被膜の膜圧を一定にするために、その
研摩か行われるか、かかる磁性体被膜の形成前または形
成後におけるディスク基板の研摩を行うために、ディス
ク基板の研摩装置か用いられる。
It is manufactured by forming a magnetic coating on the surface of a disk substrate made of aluminum or the like by means such as vapor deposition, or in order to uniformly form this magnetic coating, the surface of the disk substrate is coated before the formation of the magnetic coating. The surface is polished to an extremely smooth finish. In addition, in order to keep the film thickness of the magnetic film constant even after the magnetic film is formed, polishing is performed, or polishing of the disk substrate is performed before or after the formation of the magnetic film. A disk substrate polishing device is used for this purpose.

このディスク基板の研摩装置としては、ディスク基板を
回転駆動する回転装置と、該ディスク基板の表面を研摩
する研摩テープとを備え、該研摩テープを送り出しリー
ルに巻付けた状態から供給し、それを巻取りローラによ
って巻取りリールに巻取るようにして送る間に、該研摩
テープを前記ディスク基板の半径方向に往復動可能な加
圧部材によって該ディスク基板の表面に押し当てるよう
に構成し、この研摩テープてディスク基板の表面を摩擦
することによってその表面を研摩仕上するようにしたも
のは、従来から知られている。
This disk substrate polishing device is equipped with a rotating device that rotates the disk substrate, and an abrasive tape that polishes the surface of the disk substrate. The abrasive tape is pressed against the surface of the disk substrate by a pressure member that is reciprocally movable in the radial direction of the disk substrate while the abrasive tape is being wound and fed onto a take-up reel by a take-up roller. Abrasive tapes have been known for polishing the surface of a disk substrate by rubbing the surface thereof.

[発明が解決しようとする問題点1 ここで、研摩テープによってディスク基板の研摩を行う
に当っては、該研摩テープか一定の張力を持ってディス
ク基板に接触していならず、それか伸びた状態と縮んだ
状態とではその研斤量に差異か生じて、均一な研摩かで
きなくなってしまうことになる。ところで、前述した従
来技術のディスク基板の研摩装置において、研摩テープ
を供給する送り出しリールは、その研摩テープの残量に
応して該研摩テープの送りに対する負荷が変化すること
になる。この負荷の変化によって、研摩テープの張力か
異なり、該研摩テープに伸び縮みが生じることになって
、研摩むらが発生するおそれかあった。特に、送り出し
リールの交!!j!頻度を少なくするために、該送り出
しリールにおける研摩デーゾの巻き径を大きくすると、
負荷の変化に基づく研摩テープの伸び縮みが甚だしく大
きくなって、ディスク基板における研摩むらが著しくな
る欠点があった。
[Problem to be Solved by the Invention 1] Here, when polishing a disk substrate with an abrasive tape, the abrasive tape is not in contact with the disk substrate with a certain tension, or is stretched. There will be a difference in the amount of polishing between the shrunken state and the shrunken state, making it impossible to polish uniformly. By the way, in the above-described prior art disk substrate polishing apparatus, the load on the feed reel that supplies the polishing tape for feeding the polishing tape changes depending on the remaining amount of the polishing tape. Due to this change in load, the tension of the abrasive tape changes, causing expansion and contraction of the abrasive tape, which may result in uneven polishing. Especially the exchange of the feed reel! ! j! In order to reduce the frequency, if the winding diameter of the polishing dezo on the delivery reel is increased,
There was a drawback that the expansion and contraction of the polishing tape due to changes in load became extremely large, resulting in significant polishing unevenness on the disk substrate.

本発明は叙上の点に鑑みてなされたものて、その目的と
するところは、送り出しリールにおける研摩テープの残
量の如何に拘らず、研摩テープの送り時における張力を
一定に保つことができるようになし、もって正確な研摩
仕上げを行うことかできるようにしたディスク基板の研
摩装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and its purpose is to be able to keep the tension constant when feeding the abrasive tape, regardless of the amount of abrasive tape remaining on the feed reel. It is an object of the present invention to provide a polishing device for a disk substrate, which enables accurate polishing and finishing.

[問題点を解決するための手段J 前述の目的を達成するために、本発明に係るディスク基
板の研摩装置は、研摩テープを供給する°送り出しリー
ルには、該送り出しリールの回転に対して負荷を与える
ことによって研摩テープに張力を与える引張手段を連結
すると共に、該送り出しリールにおける研摩テープの残
量を検出するテープ残量検出器を付設し、該テープ残量
検出器におけるテープ残G:に関する信号に基づいて前
記引張手段による研摩テープの張力を制御する構成とし
たことをその特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems J] In order to achieve the above-mentioned object, the disk substrate polishing apparatus according to the present invention provides a polishing tape to the delivery reel, which has a load applied to the rotation of the delivery reel. A tension means is connected to apply tension to the abrasive tape by applying a tension to the abrasive tape, and a remaining tape amount detector for detecting the remaining amount of the abrasive tape on the delivery reel is attached, and the remaining tape amount G on the tape remaining amount detector is related to: The present invention is characterized in that the tension of the abrasive tape by the tensioning means is controlled based on a signal.

[作用1 本発明は前述のように構成されるもので、この研摩装置
を使用してディスク基板の研摩を行うには、ディスク基
板を回転装置に装着させ、該ディスク基板の一側または
両側に送り出しリールから供給される研摩テープを加圧
部材によって押し付けた状態に設訛する。そこで、回転
装置を駆動してディスク基板を回転させると共に、かつ
研摩テープをディスク基板に押し付ける加圧部材を該デ
ィスク基板の半径方向に往復動させ、この間に研摩テー
プの走行系路において、加圧部材の配設位tより巻取り
リール側に位近する巻取りローラ送り出しリールから巻
取り側に向けて研摩テープを送りながら該研摩テープを
ディスク基板に対して擦ることによって、このディスク
基板の表面の研摩を行う。
[Operation 1] The present invention is constructed as described above, and in order to polish a disk substrate using this polishing device, the disk substrate is mounted on a rotating device, and one side or both sides of the disk substrate are polished. The abrasive tape supplied from the delivery reel is pressed by a pressure member. Therefore, the rotating device is driven to rotate the disk substrate, and at the same time, the pressure member that presses the abrasive tape against the disk substrate is reciprocated in the radial direction of the disk substrate. The surface of the disk substrate is polished by rubbing the abrasive tape against the disk substrate while feeding the abrasive tape from the take-up roller delivery reel, which is closer to the take-up reel than the member arrangement position t, toward the take-up side. Perform polishing.

而して、送り出しリールにおける研摩テープの残量によ
って前述の巻取りローラによる研摩テープの送りに対す
る負荷か異なることになる。即ち、送り出しリールにお
ける研摩テープの残量が多い場合には1巻増りローラの
負荷が大きくなって、送り出しリールから送られる研摩
テープの張力が大きくなって、それか伸びた状態となる
。−方、送り出しリールにおける研摩テープの残量が少
なくなると、巻取りローラの負荷が小さくなり、研摩テ
ープの張力が小さくなって、それか縮んだ状態で送られ
ることになってしまう。しかしなから1本発明に係る研
摩装置にあっては、送り出しリールにおける研摩テープ
の残量を検出するテープ残量検出器を設け、該テープ残
量検出器からの信号に基づいて引張手段による送り出し
リールに対する負荷の制御を行うようにしているから、
送り出しリールにおける研摩テープの残量の如何に拘ら
ず、研摩テープに常に一定の張力を与えた状態で研摩作
業を行うことかでき、該研摩テープの伸び縮みによるデ
ィスク基板の研摩むらの発生を確実に防止することがて
きるようになる。
Therefore, the load applied to the feeding of the abrasive tape by the take-up roller will vary depending on the amount of abrasive tape remaining on the delivery reel. That is, when there is a large amount of abrasive tape remaining on the delivery reel, the load on the roller increases by one turn, and the tension of the abrasive tape sent from the delivery reel increases, causing it to become stretched. On the other hand, when the amount of abrasive tape remaining on the delivery reel decreases, the load on the take-up roller decreases, the tension on the abrasive tape decreases, and the abrasive tape ends up being fed in a shrunken state. However, in particular, the polishing apparatus according to the present invention is provided with a tape remaining amount detector for detecting the remaining amount of abrasive tape on the delivery reel, and based on a signal from the tape remaining amount detector, the polishing tape is fed out by the tensioning means. Because we are trying to control the load on the reel,
Regardless of the amount of abrasive tape remaining on the delivery reel, polishing work can be performed with constant tension applied to the abrasive tape, ensuring that uneven polishing of the disk substrate due to expansion and contraction of the abrasive tape will not occur. It will be possible to prevent this from happening.

[実施例1 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
[Embodiment 1] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.

まず、i1図において、lはディスク基板を示し、1懐
デイスク基板lはアルミニウム等の部材を円環状に形成
してなるもので、その表裏の各面には磁性体の被膜か形
成されるようになっている。
First, in Figure i1, l indicates a disk substrate, and the disk substrate l is formed of a member such as aluminum in an annular shape, and a magnetic coating is formed on each of its front and back surfaces. It has become.

そして、このディスク基板lの表面に磁性体被膜を形成
する前において、研摩装置を使用して該ディスク基板l
の研摩仕上げか行われるようになっている。この研摩装
置としては、該ディスク基板lの内周縁部を支持するチ
ャック部材2と駆動手段としてのディスク回転モータ3
とからなる回転装置によって該ディスク基板を回転駆動
することができるように構成されており、このディスク
基板1の回転中にラッピングテープ等からなる研摩テー
プ4で該ディスク基板1の表面を擦るようにして研摩す
ることかできるようになっている。該研摩テープ4は送
り出しリール5から巻取りソール6に向けて走行せしめ
られるようになっており、この研摩テープ4の走行の途
中で該研摩テープ4はディスク基板1の表面に当接せし
められるようになっている。そして、この研摩テープ4
のディスク基板lへの占接部には研摩テープ4をディス
ク基板lに押し付けるための加圧へラド7を備えた加圧
部材8か装着されている。さらに、研摩テープ4の走行
系路における加圧ヘット7の巻取りリール6側には、研
摩テープ4の巻取りローラ9か設置されており、鎖巻取
りローラ9は巻取りモータ10によって駆動されて、研
摩テープ4をその送り出しリール5側から巻取りリール
6側に向けて送ることかできるようになっている。
Before forming a magnetic film on the surface of the disk substrate l, a polishing device is used to polish the disk substrate l.
A polished finish has been applied. This polishing device includes a chuck member 2 that supports the inner peripheral edge of the disk substrate l, and a disk rotation motor 3 as a driving means.
The disk substrate 1 is configured to be able to be rotated by a rotating device consisting of a rotating device, and while the disk substrate 1 is rotating, the surface of the disk substrate 1 is rubbed with an abrasive tape 4 made of lapping tape or the like. It can be polished by hand. The abrasive tape 4 is made to run from a delivery reel 5 toward a take-up sole 6, and the abrasive tape 4 is brought into contact with the surface of the disk substrate 1 during the run of the abrasive tape 4. It has become. And this abrasive tape 4
A pressure member 8 equipped with a pressurizing pad 7 for pressing the abrasive tape 4 onto the disk substrate l is attached to a portion of the disk substrate l that occupies the disk substrate l. Furthermore, a take-up roller 9 for the abrasive tape 4 is installed on the take-up reel 6 side of the pressure head 7 in the travel path of the abrasive tape 4, and the chain take-up roller 9 is driven by a take-up motor 10. Thus, the abrasive tape 4 can be fed from the feed reel 5 side to the take-up reel 6 side.

そして、第2図に示したように、送り出しり−ル5には
引張手段としてのテンションモータ11か連結されて、
該テンションモータ11によって送り出しり−ル5によ
る研摩テープ4の送り出しに対する負荷を与え、これに
より該研摩テープ4に所定の張力をグーえることかでき
るようになっている。さらに、該送り出しリール5には
該送り出しリール5における研摩テープ4の残量を検出
するテープ残量検出器12か付設されている。該テープ
残量検出器12は、送り出しり−ル5に巻付けられた研
摩テープ4に当接するローラ13を取付けた検出ドグ1
4を備え、該検出トゲ14を回転軸15の先端に連結す
ることによってそれが送り出しリール5における研摩テ
ープ4の残量巻き径に応じて回転軸15を中心として回
動するようになっており、また該回転軸15は検出トゲ
14に追従させて回転せしめられるように構成されてい
る。そして、回転軸15を中間部において支持機構とし
ての軸受16により回転可能に支持させると共に、その
基端部に回転軸15の回転角度を検出する回転角度検出
器としてのポテンショメータ17が接続されている。そ
して、検出ドグ14にはばね18が装着されて、該ばね
18によって°検出ドグ14は常時その先端に取付けた
ローラ13か研摩テープ4に当接する方向に付勢される
ような構成となっている。
As shown in FIG. 2, a tension motor 11 as a tensioning means is connected to the feed-out rule 5.
The tension motor 11 applies a load to the feeding of the abrasive tape 4 by the feed reel 5, thereby making it possible to apply a predetermined tension to the abrasive tape 4. Further, the feed reel 5 is provided with a tape remaining amount detector 12 for detecting the remaining amount of the abrasive tape 4 on the feed reel 5. The remaining tape amount detector 12 includes a detection dog 1 equipped with a roller 13 that comes into contact with the abrasive tape 4 wound around the feed-out roll 5.
4, and by connecting the detection barb 14 to the tip of the rotating shaft 15, it rotates about the rotating shaft 15 in accordance with the remaining winding diameter of the abrasive tape 4 on the delivery reel 5. Further, the rotating shaft 15 is configured to be rotated following the detection barb 14. The rotary shaft 15 is rotatably supported by a bearing 16 as a support mechanism at the intermediate portion, and a potentiometer 17 as a rotation angle detector for detecting the rotation angle of the rotary shaft 15 is connected to the base end thereof. . A spring 18 is attached to the detection dog 14, and the spring 18 always urges the detection dog 14 in the direction of contacting the roller 13 attached to its tip or the abrasive tape 4. There is.

本実施例は前述のように構成されるもので、ディスク基
板1をチャック部材2に装置すると共に、送り出しり−
ル5から研摩テープ4を繰出して、該研摩テープ4をデ
ィスク基板1の表面に当接させ、そして、研摩テープ4
を加圧部材8の加圧へラド7によってディスク基板lに
押し付けた状遥に設置する。
This embodiment is constructed as described above, in which the disk substrate 1 is mounted on the chuck member 2, and the disk substrate 1 is mounted on the chuck member 2, and the
The abrasive tape 4 is fed out from the wheel 5, the abrasive tape 4 is brought into contact with the surface of the disk substrate 1, and the abrasive tape 4 is brought into contact with the surface of the disk substrate 1.
is placed so as to be pressed against the disk substrate l by the pressure pad 7 of the pressure member 8.

そこで、ディスク回転モータ3を駆動することによって
、ディスク基板lを回転駆動すると共に、加圧部材8を
往復動させ、この間に巻取りモータlOを作動させて、
研摩テープ4をその送り出しリール5側から巻取りリー
ル6側に向けて送らせることによって、ディスク基板1
の表面は研摩テープ4により研摩されることになる。
Therefore, by driving the disk rotation motor 3, the disk substrate l is rotated and the pressure member 8 is reciprocated, and during this time the winding motor lO is operated.
By feeding the abrasive tape 4 from the feed reel 5 side toward the take-up reel 6 side, the disk substrate 1
The surface will be polished by the polishing tape 4.

而して、前述のように研摩テープ4によってディスク基
板lの表面研摩を極めて厳格な精度で行うには、該研摩
テープ4に常時一定の張りを持たせた状態にして送る必
要かあり、この研摩テープ4の張りか大きくなって、そ
れか伸びた状態となったり、また張力か不十分で縮んだ
状態に送られると、ディスク基板1の表面研摩の精度に
影響を争えることになる。そして、この研摩テープ4の
張力は送り出しり−ル5に巻き付けられている研摩テー
プ4の残量によって変化する。
As mentioned above, in order to polish the surface of the disk substrate l with extremely strict accuracy using the polishing tape 4, it is necessary to feed the polishing tape 4 with constant tension at all times. If the tension of the polishing tape 4 increases and it becomes stretched, or if the tension is insufficient and it is sent into a contracted state, the accuracy of polishing the surface of the disk substrate 1 will be affected. The tension of the abrasive tape 4 changes depending on the remaining amount of the abrasive tape 4 wound around the feed-out roll 5.

そこで1本実施例においては、この送り出しり−ル5に
おける研摩テープ4の残量を検出し、この検出信号に基
づいてテンションモータ11の出力トルクを制御するこ
とによって研摩テープ4の張力を一定に保つようにして
いる。即ち、第3図に示したように、送り出しり−ル5
において研摩テープ4が実線で示した位置にまで巻かれ
ている状!凪から送り出されて、その残量か一点′j!
A線で示した位置となったときに、該研摩テープ4と当
接するローラ13を備えた検出ドグ14か回転軸15を
中心として角度θたけ送り出しり−ル5側に回動する。
Therefore, in this embodiment, the tension of the abrasive tape 4 is kept constant by detecting the remaining amount of the abrasive tape 4 on the feeding reel 5 and controlling the output torque of the tension motor 11 based on this detection signal. I try to keep it. That is, as shown in FIG.
The abrasive tape 4 is wrapped up to the position shown by the solid line! I was sent out by Nagi, and there's only one point left!
When the position shown by line A is reached, the detection dog 14 having the roller 13 that comes into contact with the polishing tape 4 is rotated by an angle .theta. toward the feed-out rule 5 about the rotating shaft 15.

そして、回転軸15は該検出ドグ14に追従回転するよ
うになっており、この回転軸15の回転角度はポテンシ
ョメータ17によって検出されるようになっているから
、該ポテンショメータ17による回転軸15の角度を検
出することによって送り出しり−ル5における研摩テー
プ4の残量を検出することかできるようになる。そこで
、このポテンショメータ17による研摩テープ4の残量
に関する検出信号を送り出しリール5に対して負荷を付
与するテンションモータ11に制御信号として入力し、
この信号に基づいて該テンションモータ11の出力トル
クの制御か行われる。これによって、送り出しり−ル5
における研摩テープ4の残量とは無関係に、該研摩テー
プ4を常に一定の張りを持たせた状態で送ることかでき
るようになり、該研摩テープ4によるディスク基板lの
表面研摩の精度を著しく向上させることかできるように
なる。
The rotating shaft 15 is configured to rotate following the detection dog 14, and the rotation angle of the rotating shaft 15 is detected by a potentiometer 17. By detecting this, it becomes possible to detect the amount of polishing tape 4 remaining on the feeding reel 5. Therefore, the detection signal from the potentiometer 17 regarding the remaining amount of the abrasive tape 4 is input as a control signal to the tension motor 11 that applies a load to the sending reel 5.
Based on this signal, the output torque of the tension motor 11 is controlled. As a result, the feed-out rule 5
Regardless of the remaining amount of the abrasive tape 4, the abrasive tape 4 can be fed with a constant tension at all times. You will be able to improve your skills.

また、このように送り出しリール5における研摩テープ
4の多寡に関係なく、該研摩テープ4を常に一定の張力
を持たせた状態でディスク基板lの研摩作業を行わせる
ことかできるので、送り出しり−ル5の研摩テープ4の
巻き径を大きくすることができ、その交換頻度を少なく
することができるようにもなる。
Further, regardless of the amount of abrasive tape 4 on the feed reel 5, the polishing work of the disk substrate l can be performed with the abrasive tape 4 always under a constant tension, so that the feed-out The winding diameter of the polishing tape 4 of the tape 5 can be increased, and the frequency of its replacement can be reduced.

なお、前述の実施例においては、磁性体被膜を形成する
前のディスク基板lを研摩するための装置として説明し
たか、磁性体被1模形成後において、その膜厚を一定に
するための研摩を行うための装ことしても用いることが
でき、また光ディスク等地のディスク基板の研摩にも使
用することができるのはいうまでもない。さらに、ディ
スク基板lの片面だけでなく、該ディスク基板lの両面
に研摩テープ4を押し当てて研摩するようにしてもよい
。さ゛らにまた、ディスク基板Iに研摩テープ4を押し
当てて該研摩テープ4をディスク基板1の半径方向に変
位させるたけて該ディスク基板■の研摩を行うようにし
たか、該研摩テープ4に研摩液を供給しながら研摩する
場合にも用いることかてきる。また、研摩テープ4に張
力を与える引張手段として、テンションモータ11を用
いるものとして説明したか、これに代えて、例えば送り
出しリール5に摩擦抵抗を与える抵抗手段で構成し、1
該抵抗手段による送り出しり−ル5への押し付は力をテ
ープ残量検出器からの信号に基づいて制御するように構
成してもよい。さらにまた、テープ残量検出器は前述の
実施例で示したものの他、例えば送り出しり−ル5に半
径方向にスリット溝を形成し、このスリット溝に光学セ
ンサを対設させること等によっても形成することができ
、また検出ドク14を用いる場合でも、該検出トゲ14
の位置を直接検出するようにしてもよい。
In the above-mentioned embodiments, the explanation was given as an apparatus for polishing the disk substrate l before forming a magnetic coating, or it was explained as an apparatus for polishing the disk substrate l before forming a magnetic coating 1, or a polishing apparatus for making the film thickness constant after the magnetic coating 1 is formed. Needless to say, it can also be used as a device for polishing disk substrates such as optical disks. Furthermore, the polishing tape 4 may be pressed against not only one side of the disk substrate l but also both sides of the disk substrate l for polishing. Furthermore, the disk substrate (2) is polished by pressing the abrasive tape 4 against the disk substrate I and displacing the abrasive tape 4 in the radial direction of the disk substrate 1. It can also be used when polishing while supplying liquid. Further, the tension motor 11 is used as the tensioning means for applying tension to the abrasive tape 4, but instead of this, for example, a resistance means for applying frictional resistance to the feed reel 5 may be used.
The force with which the resistance means presses the feed-out rule 5 may be controlled based on a signal from a tape remaining amount detector. Furthermore, in addition to the method shown in the above-mentioned embodiments, the tape remaining amount detector can also be formed by, for example, forming a slit groove in the radial direction in the feed-out roll 5 and placing an optical sensor opposite to this slit groove. In addition, even when using the detection barb 14, the detection barb 14
The position may be directly detected.

[発明の効果1 以上詳述した如く、本発明に係るディスク基板の研摩装
置は、送り出しリールから送り出される研摩テープを該
送り出しリールにおける研摩テープの残量の如何に拘ら
ず、所定の張力をもって送るように構成したから、研摩
作業中に研摩テープか伸び縮みすることかなくなり、研
摩テープを常に一定状悪にしてディスク基板の研摩を行
うことができるようになり、均一な研摩加工を行うこと
かでき、研摩むらを生じることなく、精巧に研摩仕上を
行うことかできるようになる。
[Advantageous Effects of the Invention 1] As detailed above, the disk substrate polishing device according to the present invention feeds the abrasive tape sent out from the delivery reel with a predetermined tension, regardless of the amount of polishing tape remaining on the delivery reel. With this structure, the abrasive tape does not expand or contract during the polishing process, and the disk substrate can be polished while keeping the abrasive tape in a constant state, thereby ensuring uniform polishing. This makes it possible to perform precise polishing without creating uneven polishing.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図乃至第3図は本発明の実施例を示し、第1図は研
摩装ごの全体構成図、第2図は研摩テープの張力調整機
構の構成説明図、第3図は作用説明図である。 l :ディスク基板、2:チャック部材、3 :ディス
ク回転モータ、4:研摩テープ、5:送り出しリール、
6:巻取りリール、7:加圧ヘッド、8:加圧部材、9
:巻取りリール、11:テンションモータ、12:テー
プ残量検出器、13:ローラ、14:検出トゲ、15:
回転軸、17:ポテンショメータ。
Figures 1 to 3 show embodiments of the present invention; Figure 1 is a diagram of the overall configuration of the polishing equipment; Figure 2 is a diagram illustrating the configuration of the tension adjustment mechanism for the polishing tape; Figure 3 is a diagram illustrating its operation. It is. l: disk substrate, 2: chuck member, 3: disk rotation motor, 4: polishing tape, 5: delivery reel,
6: Take-up reel, 7: Pressure head, 8: Pressure member, 9
: Take-up reel, 11: Tension motor, 12: Remaining tape amount detector, 13: Roller, 14: Detection barb, 15:
Rotation axis, 17: Potentiometer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ディスク基板を回転装置によって回転可能に支持し、
送り出しリールから送り出される研摩テープを前記ディ
スク基板の半径方向に往復動可能な加圧部材により該デ
ィスク基板に押し当てて、該研摩テープを巻取りローラ
によって移送する間にディスク基板の研摩を行うものに
おいて、前記送り出しリールには、該送り出しリールの
回転に対して負荷を与えることによって前記研摩テープ
に張力を与える引張手段を連結すると共に、該送り出し
リールにおける研摩テープの残量を検出するテープ残量
検出器を付設し、該テープ残量検出器におけるテープ残
量に関する信号に基づいて前記引張手段による研摩テー
プの張力を制御する構成としたことを特徴とするディス
ク基板の研摩装置。
A disk substrate is rotatably supported by a rotating device,
An abrasive tape sent out from a delivery reel is pressed against the disk substrate by a pressure member capable of reciprocating in the radial direction of the disk substrate, and the disk substrate is polished while the abrasive tape is transferred by a take-up roller. A tension means is connected to the delivery reel to apply tension to the abrasive tape by applying a load to the rotation of the delivery reel, and a tape remaining amount for detecting the remaining amount of the abrasive tape on the delivery reel. 1. A polishing apparatus for a disk substrate, characterized in that a detector is attached, and the tension of the polishing tape by the tensioning means is controlled based on a signal regarding the remaining amount of tape from the remaining tape amount detector.
JP5607986A 1986-03-15 1986-03-15 Polishing device for disc base board Pending JPS62213955A (en)

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