JPS6221323A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JPS6221323A JPS6221323A JP60161467A JP16146785A JPS6221323A JP S6221323 A JPS6221323 A JP S6221323A JP 60161467 A JP60161467 A JP 60161467A JP 16146785 A JP16146785 A JP 16146785A JP S6221323 A JPS6221323 A JP S6221323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- voltage
- transistor
- potential
- bipolar transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体装置に係り、特に高い駆動能力と大きな
出力振巾を得るのに好適な、バイポーラトランジスタと
絶縁ゲ・−ト型電界効果トランジスタ(以下、M■Sト
ランジスタという。)を用いた回路に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a semiconductor device, and particularly to a bipolar transistor and an insulated gate field effect transistor ( The present invention relates to a circuit using an M■S transistor (hereinafter referred to as an M■S transistor).
従来、バイポーラトランジスタとMISトランジスタを
用いた回路として、特開昭59−25423号公報に示
された半導体装置がある。2. Description of the Related Art Conventionally, as a circuit using bipolar transistors and MIS transistors, there is a semiconductor device disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-25423.
第17図は、上記半導体装置の構成図である。FIG. 17 is a configuration diagram of the semiconductor device.
第17図により、回路の動作ならびにその問題点を説明
する。この半導体装置は、0MO8(相補型MO3)と
バイポーラトランジスタ7の組合せ回路とMISトラン
ジスタ6とバイポーラトランジスタ8の組合せ回路を並
列に接続したものである。以下、負電源の電圧Vs、s
をOvとして説明を行う。入力端子1の電位がOvのと
き、PチャネルMIS)−ランジスタ4がオンし、バイ
ポーラトランジスタ7のベースに電流が流れ、このバイ
ポーラトランジスタ7はオンする。一方、バイポーラト
ランジスタ8は、ベースの電位がOvであるためオンし
ない。この結果、出力端子2へ電流が流れ、その出力端
子2の電位が上昇する。出力端子2の電位は、最終的に
は正電源の電圧Vceからバイポーラトランジスタ7の
ベース・エミッタ間順方向電圧VBEを差し引いた値に
なる。このように、第17図に示す従来の回路では、出
力端子2の電位は正電源の電圧Vccまで上昇しない。The operation of the circuit and its problems will be explained with reference to FIG. This semiconductor device has a combination circuit of an 0MO8 (complementary MO3) and a bipolar transistor 7, and a combination circuit of an MIS transistor 6 and a bipolar transistor 8 connected in parallel. Below, the voltage of the negative power supply Vs, s
The explanation will be given assuming that Ov is Ov. When the potential of the input terminal 1 is Ov, the P-channel MIS transistor 4 is turned on, current flows to the base of the bipolar transistor 7, and the bipolar transistor 7 is turned on. On the other hand, the bipolar transistor 8 does not turn on because the base potential is Ov. As a result, a current flows to the output terminal 2, and the potential of the output terminal 2 increases. The potential of the output terminal 2 ultimately becomes a value obtained by subtracting the base-emitter forward voltage VBE of the bipolar transistor 7 from the voltage Vce of the positive power supply. In this manner, in the conventional circuit shown in FIG. 17, the potential at the output terminal 2 does not rise to the voltage Vcc of the positive power supply.
また、MIS)−ランジスタとバイポーラトランジスタ
を組合せた回路からなる半導体装置として、前述の回路
の他には、特開昭59−8431号公報に示された駆動
回路がある。In addition to the above-mentioned circuit, there is a drive circuit disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 8431/1983 as a semiconductor device comprising a circuit combining a MIS transistor and a bipolar transistor.
第18図は、上記半導体装置の構成を示す図である6第
18図の回路は、逆向きの0M03回路とバイポーラト
ランジスタの組合せ回路を入出力端子間で並列に接続し
たものである。前述した第17図の回路では入力の反転
信号を出力するのに対し、第18図の回路は入力と同相
の背定信号を出力する。すなわち、入力端子10が高レ
ベルになるとMISトランジスタ13がオンし、バイポ
ーラトランジスタ17のベースに電流が流れてこのバイ
ポーラトランジスタ17はオンする。一方、Pチャネル
MIS)−ランジスタ15がオフ、NチャネルMISI
−ランジスタ16がオンするため、バイポーラトランジ
スタ18のベース電位はOvとなり、このバイポーラト
ランジスタエ8はオフする。この結果、出力端子11へ
電流が流れて、該出力端子11の電位は上昇する。この
とき、該出力端子11の電位は、正電源Vccより、N
チャネルMISトランジスタ13のしきい電圧7丁と、
バイポーラトランジスタ17のベース・エミッタ間順方
向電圧VBEを差し引いた値Vcc−VT−VBEまで
上昇するにのように、第18図の回路の出力レベルは、
第17図の出力レベルより、さらに低くなってしまう。FIG. 18 is a diagram showing the configuration of the semiconductor device described above.6 The circuit in FIG. 18 is a combination circuit of a reverse 0M03 circuit and a bipolar transistor connected in parallel between input and output terminals. The circuit shown in FIG. 17 described above outputs an inverted signal of the input, whereas the circuit shown in FIG. 18 outputs an inverted signal that is in phase with the input. That is, when the input terminal 10 becomes high level, the MIS transistor 13 is turned on, current flows to the base of the bipolar transistor 17, and the bipolar transistor 17 is turned on. On the other hand, P channel MIS) - transistor 15 is off, N channel MISI
- Since the transistor 16 is turned on, the base potential of the bipolar transistor 18 becomes Ov, and the bipolar transistor 8 is turned off. As a result, a current flows to the output terminal 11, and the potential of the output terminal 11 increases. At this time, the potential of the output terminal 11 is lower than the positive power supply Vcc by N
7 threshold voltages of the channel MIS transistor 13,
As the output level of the circuit shown in FIG. 18 increases to the value Vcc-VT-VBE obtained by subtracting the base-emitter forward voltage VBE of the bipolar transistor 17, the output level of the circuit shown in FIG.
The output level becomes even lower than the output level shown in FIG.
以上のように、従来回路では、出力レベルを十分高くす
ることができない。出力レベルが小さいと次段回路の入
力レベルが小さくなるために、次段回路の動作がおそく
なり、LSI全体としてみた場合、バイポーラトランジ
スタの高速性を十分に発揮できない。また、この問題は
、従来デバイスが微細化され、電源電圧を低くする必要
が生じたときに顕著となる。従って、バイポーラトラン
ジスタの高駆動能力を十分活した上で、十分に大きな出
力レベルを出せる回路が望まれる。As described above, the conventional circuit cannot make the output level sufficiently high. If the output level is small, the input level of the next-stage circuit becomes small, which slows down the operation of the next-stage circuit, and the high-speed performance of the bipolar transistor cannot be fully demonstrated when viewed as an entire LSI. Further, this problem becomes more noticeable when conventional devices are miniaturized and it becomes necessary to lower the power supply voltage. Therefore, a circuit is desired that can produce a sufficiently large output level while fully utilizing the high driving ability of bipolar transistors.
本発明の目的は、このような従来の問題点を改善し、バ
イポーラトランジスタの高駆動能力を活かし、かつ十分
大きな出力レベルを得ることが可能な半導体装置を提供
することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor device that can improve such conventional problems, take advantage of the high driving ability of bipolar transistors, and obtain a sufficiently large output level.
上記目的を達成するため、本発明の半導体装置は、前段
回路により制御され、かつ少なくとも1個のバイポーラ
トランジスタと、少なくとも1個の絶縁ゲート電界効果
トランジスタを含む回路で構成され、該回路は少なくと
も1つの電圧を基準として動作し、上記基準とする電圧
のうち少なくとも1つが上記回路を制御する前段回路が
基準として動作する電圧とは異なる電圧値を有すること
により、高い駆動能力と大きな出力振幅を得ることがで
きるようにした。In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention includes a circuit controlled by a pre-stage circuit and including at least one bipolar transistor and at least one insulated gate field effect transistor; By operating with one voltage as a reference, and at least one of the reference voltages having a voltage value different from the voltage at which the preceding circuit that controls the circuit operates as a reference, high driving capability and large output amplitude can be obtained. I made it possible.
以下1本発明の実施例を、図面により詳細に説明する。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、本発明の半導体装置の概念を説明する実施例
図である。第1図では、1人力、1出力の回路の場合を
例示している。第1図↓;おいて。FIG. 1 is an embodiment diagram illustrating the concept of a semiconductor device of the present invention. FIG. 1 shows an example of a circuit that is powered by one person and has one output. Figure 1 ↓;
Dは、バイポーラトランジスタとMISトランジスタを
含む組合せ回路、Cは回路りを制御する前段回路であり
、Aは回MCの動作の基準となる電圧を印加する端子、
B1〜Bnは回路りの動作の基準となる電圧を印加する
端子である。また、Eは回路Cの入力端子、Gは回路り
の出力端子で、接続線Fは回路りを制御する信号を回路
Cより伝達するための信号線である。D is a combination circuit including a bipolar transistor and an MIS transistor, C is a pre-stage circuit that controls the circuit, A is a terminal that applies a voltage that serves as a reference for the operation of the MC,
B1 to Bn are terminals to which voltages are applied as a reference for the operation of the circuit. Further, E is an input terminal of the circuit C, G is an output terminal of the circuit, and a connecting line F is a signal line for transmitting a signal from the circuit C to control the circuit.
本発明においては、B1〜Bnに印加する電圧のうち、
少なくとも1個以上の電圧を端子Aに印加する電圧より
高くすることにより、端子Gに出力される信号のレベル
を、信号!IFを介して回路りに入力される信号のレベ
ルより高くする。これにより、バイポーラトランジスタ
の高速性を活かしたままで、高レベルの信号を発生する
ことが可能になる。In the present invention, among the voltages applied to B1 to Bn,
By making at least one voltage higher than the voltage applied to terminal A, the level of the signal output to terminal G is changed to signal! The level should be higher than that of the signal input to the circuit via the IF. This makes it possible to generate high-level signals while taking advantage of the high-speed performance of bipolar transistors.
ここで、端子Aもしくは端子81〜Bnに与えられる電
圧は、必要に応じて一定レベルのものであってもまたパ
ルスであってもよいし、場合によっては1回路Cに複数
の電圧を基準として供給するようにしてもよい、また、
信号線Fが複数本であってもよい6本発明は、第1図に
限定されるものではなく、多入力、多出力の回路へ応用
することも可能であるが、説明を簡単にするため、以下
においても第1図と同一の構成をもとにした実施例を示
す。なお1回路Cとしては、第2図に示すようなCMO
Sインバータを用いることにする。第2図において、端
子Aは正電源vAに接続するが、これに限定されないこ
とも前記のとおりである。Here, the voltage applied to the terminal A or the terminals 81 to Bn may be at a constant level or a pulse as necessary, or in some cases, multiple voltages may be applied to one circuit C as a reference. You may also supply
There may be a plurality of signal lines F.6 The present invention is not limited to that shown in FIG. 1, and can be applied to multiple input and multiple output circuits, but for the sake of simplicity In the following, an embodiment based on the same configuration as that in FIG. 1 will be shown. Note that one circuit C is a CMO as shown in Fig. 2.
We will use an S inverter. In FIG. 2, the terminal A is connected to the positive power supply vA, but as described above, the connection is not limited thereto.
第3図は、本発明の第1の実施例を示す半導体装置の構
成図である。この実施例では、端子B1に回路りの動作
の基準となるパルス電圧を印加し、出力端子Gに前段回
路Cの動作基準電圧V Aより高いレベルを出力する。FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor device showing a first embodiment of the present invention. In this embodiment, a pulse voltage serving as a reference for the operation of the circuit is applied to the terminal B1, and a level higher than the operating reference voltage VA of the preceding stage circuit C is output to the output terminal G.
以下、第4図の電圧波形を用いて、第3図の動作を説明
する。入力端子EをOvとすると、第2図に示す前段回
路Cにより、信号線Fの電位は高レベルとなり、電圧v
Aで定常となる。このときの端子B1の電位は第4図で
はVAとなっているが、PチャネルM工Sトランジスタ
25のしきい電圧をVT26として−VA+IVT 2
61以下に設定してPチャネルM工Sトランジスタ25
がオフするようにすればよい。信号線Fの電位が高レベ
ルになると%NチャネルM工Sトランジスタ27がオン
してバイポーラトランジスタ26のベースがOvとなり
、バイポーラトランジスタ26はオフし、NチャネルM
ISトランジスタ29がオンするので、出力端子Gの電
位は0■となる。次に、入力端子Eの電位を、VAに立
ち上げて、信号線Fの電位を立ち上げ(第2図参照)、
端子B1の電位をvA以上に高くする。このとき、Pチ
ャネルMISトランジスタ25がオン、NチャネルMI
Sトランジスタ27がオフして、バイポーラトランジス
タ26にベース電流が流れ、バイポーラトランジスタ2
6がオンし、NチャネルMISトランジスタ29がオフ
するので、出力端子Gへ電流が流れて出力端子Gの電位
は上昇する。出力端子Gの電位は、バイポーラトランジ
スタ26のベースの電位より、ベース・エミッタ間順方
向電圧VBEを差し引いた電位まで達するので、所望の
出力レベルをvA+vα(Vα≧0)とすると。The operation shown in FIG. 3 will be explained below using the voltage waveform shown in FIG. 4. When the input terminal E is set to Ov, the potential of the signal line F becomes a high level due to the pre-stage circuit C shown in FIG. 2, and the voltage V
It becomes stationary at A. At this time, the potential of the terminal B1 is VA in FIG. 4, but the threshold voltage of the P-channel M/S transistor 25 is set to VT26, and -VA+IVT 2
Set it to 61 or less to connect the P-channel M-S transistor to 25
All you have to do is turn it off. When the potential of the signal line F becomes high level, the N-channel M/S transistor 27 is turned on, the base of the bipolar transistor 26 becomes Ov, the bipolar transistor 26 is turned off, and the N-channel M/S transistor 27 is turned on.
Since the IS transistor 29 is turned on, the potential of the output terminal G becomes 0■. Next, raise the potential of input terminal E to VA, raise the potential of signal line F (see Figure 2),
Increase the potential of terminal B1 to more than vA. At this time, the P-channel MIS transistor 25 is turned on, and the N-channel MIS transistor 25 is turned on.
S transistor 27 is turned off, base current flows to bipolar transistor 26, and bipolar transistor 2
6 is turned on and the N-channel MIS transistor 29 is turned off, so a current flows to the output terminal G and the potential of the output terminal G rises. Since the potential of the output terminal G reaches the potential obtained by subtracting the base-emitter forward voltage VBE from the potential of the base of the bipolar transistor 26, let us assume that the desired output level is vA+vα (Vα≧0).
端子B1の電位をvA+vα+VBEまで昇圧すれば、
出力端子Gに所望の出力レベルが得られる。If the potential of terminal B1 is boosted to vA+vα+VBE,
A desired output level can be obtained at the output terminal G.
入力端子Eの電位をOvに遷移させ、端子B。The potential of input terminal E is changed to Ov, and the potential of input terminal B is changed to Ov.
の電位をVAにもどすと、前記したように信号線Fの電
位がVAに上昇し、バイポーラトランジスタ26がオフ
、NチャネルM工Sトランジスタ29がオンして出力端
子Gの電位はOvになる。このときの81の電位は、前
にも述べたようにVA+IVT261以下であれば任意
の値に設定でき。When the potential of the signal line F is returned to VA, the potential of the signal line F rises to VA as described above, the bipolar transistor 26 is turned off, the N-channel M/S transistor 29 is turned on, and the potential of the output terminal G becomes Ov. The potential of 81 at this time can be set to any value as long as it is less than VA+IVT261, as described above.
例えば、VAと等しくすることもできる。For example, it can be made equal to VA.
以上述べたように、本実施例によれば、信号線Fより入
力される信号が低電圧の時のB1の電位を任意に設定す
ることにより、バイポーラトランジスタの高速性を活し
たままで、高電圧の出力を得ることができる。As described above, according to this embodiment, by arbitrarily setting the potential of B1 when the signal input from the signal line F is at a low voltage, the high-speed performance of the bipolar transistor can be utilized. You can get voltage output.
なお、第3図において、出力端子Gの電位を立ち下げる
ためのNチャネルMISトランジスタ29を、第5図の
30に示すような構成とすることも可能である。すなわ
ち1回路りは逆向きの0MO8とバイポーラトランジス
タの組合せを、並列に接続した構成となる。この場合に
は、NチャネルMIS)−ランジスタ40を流れる電流
が、バイポーラトランジスタ42により増幅されるので
。Note that in FIG. 3, the N-channel MIS transistor 29 for lowering the potential of the output terminal G can also be configured as shown at 30 in FIG. 5. That is, one circuit has a configuration in which a combination of an 0MO8 and a bipolar transistor in opposite directions are connected in parallel. In this case, the current flowing through the N-channel MIS transistor 40 is amplified by the bipolar transistor 42.
出力端子の電位の立ち下げを高速に行うことができる。The potential of the output terminal can be lowered quickly.
ただし、この場合には、出力端子Gの電位は、バイポー
ラトランジスタ42のベース・エミッタ間順方向電圧で
制限されるため、完全にOvまで下がらない。出力端子
Gの電位を完全にOvまで下げる必要のある場合には、
第3図のNチャネルMISトランジスタ29と並列に、
第5図の30を設置すればよい。なお、第5図において
、PチャネルMISトランジスタ41は、信号線FがO
vとなったときに、バイポーラトランジスタ42のベー
スに蓄積して電荷を引き抜いて、このバイポーラトラン
ジスタ42を確実にオフさせるためのものである。However, in this case, the potential of the output terminal G is limited by the base-emitter forward voltage of the bipolar transistor 42, and therefore does not completely drop to Ov. If it is necessary to completely lower the potential of the output terminal G to Ov,
In parallel with the N-channel MIS transistor 29 in FIG.
30 in FIG. 5 may be installed. Note that in FIG. 5, the P-channel MIS transistor 41 has a signal line F connected to
This is to ensure that the bipolar transistor 42 is turned off by accumulating the charge at the base of the bipolar transistor 42 and extracting the charge when the voltage becomes v.
第6図は本発明の第2の実施例を示す半導体装置の構成
図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor device showing a second embodiment of the present invention.
本実施例と第3図の実施例との違いは、第3図ではバイ
ポーラトランジスタ26のコレクタとPチャネルMIS
トランジスタ25のソースが端子B1に接続されている
のに対し、第6図では、PチャネルMISトランジスタ
51のソースのみが端子B1に接続され、バイポーラト
ランジスタ52のコレクタ端子B2とは接続されていな
い点である。つまり、第6図の構成では、端子B、から
はバイポーラトランジスタ52のベース電流のみを供給
すればよい。したがって、第3図のようにバイポーラト
ランジスタ26のベースとコレクタ電流を両方B1より
供給する場合と比較して、端子Blを駆動する回路の負
担が軽減されるため、高速動作が可能となる。その他の
動作については、第3図と同じである。The difference between this embodiment and the embodiment shown in FIG. 3 is that in FIG.
While the source of the transistor 25 is connected to the terminal B1, in FIG. 6, only the source of the P-channel MIS transistor 51 is connected to the terminal B1, and is not connected to the collector terminal B2 of the bipolar transistor 52. It is. In other words, in the configuration shown in FIG. 6, only the base current of the bipolar transistor 52 needs to be supplied from the terminal B. Therefore, compared to the case where both the base and collector currents of the bipolar transistor 26 are supplied from B1 as shown in FIG. 3, the burden on the circuit that drives the terminal B1 is reduced, and high-speed operation is possible. Other operations are the same as in FIG. 3.
なお、第6図において、バイポーラトランジスタ52の
コレクタは端子B2に接続されており、ベース55へ電
流を供給する端子B1とは独立に電位を設定できる。し
たがって、この端子B2の電位をバイポーラトランジス
タ52のベース55の電位より高く保つことによって、
該バイポーラトランジスタ52が飽和することを確実に
防止できる。そのためには、ベース55の電位変動に同
期して、ベース電圧以上の振幅を有するパルス電圧をB
2に与えてもよいし、B2の電位をベース55の電位の
上限より高い一定値に保ってもよい。Note that in FIG. 6, the collector of the bipolar transistor 52 is connected to the terminal B2, and the potential can be set independently of the terminal B1 that supplies current to the base 55. Therefore, by keeping the potential of this terminal B2 higher than the potential of the base 55 of the bipolar transistor 52,
It is possible to reliably prevent the bipolar transistor 52 from becoming saturated. To do this, a pulse voltage with an amplitude greater than the base voltage must be applied to B in synchronization with the potential fluctuation of the base 55.
2, or the potential of B2 may be kept at a constant value higher than the upper limit of the potential of the base 55.
後者の場合、信号1sFが高レベルとなって、出力端子
Gの電位が低レベルへ遷移したときにバイポーラトラン
ジスタ52のコレクタ・エミッタ間に高い電圧がかかる
が、このときベース55は、NチャネルMISトランジ
スタ53により接地されているため、バイポーラトラン
ジスタ52の耐圧は、BVCES (ベース接地時のコ
レクタ・エミッタ間耐圧)で決るので、ベースをフロー
ティング状態とした場合と比較して高くなるので問題は
ない。In the latter case, when the signal 1sF becomes a high level and the potential of the output terminal G transitions to a low level, a high voltage is applied between the collector and emitter of the bipolar transistor 52. At this time, the base 55 is connected to the N-channel MIS. Since the bipolar transistor 52 is grounded by the transistor 53, the breakdown voltage of the bipolar transistor 52 is determined by BVCES (collector-emitter breakdown voltage when the base is grounded), so there is no problem because it is higher than when the base is in a floating state.
なお、第6図において電源電圧の変動などによってバイ
ポーラトランジスタ52が一時的に深く飽和する恐れの
生じる場合があるときには、同図のように端子B1とB
2の間にダイオードDI○を挿入して、端子B1の電位
が異常に高くなった場合にダイオードを通じて電流を流
してバイポーラトランジスタ52が深く飽和するのを防
止すればよい。なお、第6図において、出力端子Gの電
位を立ち下げる回路30は、必要に応じ第3図のように
M工Sトランジスタ29のみで構成してもよいし、第5
図のようにバイポーラトランジスタとMISトランジス
タで構成してもよいし、両者を並列に用いてもよいこと
は前に述べたとうりである。In addition, in FIG. 6, when there is a possibility that the bipolar transistor 52 is temporarily deeply saturated due to fluctuations in the power supply voltage, the terminals B1 and B are connected as shown in the same figure.
A diode DI○ may be inserted between the terminals 2 and 2 to prevent the bipolar transistor 52 from becoming deeply saturated by causing current to flow through the diode when the potential of the terminal B1 becomes abnormally high. In addition, in FIG. 6, the circuit 30 that lowers the potential of the output terminal G may be configured only with the M/S transistor 29 as shown in FIG.
As mentioned above, it may be constructed of bipolar transistors and MIS transistors as shown in the figure, or both may be used in parallel.
第7図は本発明の第3の実施例を示す半導体装置の構成
図である。FIG. 7 is a configuration diagram of a semiconductor device showing a third embodiment of the present invention.
第7図と第6図の回路上の大きな違いは、第6図では回
路りは信号線Fより入力される信号の反転信号を出力す
る。いわゆるインバータ動作をするのに対して、第7図
では入力Fと同相の信号を出力する、いわゆるノンイン
バータ動作をする点である。The major difference between the circuits in FIG. 7 and FIG. 6 is that in FIG. 6, the circuit outputs an inverted signal of the signal input from the signal line F. In contrast to the so-called inverter operation, in FIG. 7, a so-called non-inverter operation is performed in which a signal in phase with the input F is output.
第7図において、バイポーラトランジスタ83は出力端
子Gへ電流を供給して該端子Gの電位を立ち上げるため
のトランジスタ、NチャネルMISトランジスタ84は
、出力端子GよりVssへ電流を流し出し、該端子Gの
電位を立ち下げるためのトランジスタで、その他のMI
Sトランジスタは、上記バイポーラトランジスタ83と
MISトランジスタ84のオン、オフを制御するための
ものである。In FIG. 7, a bipolar transistor 83 is a transistor for supplying a current to an output terminal G to raise the potential of the terminal G, and an N-channel MIS transistor 84 is a transistor for supplying a current from an output terminal G to Vss, and a transistor for supplying a current to an output terminal G to raise the potential of the terminal G. Transistor for lowering the potential of G, other MI
The S transistor is for controlling on/off of the bipolar transistor 83 and MIS transistor 84.
以下、第8図の電圧波形を用いて、第7図の実施例の動
作を説明する。The operation of the embodiment shown in FIG. 7 will be described below using the voltage waveform shown in FIG.
図では、説明を簡単にするため、端子B2の電位はバイ
ポーラトランジスタ83のベース76の電位の上限値よ
り高い一定値に保たれているものとするが、バイポーラ
トランジスタ83を飽和させない範囲でベース76の電
位変動に同期したパルス電圧を印加してもよい。入力端
子Eの電位をvAとすると、回1cによって信号線Fの
電位がOvとなるので、NチャネルMISトランジスタ
75がオフ、PチャネルMIS)−ランジスタ80がオ
ン、NチャネルMIS)−ランジスタ81がオフして、
87の電位はvAとなる。その結果、NチャネルM工S
トランジスタ77がオンしてバイポーラトランジスタ8
3がオフし、Nチャネル間工Sトランジスタ84がオン
するので、出力端子GはOvとなる。次に、入力端子E
をOvに立ち下げると、信号11Fの電位はvAとなり
、その結果NチャネルMISトランジスタ75のゲート
88が、vAより、NチャネルM■Sトランジスタ74
のしきい電圧を差し引いた電圧に充電される。In the figure, in order to simplify the explanation, it is assumed that the potential of the terminal B2 is kept at a constant value higher than the upper limit of the potential of the base 76 of the bipolar transistor 83. A pulse voltage synchronized with potential fluctuations may be applied. When the potential of the input terminal E is vA, the potential of the signal line F becomes Ov by the cycle 1c, so the N-channel MIS transistor 75 is turned off, the P-channel MIS)-transistor 80 is turned on, and the N-channel MIS)-transistor 81 is turned on. Turn it off,
The potential of 87 is vA. As a result, N channel M
Transistor 77 turns on and bipolar transistor 8
3 is turned off and the N-channel intermediate S transistor 84 is turned on, so that the output terminal G becomes Ov. Next, input terminal E
When the potential of the signal 11F falls to Ov, the potential of the signal 11F becomes vA, and as a result, the gate 88 of the N-channel MIS transistor 75 becomes
will be charged to the voltage minus the threshold voltage.
一方、PチャネルM工Sトランジスタ8oがオフ、Nチ
ャネル間工Sトランジスタ81がオンするので、87の
電位がOvとなり、NチャネルMISトランジスタ84
.77はオフする。On the other hand, since the P-channel M-S transistor 8o is turned off and the N-channel S-transistor 81 is turned on, the potential of 87 becomes Ov, and the N-channel MIS transistor 84
.. 77 is off.
この状態で端子B1の電位をVA以上に昇圧すると、M
ISトランジスタ75のゲート88は、あらかじめ、v
AからNチャネルMISトランジスタ74のしきい電圧
を差し引いた電圧に充電されているため、NチャネルM
IS)−ランジスタフ5のゲート88とB1の間の自己
容量によって88はB1より高電位に昇圧される。この
ため、バイポーラトランジスタ83のベース76に電流
が流れ、該ベース76の電位はNチャネルMISトラン
ジスタ75のしきい電圧に制限されずに端子B1の電位
まで上昇する。その結果、出力端子Gの電位は、B1の
電位から、バイポーラトランジスタ83のベース・エミ
ッタ間順方向電圧VBEを差し引いた値まで上昇する。In this state, if the potential of terminal B1 is boosted above VA, M
The gate 88 of the IS transistor 75 is connected in advance to v
Since it is charged to the voltage obtained by subtracting the threshold voltage of the N-channel MIS transistor 74 from A, the N-channel MIS transistor 74
IS) - Due to the self-capacitance between the gate 88 of the Langistav 5 and B1, 88 is boosted to a higher potential than B1. Therefore, a current flows to the base 76 of the bipolar transistor 83, and the potential of the base 76 is not limited by the threshold voltage of the N-channel MIS transistor 75 and rises to the potential of the terminal B1. As a result, the potential of the output terminal G rises to a value obtained by subtracting the base-emitter forward voltage VBE of the bipolar transistor 83 from the potential of B1.
所望の出力レベルをvA+vαとすれば、B1の電位を
vA+vα+VBEにすればよい。なおNチャネルMI
S)−ランジスタフ4は、そのゲート73の電圧をvA
としているため、ゲート88がVA以上に昇圧されたと
きにオフしてゲート88より信号線Fへ電流が逆流する
ことを防止する役割を果す。次に、入力端子Eの電位を
vAに立ち上げ、端子B1の電位を立ち下げると、信号
線FがOv、ゲート87がvAとなってバイポーラトラ
ンジスタ83がオフしたまま、Nチャネル間工Sトラン
ジスタ84がオンして出力端子GはOvとなる。このと
き、バイポーラトランジスタ83のベース76は、Nチ
ャー未ルM工Sトランジスタ77を通して接地されるた
め、該バイポーラトランジスタ83の耐圧は高くなり、
B2の高電圧が加わったままの状態でもバイポーラトラ
ンジスタ83が破壊される恐れは少ないことは、第6図
の場合と同様である6以上述べたように本実施例によれ
ば、入力と同様の高出力レベルの信号を発生することが
可能になる。If the desired output level is vA+vα, the potential of B1 may be set to vA+vα+VBE. Note that N-channel MI
S)-Langistav 4 sets the voltage at its gate 73 to vA
Therefore, when the gate 88 is boosted to a level higher than VA, it is turned off and serves to prevent current from flowing backward from the gate 88 to the signal line F. Next, when the potential of the input terminal E is raised to vA and the potential of the terminal B1 is lowered, the signal line F becomes Ov and the gate 87 becomes vA, and while the bipolar transistor 83 remains off, the N-channel intermediate S transistor 84 is turned on and the output terminal G becomes Ov. At this time, the base 76 of the bipolar transistor 83 is grounded through the N-channel, M-channel, and S transistor 77, so that the withstand voltage of the bipolar transistor 83 becomes high.
The bipolar transistor 83 is unlikely to be destroyed even if the high voltage remains applied to B2, as in the case of FIG. It becomes possible to generate high output level signals.
なお、出力端子Gの電位を引き下げるための回路86と
しては、必要に応じて第9図の回路を用いてもよく、第
9図の回路とNチャネルMISトランジスタ84とを並
列に用いてもよい、また、電源電圧の変動などによって
バイポーラトランジスタ83が一時的に深く飽和する恐
れのある場合は、第6図で示したように、B1とB2の
間に、ダイオードを接続して、B1の電位が82に対し
て異常に上昇することを防止すればよい。Note that as the circuit 86 for lowering the potential of the output terminal G, the circuit shown in FIG. 9 may be used as necessary, or the circuit shown in FIG. 9 and the N-channel MIS transistor 84 may be used in parallel. In addition, if there is a possibility that the bipolar transistor 83 may be temporarily deeply saturated due to fluctuations in the power supply voltage, etc., as shown in FIG. 6, connect a diode between B1 and B2 to reduce the potential of B1. What is necessary is to prevent the value from increasing abnormally with respect to 82.
第1O図は1本発明の第4の実施例を示す半導体装置の
構成図である。FIG. 1O is a block diagram of a semiconductor device showing a fourth embodiment of the present invention.
第7図と第10図の回路上の最も大きな相違点は、第7
図ではバイポーラトランジスタ83のコレクタとベース
とが電気的に分離されているのに対し、第10図では、
バイポーラトランジスタ104のコレクタとベースとの
間にNチャネルMISトランジスタ103を挿入してB
2よりベース電流とコレクタ電流を供給している点であ
る。The biggest difference in the circuits between Figures 7 and 10 is
In the figure, the collector and base of the bipolar transistor 83 are electrically separated, whereas in FIG.
By inserting an N-channel MIS transistor 103 between the collector and base of the bipolar transistor 104,
2, the base current and collector current are supplied.
以下、本実施例の動作を説明する。なお、所望の出力レ
ベルをvA+vαとし、端子B2には、vA+vα+V
BHの電圧が与えられているものとする。ここでVBE
は、バイポーラトランジスタ104のベース・エミッタ
間順方向電圧とする。The operation of this embodiment will be explained below. Note that the desired output level is vA+vα, and terminal B2 has vA+vα+V.
It is assumed that the voltage of BH is applied. Here VBE
is the base-emitter forward voltage of the bipolar transistor 104.
端子B1がOvの状態で入力端子Eの電位をVAからO
vへ立ち下げると、第7図の場合と同様にして、Nチャ
ネルM工Sトランジスタ103のゲートは、VAよりN
チャネルMISトランジスタ102のしきい電圧を差し
引いた電位まで充電される。このとき、NチャネルM工
Sトランジスタ105.108は、オフしているため、
端子B2よリバイポーラトランジスタ104のベースに
電流が流れて、バイポーラトランジスタ104がオンし
、出力端子Gへ電流が流れて端子Gの電位は上昇する。When terminal B1 is Ov, the potential of input terminal E is changed from VA to O.
When the voltage falls to V, the gate of the N-channel M/S transistor 103 becomes lower than VA as in the case of FIG.
It is charged to a potential obtained by subtracting the threshold voltage of channel MIS transistor 102. At this time, since the N-channel M/S transistors 105 and 108 are off,
A current flows from the terminal B2 to the base of the bipolar transistor 104, turning on the bipolar transistor 104, a current flows to the output terminal G, and the potential of the terminal G rises.
バイポーラトランジスタ104のベース電位は、Nチャ
ネルMISトランジスタ102゜103のしきい電圧を
、各々VTI 02 p vTL03とすると、vA
VT102−VT103までしか上昇せず、出力Gの電
位はさらにVBE落ちるので、このままではVA以上の
出力レベルを得ることができない、そこで、ゲート11
2が充電された状態で、端子B1にパルス電圧を印加し
て、容量100によって、ゲート112の電位をVA+
V(!+VBE+V7103以上に昇圧する。その結果
、バイポーラトランジスタ104のベース電位は、■A
+vα+VBEまで上昇して、出力端子Gの電位は所望
の出力レベルvA+vαまで達する。本実施例では、バ
イポーラトランジスタ104のベース電位は、端子B2
と等しいレベルまでしか上がらないので、端子B2の電
位が、何らかの原因で下が)たとしてもバイポーラトラ
ンジスタ104が飽和することはない0次に、入力端子
Eの電位をOvからVAに立ち上げると、信号線FがO
vとなり、NチャネルMISトランジスタ103と、1
07がオフし、PチャネルM■Sトランジスタ106が
オン、NチャネルMISトランジスタ105がオンする
ため、バイポーラトランジスタ104がオフ、Nチャネ
ルMISトランジスタ108がオンして出力端子Gの電
位はOvとなる。なお、本実施例においても、必要に応
じて出力端子Gを立ち下げる回路113を、第11図の
構成としてもよく、また、第11図の回路を、第10図
のNチャネルM工Sトランジスタ108を並列に接続し
てもよいことは第7図の実施例の場合と同じである。ま
た、上記の説明においては、端子B2の電位をvA+v
α+VBEの一定レベルとしたが、ゲート112が充電
された後に、端子B2&、:OVからV A + V
a + V B Eに達するパルス電圧を与えてもよい
、このとき、ゲート112の電位はNチャネルM工Sト
ランジスタ103のゲート112と端子B2の間の自己
容量で昇圧されるため、容量100.端子B1は必ずし
も必要としない。The base potential of the bipolar transistor 104 is vA, assuming that the threshold voltages of the N-channel MIS transistors 102 and 103 are VTI 02 p vTL03, respectively.
Since the potential of the output G only rises to VT102-VT103 and further drops by VBE, it is not possible to obtain an output level higher than VA as it is, so the gate 11
2 is charged, a pulse voltage is applied to the terminal B1, and the potential of the gate 112 is set to VA+ by the capacitor 100.
V(!+VBE+V7103 or more. As a result, the base potential of the bipolar transistor 104 becomes ■A
+vα+VBE, and the potential at output terminal G reaches the desired output level vA+vα. In this embodiment, the base potential of the bipolar transistor 104 is the terminal B2.
Therefore, even if the potential of terminal B2 drops for some reason, the bipolar transistor 104 will not be saturated.Next, when the potential of input terminal E is raised from Ov to VA, , signal line F is O
v, and the N-channel MIS transistor 103 and 1
07 is turned off, the P-channel M■S transistor 106 is turned on, and the N-channel MIS transistor 105 is turned on, so that the bipolar transistor 104 is turned off and the N-channel MIS transistor 108 is turned on, so that the potential of the output terminal G becomes Ov. In this embodiment as well, the circuit 113 that pulls down the output terminal G may have the configuration shown in FIG. 11 if necessary, or the circuit shown in FIG. 108 may be connected in parallel, as in the embodiment of FIG. In addition, in the above explanation, the potential of terminal B2 is vA+v
α + VBE is set at a constant level, but after the gate 112 is charged, V A + V from terminal B2&, :OV
A pulse voltage reaching a + VBE may be applied. At this time, since the potential of the gate 112 is boosted by the self-capacitance between the gate 112 of the N-channel M-S transistor 103 and the terminal B2, the capacitance 100. Terminal B1 is not necessarily required.
このように6本実施例では、バイポーラトランジスタと
MISトランジスタを含む回路において、動作の基準と
なる電圧を該回路を制御する前段回路が基準とする電圧
とは異なる値に設定することによって、バイポーラトラ
ンジスタの高駆動能力を最大限に活した上で、前段回路
の基準電圧以上の高い出力振幅を持つ半導体装置が実現
できる。In this way, in this embodiment, in a circuit including a bipolar transistor and an MIS transistor, by setting the reference voltage for operation to a value different from the reference voltage of the preceding stage circuit that controls the circuit, the bipolar transistor By making full use of the high drive capability of the semiconductor device, it is possible to realize a semiconductor device with a high output amplitude higher than the reference voltage of the previous stage circuit.
ところで、これまで説明してきた実施例では、端子B1
にパルス電圧を印加する必要がある。パルス電圧を発生
する回路は多種あり、その回路構成もよく知られている
ため、ここでは明示しないが、例えば、第9図の電圧波
形に示したようなパルス電圧を発生する回路しては、石
原、宮沢。By the way, in the embodiments described so far, the terminal B1
It is necessary to apply a pulse voltage to There are many types of circuits that generate pulse voltages, and their circuit configurations are well known, so they will not be explained here, but for example, a circuit that generates pulse voltages as shown in the voltage waveform of FIG. Ishihara, Miyazawa.
酒井共著「サイクル時間50nsのスタチック・コラム
・モード付き256K 0MO3ダイナミックRAMJ
、日経エレクトロニクス、1985年2月11日号、
PP243〜263の図7に示された回路がある。また
、これまで示した実施例において、PチャネルMISト
ランジスタ(例えば。Co-authored by Sakai “256K 0MO3 Dynamic RAMJ with Static Column Mode with Cycle Time 50ns”
, Nikkei Electronics, February 11, 1985 issue,
There is a circuit shown in FIG. 7 for PP243-263. Furthermore, in the embodiments shown so far, a P-channel MIS transistor (for example.
第3図の25)のソースが高電位となるものがあるが、
PチャネルMISトランジスタのウェルの電位をソース
の電位より高く保ち、ソース、ウェル間に過大な順方向
電流の流れ、いわゆるラッチアップが起こることを防ぐ
必要があることはいうまでもない、さらに、以上の実施
例においては、Kチャネル間工Sトランジスタのドレイ
ン、ソース間に高い電圧のかかるもの(例えば、第3図
の29)があるが、耐圧の点から問題がある場合には、
該NチャネルMISトランジスタのドレインと、ドレイ
ンが接続されている端子の間に、ゲートの電位をVAと
したNチャネルMISトランジスタを直列に挿入するこ
とにより上記した耐圧の点で問題のあるNチャネル間工
Sトランジスタのドレイン・ソース間にかかる電圧を低
減すればよい。In some cases, the source of 25) in Figure 3 is at a high potential.
It goes without saying that it is necessary to keep the potential of the well of the P-channel MIS transistor higher than the potential of the source to prevent the flow of excessive forward current between the source and the well, so-called latch-up. In this embodiment, there is a K-channel intermediate S transistor in which a high voltage is applied between the drain and source (for example, 29 in FIG. 3), but if there is a problem in terms of withstand voltage,
By inserting an N-channel MIS transistor with a gate potential of VA in series between the drain of the N-channel MIS transistor and the terminal to which the drain is connected, the N-channel connection that has the above-mentioned problem in breakdown voltage can be solved. The voltage applied between the drain and source of the S transistor can be reduced.
本発明には種々の用途が考えられるが、特にダイナミッ
ク型半導体記憶装置のワードドライバとして好適である
。何故なら、高速のダイナミック “型半導体記
憶装置を実現するためには、選択されたワード線を高速
かつ高振幅に駆動し、信号電圧を大きくしてS/Nを高
め、さらに蓄積電荷を大きくしてソフトエラー耐性を高
めることが必要なためである0以上の事情については、
ITOH。Although the present invention can be used in various ways, it is particularly suitable as a word driver for a dynamic semiconductor memory device. This is because, in order to realize a high-speed dynamic "type semiconductor memory device," it is necessary to drive the selected word line at high speed and high amplitude, increase the signal voltage to increase the S/N, and further increase the accumulated charge. Regarding the circumstances of 0 or more, which is due to the need to increase soft error resistance,
ITOH.
K、and SUNAMI、H,rハイデンシティ・ワ
ンデバイス・ダイナミックモス・メモリセルズ」’Hi
gh density one−device
dynamic MOS memory call
s’、 I EE PROC,、vol、 130
ePt、、1. No、3. JUNE 1
983.ppl 27〜135に詳細がある。K, and SUNAMI, H, r High Density One Device Dynamic MOS Memory Cells''Hi
gh density one-device
dynamic MOS memory call
s', IEE PROC,, vol, 130
ePt,,1. No, 3. JUNE 1
983. Details can be found in ppl 27-135.
次に、ダイナミック型半導体記憶装置のワードドライバ
に1本発明を応用した場合の一例を示す。Next, an example will be shown in which the present invention is applied to a word driver of a dynamic semiconductor memory device.
第12図はダイナミック型半導体メモリのブロック図で
あり、NビットのメモリセルアレーMCAと周辺回路群
が示されている。FIG. 12 is a block diagram of a dynamic semiconductor memory, showing an N-bit memory cell array MCA and a group of peripheral circuits.
このメモリセルアレーMCAには、1本のワード線WL
とj本のデータ線DLが交差配列され、ワード線とデー
タ線の交点のうちN個にメモリセルMCが配置されてい
る。アドレスバッファ回路ABX、ABYには各々アド
レス入力Xo −Xn 。This memory cell array MCA has one word line WL.
and j data lines DL are arranged in an intersecting manner, and memory cells MC are arranged at N intersections between word lines and data lines. Address inputs Xo to Xn are provided to address buffer circuits ABX and ABY, respectively.
yo7Ymが印加され、その出力が、デコーダ・ドライ
バ回路XD、VDに伝達される。これらのデコーダ・ド
ライバ回路XD、VDのうち回路XDによりワード線が
1回路YDにより書き込み・読み出し回路RCがそれぞ
れ駆動され、メモリセルアレーMCA内の選択されたメ
モリセルMCへの情報の書き込み、あるいは該メモリセ
ルMCからの情報の読み出しを行う、CCは書き込み・
読み出し制御回路で、この回路CCは、チップセレクト
信号C5,書き込み動作制御信号WE、入力信号DIに
よって前記アドレスバッファ回路ABX、ABY、デコ
ーダ・ドライバ回路XD、YD。yo7Ym is applied, and its output is transmitted to the decoder/driver circuits XD and VD. Of these decoder/driver circuits XD and VD, the circuit XD drives the word line, and the circuit YD drives the write/read circuit RC, respectively, to write information to a selected memory cell MC in the memory cell array MCA, or CC reads information from the memory cell MC.
A read control circuit, this circuit CC controls the address buffer circuits ABX, ABY, and decoder/driver circuits XD, YD in response to a chip select signal C5, a write operation control signal WE, and an input signal DI.
書き込み・読み出し回路RC1出力回路OCを制御する
。出力回路OCは、書き込み・読み出し回路RCにより
読み出された情報を外部へ出力するための回路である。Write/read circuit RC1 controls output circuit OC. The output circuit OC is a circuit for outputting the information read by the write/read circuit RC to the outside.
上記の構成において1本実施例の回路をデコーダ・ドラ
イバ回路’XDに適用することにより、ワード線WLの
レベルを高速かつ高振幅に駆動させることが可能になり
、高速で安定度の高いダイナミックメモリが実現できる
。In the above configuration, by applying the circuit of this embodiment to the decoder/driver circuit 'XD, it becomes possible to drive the level of the word line WL at high speed and with high amplitude, and it becomes possible to drive the level of the word line WL at high speed and with high stability. can be realized.
なお、第12図において、書き込み・読み出し回路RC
は、その一部を、デコーダ・ドライバ回路VDと反対側
のメモリセルアレーMCAの端に配置して、デコーダ・
ドライバ回路VDからの制御信号をメモリセルアレーM
CAの上を通して制御することもできる。また、第12
図においては、X系のアドレス入力Xo−Xnと、Y系
のアドレス入力YO−ymとを別々の入力端子より入力
しているが1例えば、1977 l5SCCrダイジ
エスト・オブ・テクニカル・ペーパーズJ″Diges
t of Technical Papers”P、1
2〜13に述べられているように、これらの入力端子を
共用とし、時間差を設けて入力する方式、いわゆる1ア
ドレスマルチプレツクス方弐′ を採用することもでき
る。In addition, in FIG. 12, the write/read circuit RC
A part of the circuit is placed at the end of the memory cell array MCA on the opposite side from the decoder/driver circuit VD, and the decoder/driver circuit VD is
The control signal from the driver circuit VD is sent to the memory cell array M.
It can also be controlled through the CA. Also, the 12th
In the figure, the X-system address input Xo-Xn and the Y-system address input YO-ym are input from separate input terminals.
to of Technical Papers"P, 1
As described in 2 to 13, it is also possible to use a method in which these input terminals are shared and input with a time difference, the so-called 1-address multiplex method 2'.
その場合には、アドレスの取り込みを制御する信号、い
わゆるRAS、CASをチップセレクト信号C8の代わ
りに用いて上記書き込み・読み出し制御回路を駆動すれ
ばよい。In that case, signals for controlling address capture, so-called RAS and CAS, may be used in place of the chip select signal C8 to drive the write/read control circuit.
第13図は、第12図をさらに具体化した実施例図であ
り、メモリセルアレーMCAとデコーダ・ドライバ回路
XDの一部をさらに詳しく示したものである。FIG. 13 is an embodiment diagram that is a more specific version of FIG. 12, and shows a part of the memory cell array MCA and the decoder/driver circuit XD in more detail.
第13図においてDECo 、DECIはデコーダ、W
Do t W D 1はワードドライバで、 wL、
otWL□はワード線、D L o+ D L oは対
をなすデータ線、MC,、MCIはメモリセルである。In FIG. 13, DECo and DECI are decoders, W
Do t W D 1 is a word driver, wL,
otWL□ is a word line, D Lo+D Lo is a pair of data lines, and MC, MCI are memory cells.
なお。In addition.
EQはデータ線を電位的に平衡にするためのイコライザ
ー、SAはセンスアンプである。EQ is an equalizer for making the data lines potential balanced, and SA is a sense amplifier.
イコライザーEQならびにセンスアンプSAの回路構成
については、1984 l5SCCrダイジエスト・
オフ・テクニカル・ペーパーズJ”Dige、st o
f Technical Papers”、 P、 2
76 N277などに詳しいので、ここでは省略する。Regarding the circuit configuration of the equalizer EQ and sense amplifier SA, please refer to the 1984 l5SCCr Digest.
Off Technical Papers J”Dige, sto
f Technical Papers”, P, 2
76 N277 etc., so I will omit it here.
なお、デコーダDECo 、DECIは、各々端子13
o。Note that the decoders DECo and DECI are connected to terminals 13 and 13 respectively.
o.
137に印加される電圧vAを基準として動作し、本発
明を応用したワードドライバWDO、WDIは、各々端
子1.54,157に印加されるパルス電圧φX、端子
155,158に印加される電圧vH1端子156,1
59に印加されるパルス電圧φLを基準として動作する
。ここで、電圧vHを、バイポーラトランジスタ150
等を飽和させない電位とすることは言うまでもない。The word drivers WDO and WDI to which the present invention is applied operate based on the voltage vA applied to the terminal 137, and the word drivers WDO and WDI operate based on the pulse voltage φX applied to the terminals 1.54 and 157, and the voltage vH1 applied to the terminals 155 and 158, respectively. Terminal 156,1
It operates based on the pulse voltage φL applied to the terminal 59. Here, the voltage vH is set to the bipolar transistor 150
Needless to say, the voltage should be set to a potential that does not saturate the voltage and the like.
ワードドライバWDo t WDLの回路構成は、Nチ
ャネル部工Sトランジスタ151,165と並列にNチ
ャネルM工Sトランジスタ152,166を!置したこ
とを除けば、第7図の回路りと同じである。以下、第1
4図の電圧波形を用いて、第13図における読み出し動
作を説明する。The circuit configuration of the word driver WDot WDL includes N-channel M-S transistors 151, 165 and N-channel M-S transistors 152, 166 in parallel! The circuit is the same as that shown in FIG. 7, except that the Below, the first
The read operation in FIG. 13 will be explained using the voltage waveform in FIG. 4.
読み出し動作を始めるにあたり、データ線対DLO+D
LOを、イコライザーEQによって約1/2vAの等し
い電位とした後、フローティング状態とする。一方、全
てのアドレスバッファ出力AXOpAXO・・・・AX
Rを全てOvとした状態でプリチャージ信号φPをOv
としてNチャネルMISトランジスタ148,164の
ゲートを各々vAより、NチャネルMISトランジスタ
145゜163のしきい電圧を差し引いた電圧にプリチ
ャージするにこでは、2つのワードドライバのみ示した
が、実際はすべてのワードドライバについて同時にプリ
チャージを行う0次に5プリチヤ一ジ信号φPを立ち上
げた後、アドレスバッファ出力の肯定、否定のいずれか
一方が立ち上り、それに応じてデコーダDEC中のNチ
ャネルMISトランジスタの一部がオンして上記プリチ
ャージされたMIS)−ランジスタのゲートのうち選択
するワード線に接続されたワードドライバ以外の非選択
ワードドライバのゲートはOvとなる。ここでは、ワー
ド@WLOが選択される場合を示しており、Nチャネル
MISトランジスタ148のゲートはプリチャードされ
たままである。一方、NチャネルMISトランジスタ1
64のゲートは非選択であるから0■になる。また、D
EC,の出力はOvとなるので、非選択ワード線WL1
は、ワードドライバWD、中のNチャネルMISトラン
ジスタ165がオンしてOvに固定される1次に、ワー
ドラッチ信号φLを立ち下げ、信号φXをovがらVA
+Vα+VBEへ立ち上げると、wDo中のNチャネル
MISトランジスタ148のゲートはプリチャージさね
ているため昇圧され、第7図の回路動作と同様にしてワ
ード線WLoの電位は、vA+Vαに立ち上がる。一方
、WD、中のNチャネルMISトランジスタ164のゲ
ートはOVであるため昇圧されず、該NチャネルMIS
トランジスタ164はオフしており、ワード線WL、の
電位はOvのままである0選択されたワード線WLaの
電位が立ち上がると、メモリセルアレー中のNチャネル
MISトランジスタ160がオンし、メモリセルMCo
よりデータ線DLoへ信号が読み出され、データ@DL
、と、対をなすデータ線DLoとの間に微小な電位差を
生ずる。To start a read operation, data line pair DLO+D
After the LO is set to an equal potential of about 1/2 vA by the equalizer EQ, it is set in a floating state. On the other hand, all address buffer outputs AXOpAXO...AX
With all R set to Ov, precharge signal φP is set to Ov.
In this example, only two word drivers are shown, but in reality, all After raising the 0th and 5th precharge signal φP that simultaneously precharges the word driver, either the affirmative or negative address buffer output rises, and one of the N-channel MIS transistors in the decoder DEC rises accordingly. The gates of the unselected word drivers other than the word driver connected to the selected word line among the gates of the precharged MIS transistors become Ov. Here, a case is shown in which word @WLO is selected, and the gate of N-channel MIS transistor 148 remains precharged. On the other hand, N-channel MIS transistor 1
Since gate 64 is not selected, it becomes 0■. Also, D
Since the output of EC, becomes Ov, the unselected word line WL1
In the first order, the N-channel MIS transistor 165 in the word driver WD is turned on and fixed at Ov.Then, the word latch signal φL is lowered and the signal φX is set to VA while ov.
When the voltage is raised to +Vα+VBE, the gate of the N-channel MIS transistor 148 during wDo is precharged, so the potential of the word line WLo rises to vA+Vα in the same manner as the circuit operation in FIG. On the other hand, since the gate of the N-channel MIS transistor 164 in the WD is OV, it is not boosted, and the N-channel MIS
The transistor 164 is off, and the potential of the word line WL remains Ov. When the potential of the selected word line WLa rises, the N-channel MIS transistor 160 in the memory cell array turns on, and the potential of the word line WL remains Ov.
The signal is read out to the data line DLo, and the data @DL
, and the paired data line DLo.
上記データ線対間の電位差は、センスアンプSAにより
増幅され、メモリセルに情報の再書き込みがなされると
ともに後段回路へ伝達される。次に、パルス信号φXを
Ovに立ち下げ、ラッチ信号φLを立ち上げてワード線
WLoをOvに立ち下げてからイコライザーEQにより
データ線対を約L / 2 V Aの等電位にする一方
、アドレスバッファ出力を全て立ち下げてからプリチャ
ージ信号φPをOVに立ち下げてプリチャージを行い、
次の動作に備える。上記読み出し動作において、ワード
ドライバWDOe WDI 、 ・・・・に、本実施例
の回路を適用しているため、選択されたワード線の電位
を高速に、かつ高振幅に立ち上げることができる。その
結果、信号電圧ならびにメモリセルの蓄積電圧を大きく
することができ、高速性と高信頼性が両立できる。なお
、第13図において、パルス信号φXを発生する回路と
しては、先に参照した日経エレクトロニクス誌に掲載さ
れた回路を用いてもよいし、さらに高速とするには1例
えば第6図の実施例を用いてもよい。また、第13図で
は、ワードドライバ毎にデコーダを設け、パルス信号φ
Xを全てのワードドライバに共通に印加したが、必要に
応じて複数のワードドライバに共通に1つのデコーダを
設け、デコーダを共有するワードドライバのうち1゛つ
だけのパルス信号をデコードして印加するなど、種々の
変形が可能なことは勿論である。The potential difference between the data line pair is amplified by the sense amplifier SA, information is rewritten in the memory cell, and is transmitted to the subsequent stage circuit. Next, the pulse signal φX is lowered to Ov, the latch signal φL is raised and the word line WLo is lowered to Ov, and then the data line pair is brought to the same potential of approximately L/2 V A by the equalizer EQ, while the address After all buffer outputs are brought down, the precharge signal φP is brought down to OV to perform precharging.
Prepare for the next action. In the read operation described above, since the circuit of this embodiment is applied to the word drivers WDOe WDI, . . . , the potential of the selected word line can be raised quickly and with high amplitude. As a result, the signal voltage and the storage voltage of the memory cell can be increased, and both high speed and high reliability can be achieved. In FIG. 13, as the circuit for generating the pulse signal φX, the circuit published in the Nikkei Electronics magazine referred to earlier may be used, or to achieve even higher speed, for example, the embodiment shown in FIG. 6 may be used. may also be used. In addition, in FIG. 13, a decoder is provided for each word driver, and a pulse signal φ
X is commonly applied to all word drivers, but if necessary, one decoder is provided commonly to multiple word drivers, and the pulse signal of only one of the word drivers sharing the decoder is decoded and applied. Of course, various modifications are possible, such as.
また、ここではデータ線のプリチャージ電圧をV A
/ 2とする例を示したが、これに限定されることなく
、0〜vAの範囲で任意に設定することが可能である。Also, here, the precharge voltage of the data line is V A
/2 is shown as an example, but it is not limited to this and can be set arbitrarily in the range of 0 to vA.
なお、上記読み出し動作においては、非選択ワードドラ
イバ中のバイポーラトランジスタ、例えば。Note that in the above read operation, bipolar transistors in unselected word drivers, for example.
WDl中の168のベースは、信号φXがOVのときは
φXによって、また、信号φXが立ち上がるときには上
記バイポーラトランジスタのベースとVssとの間に挿
入されたMISトランジスタ。The base of 168 in WDl is a MIS transistor inserted by φX when the signal φX is OV, and between the base of the bipolar transistor and Vss when the signal φX rises.
例えばWDlの中の167によってOvに保たれる。し
たがって、上記バイポーラトランジスタの耐圧は、前述
したようにBVCESで決まるためコレクタを高電圧v
Hのままとしても問題ない。For example, it is kept at Ov by 167 in WDl. Therefore, since the withstand voltage of the above-mentioned bipolar transistor is determined by BVCES as mentioned above, the collector is connected to a high voltage v
There is no problem even if it remains at H.
ところで、第13図の構成では、電圧VAを供給する電
源と電圧VHを供給する電源の2つの正電源を必要とす
る。これらの電源をチップ外部から別々に供給すること
は勿論可能であるが、いずれか一方のみを外部から供給
し、他方はこれを基準にしてチップ内部で発生して供給
したり、あるいはいずれもチップ内部で、他の電源を基
準にして発生することも可能である。したがって、第1
3図または前述の実施例のうち、2つの正電源を必要と
するものを1つの外部正電源のもとで1例えば2つの電
圧のうち、高い方は外部正電源より直接供給し、低い方
は、外部正電源の電圧を特願昭56−168698号、
特願昭57−220083号明細書などに示されている
ような電圧リミッタ回路により低くして供給することも
可能である。By the way, the configuration shown in FIG. 13 requires two positive power supplies, one for supplying voltage VA and the other for supplying voltage VH. Of course, it is possible to supply these power supplies separately from outside the chip, but it is also possible to supply only one of them from the outside and the other generated and supplied inside the chip based on this, or both of them can be supplied from outside the chip. It can also be generated internally with reference to another power source. Therefore, the first
3. Among the embodiments shown in Figure 3 or described above, those requiring two positive power supplies are connected to one external positive power supply. The voltage of the external positive power supply is determined by patent application No. 56-168698,
It is also possible to supply the voltage at a lower level using a voltage limiter circuit as shown in Japanese Patent Application No. 57-220083.
また、場合によっては、必要とする2電源のうち。Also, in some cases, of the two power supplies required.
低い方は外部正電源より供給して、高い方は、外部正電
源の電圧を昇圧する回路によって高くして供給してもよ
い。The lower voltage may be supplied from an external positive power supply, and the higher voltage may be increased and supplied by a circuit that boosts the voltage of the external positive power supply.
第15図は、本発明に用いる昇圧回路の一実施例図であ
る。FIG. 15 is a diagram showing one embodiment of a booster circuit used in the present invention.
この回路では、電圧vAは外部正電源より供給して、高
電圧V)Iを発生させる。第15図の回路は、基本的に
はいわゆるチャージポンプ型の昇圧回路CPlとCP2
とを並列に並べたものである。In this circuit, voltage vA is supplied from an external positive power supply to generate a high voltage V)I. The circuit shown in FIG. 15 basically consists of so-called charge pump type booster circuits CPl and CP2.
are arranged in parallel.
チャージポンプ型の昇圧回路の動作原理は、よく知られ
ているのでここでは省略する。ここで、ツェナーダイオ
ード192は、端子194の電圧が所望のレベルVHよ
り上がり過ぎた場合に電流をリークさせ、それ以上の電
位上昇を防止するためのものであるが、必要のない場合
は除去してもよい。The operating principle of a charge pump type booster circuit is well known, so a description thereof will be omitted here. Here, the Zener diode 192 is used to leak current and prevent a further increase in potential when the voltage at the terminal 194 rises too much above the desired level VH, but it can be removed if unnecessary. It's okay.
また、ツェナーダイオード192の替りに、通常のダイ
オードやM工Sトランジスタのゲートとドレインを接続
したMISダイオード回路を順方向に複数°個接続した
ものを用いてもよい。また、CP、、CP2として、M
IS容量とMISトランジスタで構成したダイオードを
3段接続した例を示したが、一般的に段数をn、MIS
トランジスタのしきい電圧をV T p φs1〜φS
31 φT1〜φ丁・3のパルス振幅をvAとすると、
得られる電圧は約(n+1)(VA VT)となり、必
要とするvHの値に応じてnの値を選べばよい。Further, instead of the Zener diode 192, a plurality of ordinary diodes or MIS diode circuits in which the gate and drain of an M/S transistor are connected in the forward direction may be used. Also, as CP,,CP2,M
Although we have shown an example in which diodes composed of IS capacitors and MIS transistors are connected in three stages, generally the number of stages is n, and MIS
The threshold voltage of the transistor is V T p φs1~φS
31 If the pulse amplitude of φT1 to φT・3 is vA, then
The voltage obtained is approximately (n+1) (VA VT), and the value of n may be selected depending on the required value of vH.
この回路を第13図に適用した場合、第15図の端子1
94より供給しなくてはならない電流は、ワード線が選
択されるときに大きくなる。したがって、ダイナミック
型半導体メモリのアクティブな期間には、大きな供給電
流を得るためにCPlとCF2の両方を動作させ、スタ
ンバイの期間には。When this circuit is applied to Figure 13, terminal 1 in Figure 15
The current that must be supplied by 94 increases when a word line is selected. Therefore, during the active period of the dynamic semiconductor memory, both CP1 and CF2 are operated to obtain a large supply current, and during the standby period.
CPIのみを動作させることも可能である。これによっ
て、低い消費電力で大きな出力電流を得ることができる
。It is also possible to operate only the CPI. This allows a large output current to be obtained with low power consumption.
第16図は、第15図のCPI、CF2へ印加するパル
スの電圧波形の一例図である。FIG. 16 is an example of the voltage waveform of the pulse applied to CPI and CF2 in FIG. 15.
図においては、tst +すなわちスタンバイの期間に
はCPIのみが動作し、t、op 、すなわちアクティ
ブする期間にはCPlとCF2の両方が動作する例を示
している。CF2の起動時刻をワード線を選択する時刻
と同期させるには5例えば、チップセレクト信号C8や
RAS信号を利用すればよい。また、いわゆるページモ
ードのように、一本のワード線上のメモリセルの情報を
連続して読み出すような動作をさせる場合には1選択し
たワード線の電位を長時間高電位に保つ必要があるにの
場合には、ワード線電位が高レベルに達した後も、CA
S信号などを利用してCF2を活性化してもよいことは
勿論である。The figure shows an example in which only CPI operates during tst+, ie, standby period, and both CP1 and CF2 operate during t,op, ie, active period. For example, the chip select signal C8 or the RAS signal may be used to synchronize the activation time of CF2 with the word line selection time. In addition, when operating in a so-called page mode where information from memory cells on one word line is read out continuously, it is necessary to keep the potential of one selected word line at a high potential for a long time. In this case, even after the word line potential reaches a high level, CA
Of course, CF2 may be activated using the S signal or the like.
なお、ここではチャージポンプ回路を2つ用いた例を示
したが、必要に応じて1個にしたり、あるいはさらに多
くの回路を用いてもよいことは勿論である。また、ワー
ド線の電位の立ち上げを非常に高速に行うと、一時的に
、第15図の端子194の電位が低下することがある。Although an example using two charge pump circuits has been shown here, it is of course possible to use one or more circuits as necessary. Furthermore, if the potential of the word line is raised very quickly, the potential of the terminal 194 in FIG. 15 may temporarily drop.
その場合には、端子194がコレクタに接続されたバイ
ポーラトランジスタの飽和を防止するため、端子194
の容量を大きくして、電位の低下を小さくする必要があ
る。そのためには、vHを供給するためのバイポーラト
ランジスタのコレクタを、全て端子194に接続するこ
とによって、バイポーラトランジスタのコレクタ容量に
より端子194の寄生容量を増加させることもできる。In that case, in order to prevent saturation of the bipolar transistor whose collector is connected to the terminal 194,
It is necessary to increase the capacitance of the capacitor and reduce the drop in potential. To this end, by connecting all the collectors of the bipolar transistors for supplying vH to the terminal 194, the parasitic capacitance of the terminal 194 can be increased by the collector capacitance of the bipolar transistors.
また、ここでは。Also here.
φs1とφs3およびφT1とφT3はそれぞれ別信号
として示したが、場合によっては同一信号で駆動するこ
ともできる。Although φs1 and φs3 and φT1 and φT3 are shown as separate signals, they may be driven by the same signal depending on the case.
なお、を源電圧の変動により一時的にバイポーラトラン
ジスタが飽和する可能性のある場合には、パルス信号φ
Xを発生する回路の出力端子と、第15図のVH端子1
94との間に、前にも述べたようにダイオードを接続し
てvHに対してφXの電位が高いときにそのダイオード
がオンするようにして飽和を防止すればよい6
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、バイポーラトラ
ンジスタとM工Sトランジスタを含む回路において、動
作の基準となる電圧を、上記回路を制御する前段回路が
基準として動作する電圧とは異なる値にするので、バイ
ポーラトランジスタの高駆動能力を十分に活すとともに
、所望の大きな出力レベルを得ることができる。Note that if the bipolar transistor may be temporarily saturated due to fluctuations in the source voltage, the pulse signal φ
The output terminal of the circuit that generates X and the VH terminal 1 in Figure 15
94, as mentioned before, and the diode is turned on when the potential of φX is high with respect to vH to prevent saturation.6 [Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, in a circuit including a bipolar transistor and an M/S transistor, the reference voltage for operation is set to a value different from the voltage at which the preceding stage circuit controlling the circuit operates as a reference. Therefore, the high driving ability of the bipolar transistor can be fully utilized and a desired high output level can be obtained.
第1図は本発明の基本構成を示す半導体装置の概略構成
図、第2図は第1図の前段回路の具体例を示す図、第3
図は本発明の第1の実施例を示す半導体装置の構成図、
第4図は第3図の電圧波形図、第5図は第3図の回路3
0の構成側図、第6図は本発明の第2の実施例を示す半
導体装置の構成図、第7図は本発明の第2の実施例を示
す半導体装置の構成図、第8図は第7図の電圧波形を示
す図、第9図は第7図の回路86の構成側図、第10図
は本発明の第4の実施例を示す半導体装置の構成図、第
11図は第10図は回路113の構成側図、第12図は
本発明が適用されるダイナミック型半導体装置の構成側
図、第13図は本発明をワードドライバに適用した場合
の一構成例図、第14図は第1°3図の電圧波形を示す
図、第15図は本発明に用いるチャージポンプ型昇圧回
路、第16図は第15図の電圧波形を示す図、第17図
は第1の従来例図、第18図は第2の従来例図である。
A:回路Cの動作の基準となる電圧を印加する端子、B
、〜Bn:回i1Dの動作の基準となる電圧を印加する
端子、C:回wIDを制御する回路、D:M工Sトラン
ジスタとパイボーラトランジスタを含む回路、E:入力
端子、F:信号線、G:出力端子、VA:回路Cの動作
の基準となる電圧。
30.86,113:出力端子Gの電位を立ち下げる回
路、Xo−Xn:Xアドレス、yo−’ym:Yアドレ
ス、MCA:メモリセルアレー、MC。
MC,、MC,:メモリセル、[)L、DL、、DLl
:データ線、 W L v W L o * W L
1 :ワード線、ABX、ABYニアドレスバッファ回
路、XD、YD:デコーダ、ドライバ回路、RC:書き
込み・読み出し回路、CC:書き込み・読み出し制御回
路、OC:出力回路、Do:出力、C8:チップセレク
ト信号、WE:書き込み動作制御信号、DI:入力、A
XOe AXRe AXOニアドレスバッファ出力、D
ECa 、DEC工:デコーダ、WDOI WDt :
ワードドライバ、SA:センスアンプ、EQ:イコライ
ザー、φPニブリチャージ信号、φL:ラッチ信号、φ
X:パルス信号、CPI、CF2:チャージポンプ回路
、192:ツェナーダイオード、φS1y φS2e
φs3:CPI活性パルス、φT1.φT2y φT9
:CP2活性パルス。
特許出願人 株式会社日立製作所
代理人弁理士磯村雅俊5.′1.゛。
′1′−ご・パ
第 1 図
第3図
第 牛 図
第5図
第 6 図
L、、−J、D
第7図
第 8 図
第 9 図
G
第10図
第11図
第 12 図
第 14 図
第 15 図
第 16 図FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a semiconductor device showing the basic configuration of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a specific example of the front-stage circuit of FIG. 1, and FIG.
The figure is a configuration diagram of a semiconductor device showing a first embodiment of the present invention.
Figure 4 is the voltage waveform diagram of Figure 3, and Figure 5 is the circuit 3 of Figure 3.
0, FIG. 6 is a configuration diagram of a semiconductor device showing a second embodiment of the invention, FIG. 7 is a configuration diagram of a semiconductor device showing a second embodiment of the invention, and FIG. 7 is a diagram showing the voltage waveform, FIG. 9 is a side view of the configuration of the circuit 86 in FIG. 7, FIG. 10 is a configuration diagram of a semiconductor device showing the fourth embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 10 is a side view of the configuration of the circuit 113, FIG. 12 is a side view of the configuration of a dynamic semiconductor device to which the present invention is applied, FIG. 13 is a diagram of an example configuration when the present invention is applied to a word driver, and FIG. The figure shows the voltage waveform of Fig. 1°3, Fig. 15 shows the charge pump type booster circuit used in the present invention, Fig. 16 shows the voltage waveform of Fig. 15, and Fig. 17 shows the first conventional method. The example diagram, FIG. 18, is a diagram of a second conventional example. A: Terminal that applies the voltage that serves as the reference for the operation of circuit C, B
, ~Bn: A terminal that applies a voltage that serves as a reference for the operation of the circuit i1D, C: A circuit that controls the circuit wID, D: A circuit that includes an M-S transistor and a piebola transistor, E: an input terminal, F: a signal line , G: Output terminal, VA: Voltage that serves as a reference for the operation of circuit C. 30.86, 113: A circuit that lowers the potential of the output terminal G, Xo-Xn: X address, yo-'ym: Y address, MCA: Memory cell array, MC. MC,, MC,: memory cell, [)L, DL,, DLl
:Data line, W L v W Lo * W L
1: Word line, ABX, ABY near address buffer circuit, XD, YD: Decoder, driver circuit, RC: Write/read circuit, CC: Write/read control circuit, OC: Output circuit, Do: Output, C8: Chip select Signal, WE: Write operation control signal, DI: Input, A
XOe AXRe AXO near address buffer output, D
ECa, DEC Engineering: Decoder, WDOI WDt:
Word driver, SA: sense amplifier, EQ: equalizer, φP nib recharge signal, φL: latch signal, φ
X: Pulse signal, CPI, CF2: Charge pump circuit, 192: Zener diode, φS1y φS2e
φs3: CPI activation pulse, φT1. φT2y φT9
:CP2 activation pulse. Patent applicant: Masatoshi Isomura, Patent Attorney, Hitachi, Ltd.5. '1.゛. '1'-Go・Pa 1 Figure 3 Cow Figure 5 Figure 6 Figure L, -J, D Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure G Figure 10 Figure 11 Figure 12 Figure 14 Figure 15 Figure 16
Claims (5)
バイポーラトランジスタと、少なくとも1個の絶縁ゲー
ト電界効果トランジスタを含む回路で構成され、該回路
は少なくとも1つの電圧を基準として動作し、上記基準
とする電圧のうち少なくとも1つが上記回路を制御する
前段回路が基準として動作する電圧とは異なる電圧値を
有することを特徴とする半導体装置。(1) The circuit is controlled by a pre-stage circuit and includes at least one bipolar transistor and at least one insulated gate field effect transistor, and the circuit operates with at least one voltage as a reference, and the circuit operates with reference to at least one voltage, and A semiconductor device characterized in that at least one of the voltages that control the circuit has a voltage value different from a voltage at which a pre-stage circuit controlling the circuit operates as a reference.
チャネル電界効果トランジスタとPチャネル電界効果ト
ランジスタ、および従属接続点がベースに接続されたバ
イポーラトランジスタからなる出力電圧立ち上げ手段、
ならびにNチャネル電界効果トランジスタまたは従属接
続された電界効果トランジスタと接続点がベースに接続
されたバイポーラトランジスタ、またはこれらの並列接
続からなる出力電圧立ち下げ手段を備えることを特徴と
する半導体装置。(2) N controlled by the previous stage circuit and connected in cascade
Output voltage raising means consisting of a channel field effect transistor, a P channel field effect transistor, and a bipolar transistor with a dependent connection point connected to the base;
and an N-channel field effect transistor, a bipolar transistor whose base is connected to a cascade-connected field effect transistor, or a parallel connection thereof.
果トランジスタのソースに基準電圧が接続され、バイポ
ーラトランジスタのコレクタには上記基準電圧とは異な
る電圧が接続されることを特徴とする特許請求の範囲第
2項記載の半導体装置。(3) The output voltage raising means is characterized in that a reference voltage is connected to the source of the P-channel field effect transistor, and a voltage different from the reference voltage is connected to the collector of the bipolar transistor. A semiconductor device according to scope 2.
御信号が、従属接続された電界効果トランジスタの一方
のゲートに、電界効果トランジスタのドレイン・ソース
を介して接続されるとともに、電界効果トランジスタ回
路を介して他方のゲート、および出力立ち下げ手段に接
続されることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
半導体装置。(4) The output voltage raising means is configured such that the control signal from the previous stage circuit is connected to one gate of the cascade-connected field effect transistor via the drain and source of the field effect transistor, and the field effect transistor 3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the semiconductor device is connected to the other gate and the output lowering means via a circuit.
界効果トランジスタの一方のゲートに基準電圧を加え、
かつ該電界効果トランジスタのドレインと、従属接続点
にベースが接続されたバイポーラトランジスタのコレク
タに上記基準電圧とは異なる電圧を加えることを特徴と
する特許請求の範囲第4項記載の半導体装置。(5) The output voltage raising means applies a reference voltage to one gate of the cascade-connected field effect transistors;
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein a voltage different from the reference voltage is applied to the drain of the field effect transistor and the collector of a bipolar transistor whose base is connected to the subordinate connection point.
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60161467A JPH07111825B2 (en) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | Semiconductor memory device |
DE86109470T DE3688222T2 (en) | 1985-07-22 | 1986-07-10 | SEMICONDUCTOR DEVICE WITH BIPOLAR TRANSISTOR AND INSULATION LAYER FIELD EFFECT TRANSISTOR. |
EP86109470A EP0209805B1 (en) | 1985-07-22 | 1986-07-10 | Semiconductor device having bipolar transistor and insulated gate field effect transistor |
EP19910103267 EP0433271A3 (en) | 1985-07-22 | 1986-07-10 | Semiconductor device |
US06/886,816 US4730132A (en) | 1985-07-22 | 1986-07-18 | Semiconductor device having bipolar transistor and insulated gate field effect transistor with two potential power source |
US07/130,640 US4837462A (en) | 1985-07-22 | 1987-12-09 | Semiconductor decoder circuit having switching means for preventing counterflow |
US07/608,640 US5086238A (en) | 1985-07-22 | 1990-11-05 | Semiconductor supply incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
US09/168,998 US6125075A (en) | 1985-07-22 | 1998-10-09 | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
US09/506,438 US6363029B1 (en) | 1985-07-22 | 2000-02-18 | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
US10/103,827 US6608791B2 (en) | 1985-07-22 | 2002-03-25 | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
US10/441,207 US6970391B2 (en) | 1985-07-22 | 2003-05-20 | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60161467A JPH07111825B2 (en) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6221323A true JPS6221323A (en) | 1987-01-29 |
JPH07111825B2 JPH07111825B2 (en) | 1995-11-29 |
Family
ID=15735650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60161467A Expired - Lifetime JPH07111825B2 (en) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07111825B2 (en) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62155207A (en) * | 1985-12-27 | 1987-07-10 | Lion Corp | Composition for oral cavity |
JPS63208324A (en) * | 1987-02-24 | 1988-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit device |
JPS6447124A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Nec Corp | Inverter circuit |
JPH01246862A (en) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Composite type semiconductor output circuit |
JPH02238720A (en) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Hitachi Ltd | Decoder circuit |
JPH0798985A (en) * | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Nec Corp | Semiconductor storage circuit |
US5506804A (en) * | 1989-03-20 | 1996-04-09 | Hitachi, Ltd. | Dynamic Random Access Type Semiconductor Device |
JPH08274619A (en) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Nec Corp | Binmos integrated circuit |
JPH10293995A (en) * | 1998-03-30 | 1998-11-04 | Hitachi Ltd | Semiconductor storage |
US6580654B2 (en) | 1990-04-06 | 2003-06-17 | Mosaid Technologies, Inc. | Boosted voltage supply |
US6603703B2 (en) | 1990-04-06 | 2003-08-05 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic memory word line driver scheme |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5559756A (en) * | 1978-10-30 | 1980-05-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
JPS58188388A (en) * | 1982-04-28 | 1983-11-02 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
JPS5925424A (en) * | 1982-08-04 | 1984-02-09 | Hitachi Ltd | Gate circuit |
JPS59213090A (en) * | 1983-05-18 | 1984-12-01 | Toshiba Corp | Driving circuit |
JPS6059818A (en) * | 1983-09-12 | 1985-04-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP60161467A patent/JPH07111825B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5559756A (en) * | 1978-10-30 | 1980-05-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
JPS58188388A (en) * | 1982-04-28 | 1983-11-02 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
JPS5925424A (en) * | 1982-08-04 | 1984-02-09 | Hitachi Ltd | Gate circuit |
JPS59213090A (en) * | 1983-05-18 | 1984-12-01 | Toshiba Corp | Driving circuit |
JPS6059818A (en) * | 1983-09-12 | 1985-04-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0560445B2 (en) * | 1985-12-27 | 1993-09-02 | Lion Corp | |
JPS62155207A (en) * | 1985-12-27 | 1987-07-10 | Lion Corp | Composition for oral cavity |
JPS63208324A (en) * | 1987-02-24 | 1988-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit device |
JPS6447124A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Nec Corp | Inverter circuit |
JPH01246862A (en) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Composite type semiconductor output circuit |
JPH02238720A (en) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Hitachi Ltd | Decoder circuit |
US5506804A (en) * | 1989-03-20 | 1996-04-09 | Hitachi, Ltd. | Dynamic Random Access Type Semiconductor Device |
US6580654B2 (en) | 1990-04-06 | 2003-06-17 | Mosaid Technologies, Inc. | Boosted voltage supply |
US6614705B2 (en) | 1990-04-06 | 2003-09-02 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic random access memory boosted voltage supply |
US6603703B2 (en) | 1990-04-06 | 2003-08-05 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic memory word line driver scheme |
JPH0798985A (en) * | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Nec Corp | Semiconductor storage circuit |
JPH08274619A (en) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Nec Corp | Binmos integrated circuit |
JPH10293995A (en) * | 1998-03-30 | 1998-11-04 | Hitachi Ltd | Semiconductor storage |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07111825B2 (en) | 1995-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4161040A (en) | Data-in amplifier for an MISFET memory device having a clamped output except during the write operation | |
US6456152B1 (en) | Charge pump with improved reliability | |
US6377508B1 (en) | Dynamic semiconductor memory device having excellent charge retention characteristics | |
US7054200B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2662335B2 (en) | Word line drive circuit | |
US5828611A (en) | Semiconductor memory device having internal voltage booster circuit coupled to bit line charging/equalizing circuit | |
KR0183413B1 (en) | Charge-pump type booster circuit | |
JPH10135424A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
KR950009234B1 (en) | Bit-line disconnection clock generating device of semiconductor memory device | |
JPH0689572A (en) | Word-line driving system of dynamic memory | |
US5282171A (en) | Semiconductor memory device having a word driver | |
JPS6221323A (en) | Semiconductor device | |
KR950014256B1 (en) | Semiconductor memory device using low source voltage | |
JP2680007B2 (en) | Semiconductor memory | |
US5563831A (en) | Timing reference circuit for bitline precharge in memory arrays | |
JPH07234265A (en) | Test potential transfer circuit and semiconductor memory device using this circuit | |
KR940004516B1 (en) | High-speed sensing device of the semiconductor memory | |
JP2753218B2 (en) | Semiconductor storage device | |
US5777934A (en) | Semiconductor memory device with variable plate voltage generator | |
JP3094913B2 (en) | Semiconductor circuit | |
JP2001229671A (en) | Semiconductor memory | |
JPH023161A (en) | Memory circuit | |
JPS63239673A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
KR0179678B1 (en) | Semiconductor memory device having internal voltage booster circuit coupled to bit line charging/equalizing circuit | |
JP4543349B2 (en) | Semiconductor memory device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |