JPS6219971Y2 - - Google Patents
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- JPS6219971Y2 JPS6219971Y2 JP1980141302U JP14130280U JPS6219971Y2 JP S6219971 Y2 JPS6219971 Y2 JP S6219971Y2 JP 1980141302 U JP1980141302 U JP 1980141302U JP 14130280 U JP14130280 U JP 14130280U JP S6219971 Y2 JPS6219971 Y2 JP S6219971Y2
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- Japan
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- calibration
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 9
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
本考案は、間欠的にサンプル又は校正用流体を
分析計に供給するための計量部に、サンプル又は
校正用流体を導入するサンプル導入装置に関す
る。 第１図は、従来のプロセスガスクロマトグラフ
（PGC）用サンプル導入装置の構成説明図であ
る。第１図におけるサンプル導入装置１０′は、
No.１ストリーム若しくはNo.２ストリームのサンプ
ル、又は、標準ガス源３０の標準ガスをサンプル
バルブ６０の計量管６１に導入する流路を有す
る。即ち、No.１ストリーム→フイルタ１１１及び
電磁弁１１２を有する管路１１→管路１４→ニー
ドル弁１５１を有する管路１５→サンプルバルブ
６０→流量計１６１を有する管路１６→排出口
VENTで構成される第１流路と、No.２ストリーム
→フイルタ１２１及び電磁弁１２２を有する管路
１２→管路１４→ニードル弁１５を有する管路１
５→サンプルバルブ６０→流量計１６１を有する
管路１６→排出口VENTで構成される第２流路
と、標準ガス源３０→調圧弁１３３、フイルタ１
３１及び電磁弁１３２を有する管路１３′→管路
１４→ニードル弁１５１を有する管路１５→サン
プルバルブ６０→流量計１６１を有する管路１６
→排出口VENTで構成される第３流路とを有す
る。そして、各流路にバイパス流路が設けられて
いる。第１流路のバイパス流路は、ニードル弁２
１１を有し、管路１１に接続して成る管路２１→
流量計２４１を有する管路２４→排出口VENTで
構成されている。また、第２流路のバイパス流路
は、ニードル弁２２１を有し、管路１２に接続し
て成る管路２２→流量計２４１を有する管路２４
→排出口VENTで構成されている。さらに、第３
流路のバイパスは、ニードル弁２４１を有し、管
路１３に接続して成る管路２３→流量計２４１を
有する管路２４→排出口VENTで構成されてい
る。 サンプルバルブ６０は、外部機器との接続口で
あるポートａ〜ｆを有する固定部（円周６２の外
側）と、各ポートａ〜ｆ間の連通状態を切換えを
する可動部（円周６２の内側）とを有し、ポート
ａにキヤリヤガス源、ポートｂにPGCの検出部
（カラムを含む）、ポートｃ及びｆに計量管６１、
ポートｄに管路ｄ、ポートｅに管路１５が夫々接
続されている。 そして、電磁弁１１２，１２２及び１３２並び
にサンプルバルブ６０の可動部は、制御部（図示
せず）からの制御信号によつて所定の動作をなす
構成となつている。 このようなサンプル導入装置の動作は次のとお
りである。 サンプル導入装置は、PGCの動作に同期して
いる。即ち、PGCは、No.１ストリームとNo.２ス
トリームのサンプルを分析する測定(1)と測定(2)の
各動作を交互になしながら、定期的に、又は、必
要に応じて標準ガスを用いた校正をなす。これら
各動作におけるサンプル導入装置の各弁の状態は
表・１のとおりである。
分析計に供給するための計量部に、サンプル又は
校正用流体を導入するサンプル導入装置に関す
る。 第１図は、従来のプロセスガスクロマトグラフ
（PGC）用サンプル導入装置の構成説明図であ
る。第１図におけるサンプル導入装置１０′は、
No.１ストリーム若しくはNo.２ストリームのサンプ
ル、又は、標準ガス源３０の標準ガスをサンプル
バルブ６０の計量管６１に導入する流路を有す
る。即ち、No.１ストリーム→フイルタ１１１及び
電磁弁１１２を有する管路１１→管路１４→ニー
ドル弁１５１を有する管路１５→サンプルバルブ
６０→流量計１６１を有する管路１６→排出口
VENTで構成される第１流路と、No.２ストリーム
→フイルタ１２１及び電磁弁１２２を有する管路
１２→管路１４→ニードル弁１５を有する管路１
５→サンプルバルブ６０→流量計１６１を有する
管路１６→排出口VENTで構成される第２流路
と、標準ガス源３０→調圧弁１３３、フイルタ１
３１及び電磁弁１３２を有する管路１３′→管路
１４→ニードル弁１５１を有する管路１５→サン
プルバルブ６０→流量計１６１を有する管路１６
→排出口VENTで構成される第３流路とを有す
る。そして、各流路にバイパス流路が設けられて
いる。第１流路のバイパス流路は、ニードル弁２
１１を有し、管路１１に接続して成る管路２１→
流量計２４１を有する管路２４→排出口VENTで
構成されている。また、第２流路のバイパス流路
は、ニードル弁２２１を有し、管路１２に接続し
て成る管路２２→流量計２４１を有する管路２４
→排出口VENTで構成されている。さらに、第３
流路のバイパスは、ニードル弁２４１を有し、管
路１３に接続して成る管路２３→流量計２４１を
有する管路２４→排出口VENTで構成されてい
る。 サンプルバルブ６０は、外部機器との接続口で
あるポートａ〜ｆを有する固定部（円周６２の外
側）と、各ポートａ〜ｆ間の連通状態を切換えを
する可動部（円周６２の内側）とを有し、ポート
ａにキヤリヤガス源、ポートｂにPGCの検出部
（カラムを含む）、ポートｃ及びｆに計量管６１、
ポートｄに管路ｄ、ポートｅに管路１５が夫々接
続されている。 そして、電磁弁１１２，１２２及び１３２並び
にサンプルバルブ６０の可動部は、制御部（図示
せず）からの制御信号によつて所定の動作をなす
構成となつている。 このようなサンプル導入装置の動作は次のとお
りである。 サンプル導入装置は、PGCの動作に同期して
いる。即ち、PGCは、No.１ストリームとNo.２ス
トリームのサンプルを分析する測定(1)と測定(2)の
各動作を交互になしながら、定期的に、又は、必
要に応じて標準ガスを用いた校正をなす。これら
各動作におけるサンプル導入装置の各弁の状態は
表・１のとおりである。
【表】
一方、サンプルバルブ６０は、上記各動作にお
いて、非サンプリング（図の実線状態を示す。ポ
ートａとｂ、ｃとｄ、ｅとｆが夫々連通状態にあ
る）→サンプリング（図の破線状態を示す。ポー
トｂとｃ、ｄとｅ、ｆとａが夫々連通状態にあ
る）→非サンプリングの切換え動作をなす。そし
て、非サンプリング時、計量管６１内の流体を置
換して、サンプリング時に計量管６１で計量され
た流体（サンプル又は標準ガス）を、キヤリヤガ
スによつてPGCの検出部へ搬送する。 なお、上記測定(1)，(2)又は校正の各動作時にお
いて、第１流路、第２流路又は第３流路を流れる
流体の流量は、ニードル弁２１１，２２１，２３
１，１５１等の設定によつて決定される。 このような、従来のサンプル導入装置におい
て、校正時、標準ガスは管路１３′等から成る第
３流路及びそのバイパス流路を連続して流れてお
り、実際に、計量管６１で計量される量の数10倍
〜数100倍倍の流量となつている。 したがつて、校正動作で消費される標準ガスに
無駄がある。一方、PGCの精度を維持するため
に、校正を頻繁に行う必要があるが、校正回数に
比例して校正ガスの無駄な消費量が増えることに
なる。このような校正ガスの消費量増は、PGC
の運転コストアツプ要因となり好ましくない。 本考案は、かかる点に鑑みてなされたものであ
り、分析計の校正に使用する校正用流体の消費を
少なくするために、計量部に校正用流体を導入す
る流路に、必要量の校正用流体を、校正用流体源
と遮断して封じ込むタンクを設け、その校正用流
体の圧力を利用して計量部に適切な必要量の校正
用流体を導入するようにしたものである。 以下、図面を参照して本考案について詳しく説
明する。 第２図は、本考案の一実施例によるサンプル導
入装置の構成説明図である。第２図において、第
１図のものと同一符号は、同一意味で用いられて
おり、ここでの説明を省略する。 第２図の装置と第１図の装置の相違点は次のと
おりである。 管路１５に電磁弁１５２を設けた点と、標準ガ
ス源３０からの標準ガスをサンプルバルブ６０に
導入する第３流路を、フイルタ１３１、調圧弁１
３４、電磁弁１３２、流入口１３５ａ及び流出口
１３５ｂを有するタンク１３５並びに電磁弁１３
６を有し、管路１５と電磁弁１５２の下流側にて
接続されて成る管路１３→管路１５→サンプルバ
ルブ６０→流量計１６１を有する管路１６→排出
口VENTで構成した点にある。そして、電磁弁１
３２，１３６及び１５２は、他の電磁弁と同様
に、制御部（図示せず）からの制御信号によつて
制御される構成となつている。 上記構成をなすサンプル導入装置の動作は次の
とおりである。 サンプル導入装置は、従来装置と同様に、
PGCの動作に同期して、各電磁弁の制御がなさ
れる。PGCは、No.１ストリームとNo.２ストリー
ムのサンプルを分析する測定(1)と測定(2)の動作を
交互になしながら、定期的に、又は、必要に応じ
て標準ガスを用いた校正をなす。これらの各動作
におけるサンプル導入装置の各弁の状態は表・２
のとおりである。
いて、非サンプリング（図の実線状態を示す。ポ
ートａとｂ、ｃとｄ、ｅとｆが夫々連通状態にあ
る）→サンプリング（図の破線状態を示す。ポー
トｂとｃ、ｄとｅ、ｆとａが夫々連通状態にあ
る）→非サンプリングの切換え動作をなす。そし
て、非サンプリング時、計量管６１内の流体を置
換して、サンプリング時に計量管６１で計量され
た流体（サンプル又は標準ガス）を、キヤリヤガ
スによつてPGCの検出部へ搬送する。 なお、上記測定(1)，(2)又は校正の各動作時にお
いて、第１流路、第２流路又は第３流路を流れる
流体の流量は、ニードル弁２１１，２２１，２３
１，１５１等の設定によつて決定される。 このような、従来のサンプル導入装置におい
て、校正時、標準ガスは管路１３′等から成る第
３流路及びそのバイパス流路を連続して流れてお
り、実際に、計量管６１で計量される量の数10倍
〜数100倍倍の流量となつている。 したがつて、校正動作で消費される標準ガスに
無駄がある。一方、PGCの精度を維持するため
に、校正を頻繁に行う必要があるが、校正回数に
比例して校正ガスの無駄な消費量が増えることに
なる。このような校正ガスの消費量増は、PGC
の運転コストアツプ要因となり好ましくない。 本考案は、かかる点に鑑みてなされたものであ
り、分析計の校正に使用する校正用流体の消費を
少なくするために、計量部に校正用流体を導入す
る流路に、必要量の校正用流体を、校正用流体源
と遮断して封じ込むタンクを設け、その校正用流
体の圧力を利用して計量部に適切な必要量の校正
用流体を導入するようにしたものである。 以下、図面を参照して本考案について詳しく説
明する。 第２図は、本考案の一実施例によるサンプル導
入装置の構成説明図である。第２図において、第
１図のものと同一符号は、同一意味で用いられて
おり、ここでの説明を省略する。 第２図の装置と第１図の装置の相違点は次のと
おりである。 管路１５に電磁弁１５２を設けた点と、標準ガ
ス源３０からの標準ガスをサンプルバルブ６０に
導入する第３流路を、フイルタ１３１、調圧弁１
３４、電磁弁１３２、流入口１３５ａ及び流出口
１３５ｂを有するタンク１３５並びに電磁弁１３
６を有し、管路１５と電磁弁１５２の下流側にて
接続されて成る管路１３→管路１５→サンプルバ
ルブ６０→流量計１６１を有する管路１６→排出
口VENTで構成した点にある。そして、電磁弁１
３２，１３６及び１５２は、他の電磁弁と同様
に、制御部（図示せず）からの制御信号によつて
制御される構成となつている。 上記構成をなすサンプル導入装置の動作は次の
とおりである。 サンプル導入装置は、従来装置と同様に、
PGCの動作に同期して、各電磁弁の制御がなさ
れる。PGCは、No.１ストリームとNo.２ストリー
ムのサンプルを分析する測定(1)と測定(2)の動作を
交互になしながら、定期的に、又は、必要に応じ
て標準ガスを用いた校正をなす。これらの各動作
におけるサンプル導入装置の各弁の状態は表・２
のとおりである。
【表】
測定(1)及び測定(2)で構成される第１流路及び第
２流路には、ニードル弁１５１，２１１，２２１
等によつて決定されるサンプル量が流れ、サンプ
ルバルブ６０の非サンプリング→サンプリング→
非サンプリングの切換動作によつて、計量管６１
で計量されたサンプルがPGCの検出部に搬送さ
れる。 一方、上記測定(1)及び(2)時に、タンク１３５に
は、調圧弁１３４の２次圧力P1Kg／cm2Ｇに相当す
る標準ガスが導入され、満たされている。そし
て、校正動作時には、標準ガス源３０からタンク
１３５への標準ガスの供給が断たれると共に、第
３流路に、タンク１３５に蓄えられた標準ガスが
流れ、大気圧バランスする（排気口VENTが大気
開放となつている）。このときの標準ガスの移動
量は、 Ｐ１−１．０３３／１．０３３xVt 但し、Vtはタンク１３５の容量〔〕 となる。なお、移動量が第３流路の総容積の1.5
倍程度となるように、調圧弁１３４の２次圧力P1
及びタンク１３５の容量が選ばられており、上記
校正動作時に、サンプルバルブ６０の計量管６１
内が、新規な標準ガスにほぼ完全に置換されるよ
うになつている。 校正動作時においても、サンプルバルブ６０の
切換え動作が同様に行われ、計量管６１で計量さ
れた標準ガスが、キヤリヤガスによつてPGCの
検出部に搬送される。 このように、上記実施例におけるサンプル導入
装置は、標準ガスを常時流していないため、標準
ガスの消費を押えることができる。 なお、上記実施例において、測定(1)，(2)及び校
正の各動作時の各電磁弁の動作を、表・２に基く
制御しているが、本考案はこれに限定するもので
はなく、表・３に基く制御をなしてもよい。
２流路には、ニードル弁１５１，２１１，２２１
等によつて決定されるサンプル量が流れ、サンプ
ルバルブ６０の非サンプリング→サンプリング→
非サンプリングの切換動作によつて、計量管６１
で計量されたサンプルがPGCの検出部に搬送さ
れる。 一方、上記測定(1)及び(2)時に、タンク１３５に
は、調圧弁１３４の２次圧力P1Kg／cm2Ｇに相当す
る標準ガスが導入され、満たされている。そし
て、校正動作時には、標準ガス源３０からタンク
１３５への標準ガスの供給が断たれると共に、第
３流路に、タンク１３５に蓄えられた標準ガスが
流れ、大気圧バランスする（排気口VENTが大気
開放となつている）。このときの標準ガスの移動
量は、 Ｐ１−１．０３３／１．０３３xVt 但し、Vtはタンク１３５の容量〔〕 となる。なお、移動量が第３流路の総容積の1.5
倍程度となるように、調圧弁１３４の２次圧力P1
及びタンク１３５の容量が選ばられており、上記
校正動作時に、サンプルバルブ６０の計量管６１
内が、新規な標準ガスにほぼ完全に置換されるよ
うになつている。 校正動作時においても、サンプルバルブ６０の
切換え動作が同様に行われ、計量管６１で計量さ
れた標準ガスが、キヤリヤガスによつてPGCの
検出部に搬送される。 このように、上記実施例におけるサンプル導入
装置は、標準ガスを常時流していないため、標準
ガスの消費を押えることができる。 なお、上記実施例において、測定(1)，(2)及び校
正の各動作時の各電磁弁の動作を、表・２に基く
制御しているが、本考案はこれに限定するもので
はなく、表・３に基く制御をなしてもよい。
【表】
表・３に基く制御の特徴は、測定(1)及(2)時、標
準ガスのサンプル流路（第１又は第２流路）への
混入をより確実に阻止するために、電磁弁１３２
及び１３６を閉にしている点にある。そして、校
正前に、電磁弁１１２，１２２，１３６及び１５
２を閉、電磁弁１３２を開にしてタンク１３５に
標準ガスを導入し（この動作中、サンプルバンブ
６０は非サンプリング状態を保持する）、校正動
作に移行する。この実施例においても、標準ガス
を常時流すことがないので、標準ガスの消費量を
軽減することができ、さらに、測定(1)及び(2)時
に、サンプル流路へ標準ガスの混入を防ぐことが
できるので、測定精度を向上することができる。 また、上記各実施例において、サンプルはガス
体であつたが、本考案は、これに限定するもので
はなく液体であつてもよい。 さらに、分析計がPGCとなつているが、滴定
分析装置等、他の分析装置であつてもよい。 さらに、サンプル又は校正用流体の計量部をサ
ンプルバルブに限定する必要はない。 以上詳しく説明したように、本考案のサンプル
導入装置によれば、計量部に校正用流体を導入す
る流路に、必要量の校正用流体を、校正用流体源
と遮断して封じ込むタンクを設け、その校正用流
体の圧力を利用して計量部に校正用流体を導入す
るようにしているため、分析計の校正に使用する
校正用流体の消費を少なくすることができ、運転
コストの低減をはかることができる。
準ガスのサンプル流路（第１又は第２流路）への
混入をより確実に阻止するために、電磁弁１３２
及び１３６を閉にしている点にある。そして、校
正前に、電磁弁１１２，１２２，１３６及び１５
２を閉、電磁弁１３２を開にしてタンク１３５に
標準ガスを導入し（この動作中、サンプルバンブ
６０は非サンプリング状態を保持する）、校正動
作に移行する。この実施例においても、標準ガス
を常時流すことがないので、標準ガスの消費量を
軽減することができ、さらに、測定(1)及び(2)時
に、サンプル流路へ標準ガスの混入を防ぐことが
できるので、測定精度を向上することができる。 また、上記各実施例において、サンプルはガス
体であつたが、本考案は、これに限定するもので
はなく液体であつてもよい。 さらに、分析計がPGCとなつているが、滴定
分析装置等、他の分析装置であつてもよい。 さらに、サンプル又は校正用流体の計量部をサ
ンプルバルブに限定する必要はない。 以上詳しく説明したように、本考案のサンプル
導入装置によれば、計量部に校正用流体を導入す
る流路に、必要量の校正用流体を、校正用流体源
と遮断して封じ込むタンクを設け、その校正用流
体の圧力を利用して計量部に校正用流体を導入す
るようにしているため、分析計の校正に使用する
校正用流体の消費を少なくすることができ、運転
コストの低減をはかることができる。
第１図は、従来のサンプル導入装置の構成説明
図、第２図は、本考案の一実施例によるサンプル
導入装置の構成説明図である。 １１，１２，１３，１４，１５，１６，２１，
２２，２３及び２４……管路、１１１，１２１及
び１３１……フイルタ、１１２，１２２，１３
２，１３６及び１５２……電磁弁、１３４……調
圧弁、１３５……タンク、６０……サンプルバル
ブ（計量部）。
図、第２図は、本考案の一実施例によるサンプル
導入装置の構成説明図である。 １１，１２，１３，１４，１５，１６，２１，
２２，２３及び２４……管路、１１１，１２１及
び１３１……フイルタ、１１２，１２２，１３
２，１３６及び１５２……電磁弁、１３４……調
圧弁、１３５……タンク、６０……サンプルバル
ブ（計量部）。
Claims (1)
- 制御部からの信号で制御され、分析計のサンプ
ル計量部にサンプル又は校正用流体を導入するサ
ンプル導入装置において、前記校正用流体を前記
計量部に導入する第１流路に配設され流入口及び
流出口を有するタンクと、該タンクの流入口側及
び流出口側に夫々に配設されオンオフ的に制御さ
れる第１及び第２弁と、前記タンクの流入口側に
配設され前記第１流路の圧力を所定の圧力にする
第３弁と、前記サンプルを前記計量部に導入する
第２流路の前記計量部に近い位置に配設されオン
オフ的に制御される第４弁とを具備し、前記第
１、第２、及び第４弁を前記制御部からの信号で
制御することにより、前記校正用流体の一定量を
前記タンク内に封じ込め該校正用流体の圧力を利
用して前記計量部に前記校正用流体を導入するよ
うに構成したことを特徴とするサンプル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980141302U JPS6219971Y2 (ja) | 1980-10-03 | 1980-10-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980141302U JPS6219971Y2 (ja) | 1980-10-03 | 1980-10-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5764752U JPS5764752U (ja) | 1982-04-17 |
| JPS6219971Y2 true JPS6219971Y2 (ja) | 1987-05-21 |
Family
ID=29501138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980141302U Expired JPS6219971Y2 (ja) | 1980-10-03 | 1980-10-03 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6219971Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04131736A (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-06 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 真空抽出装置からのガスサンプリング装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10371674B2 (en) * | 2016-04-13 | 2019-08-06 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Chromatograph sampler and method for operating chromatograph sampler |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5338635A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Ota Toshuki | Process for pulverization of oily liquid |
-
1980
- 1980-10-03 JP JP1980141302U patent/JPS6219971Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5338635A (en) * | 1976-09-20 | 1978-04-08 | Ota Toshuki | Process for pulverization of oily liquid |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04131736A (ja) * | 1990-09-25 | 1992-05-06 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 真空抽出装置からのガスサンプリング装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5764752U (ja) | 1982-04-17 |
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