JPS62197718A - 光ビ−ムパタ−ン測定方法 - Google Patents
光ビ−ムパタ−ン測定方法Info
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- JPS62197718A JPS62197718A JP3976286A JP3976286A JPS62197718A JP S62197718 A JPS62197718 A JP S62197718A JP 3976286 A JP3976286 A JP 3976286A JP 3976286 A JP3976286 A JP 3976286A JP S62197718 A JPS62197718 A JP S62197718A
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- JP
- Japan
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- thin film
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- measurement
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- Pending
Links
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- 238000001931 thermography Methods 0.000 claims abstract description 7
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/48—Thermography; Techniques using wholly visual means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、レーザビームを含む高輝度光源による放射束
の空間エネルギー分布に係り、耐熱性黒化薄膜とサーモ
グラフィーとから構成された光ビームパターン測定方法
に関する。
の空間エネルギー分布に係り、耐熱性黒化薄膜とサーモ
グラフィーとから構成された光ビームパターン測定方法
に関する。
従来レーザビームパターンの測定には、写真印画紙の焼
はパターンやIRフォスファーなどを用いた目視による
方法、TVカメラを用いる方法などが行われてきたが、
いずれも定量的な情報は得られない。
はパターンやIRフォスファーなどを用いた目視による
方法、TVカメラを用いる方法などが行われてきたが、
いずれも定量的な情報は得られない。
定量的測定には小面積の熱型光検出器を直線上に複数個
配置した検出器を用いるか、単一の検出器を走査するこ
とによって行われてきた■eltaDevelopme
nts社製La5er Beam Profile M
on1tor MK■、及び5pectron社製La
5er Beam Analyser)。前者の方法で
は測定可能なビームの大きさが検出器の配置によって制
限されるうえ通常は一次元の分布しか測定できない。ま
たこの方法はビームエネルギー密度が高い場合(〉3J
/CrA)は適用できない。
配置した検出器を用いるか、単一の検出器を走査するこ
とによって行われてきた■eltaDevelopme
nts社製La5er Beam Profile M
on1tor MK■、及び5pectron社製La
5er Beam Analyser)。前者の方法で
は測定可能なビームの大きさが検出器の配置によって制
限されるうえ通常は一次元の分布しか測定できない。ま
たこの方法はビームエネルギー密度が高い場合(〉3J
/CrA)は適用できない。
後者の方法においても通常は一次元の分布しか測定でき
ず、さらにパルスレーザビームに対して適用できないこ
とが問題となっている。
ず、さらにパルスレーザビームに対して適用できないこ
とが問題となっている。
以上の点により、連続発振のレーザおよびパルスレーザ
のいずれのビームパターンについても2次元空間エネル
ギー分布を高いエネルギー密度まで定量臼5に測定でき
るレーザビームパターン測定方法が要望されている。
のいずれのビームパターンについても2次元空間エネル
ギー分布を高いエネルギー密度まで定量臼5に測定でき
るレーザビームパターン測定方法が要望されている。
本発明は上記の点に鑑み、これまで測定が困難であった
高いエネルギー密度のレーザビームなどの空間エネルギ
ー分布を2次元的に定量的に測定する新規な光ビームパ
ターン測定方法を提供することを目的とする。
高いエネルギー密度のレーザビームなどの空間エネルギ
ー分布を2次元的に定量的に測定する新規な光ビームパ
ターン測定方法を提供することを目的とする。
この目的は本発明によれば、測定しようとする放射束を
耐熱性黒化薄膜表面に照射し、薄膜の温度上昇を裏面か
らサーモグラフィーで測定することにより達成される。
耐熱性黒化薄膜表面に照射し、薄膜の温度上昇を裏面か
らサーモグラフィーで測定することにより達成される。
以下本発明を図面によって説明する。第1図は本発明の
ザ実施例を示しており、パルスレーザビームの空間エネ
ルギー分布を測定する。パルスレーザ1から出射された
レーザビーム2を耐熱性黒化薄膜3に照射すると薄膜上
にビームの空間エネルギー分布に比例した温度上昇のパ
ターンが生じる。ステンレス箔を黒化した薄膜を用いた
場合には面内方向の熱拡散によって1耶程度の範囲で温
度分布が均一化されるには約20m5かかることが熱伝
導方程式から評価される。薄膜の瞬間的な温度上昇の分
布は裏面からサーモグラフィーカメラ部4によって測定
され、20m5以内に測定を完了させることにより1
mmの分解能でパルスレーザビームの空間エネルギー分
布が測定される。測定結果は任意の水平、垂直断面の1
次元分布とともに濃淡像でサーモグラフィー表示部5に
示される。
ザ実施例を示しており、パルスレーザビームの空間エネ
ルギー分布を測定する。パルスレーザ1から出射された
レーザビーム2を耐熱性黒化薄膜3に照射すると薄膜上
にビームの空間エネルギー分布に比例した温度上昇のパ
ターンが生じる。ステンレス箔を黒化した薄膜を用いた
場合には面内方向の熱拡散によって1耶程度の範囲で温
度分布が均一化されるには約20m5かかることが熱伝
導方程式から評価される。薄膜の瞬間的な温度上昇の分
布は裏面からサーモグラフィーカメラ部4によって測定
され、20m5以内に測定を完了させることにより1
mmの分解能でパルスレーザビームの空間エネルギー分
布が測定される。測定結果は任意の水平、垂直断面の1
次元分布とともに濃淡像でサーモグラフィー表示部5に
示される。
第2図は本発明の他の実施例を示しており、定常光源の
空間エネルギー分布を測定する。高輝度光源1から発生
した光を球面鏡2とレンズ3により平行光線4として黒
化薄膜6に照射する。光路にシャッター5を置き黒化薄
膜への照射時間を10m5程度に制御すれば、以後は前
例と同様にして定常光源の空間エネルギー分布が測定さ
れる。
空間エネルギー分布を測定する。高輝度光源1から発生
した光を球面鏡2とレンズ3により平行光線4として黒
化薄膜6に照射する。光路にシャッター5を置き黒化薄
膜への照射時間を10m5程度に制御すれば、以後は前
例と同様にして定常光源の空間エネルギー分布が測定さ
れる。
本発明は以上に示したように、レーザなどの高輝度光源
からの放射束を耐熱性黒化薄膜に照射・加熱し、薄膜の
温度上昇の分布をナベグラフィーで測定することによっ
て放射束の空間エネルギー分布を実測するものである。
からの放射束を耐熱性黒化薄膜に照射・加熱し、薄膜の
温度上昇の分布をナベグラフィーで測定することによっ
て放射束の空間エネルギー分布を実測するものである。
この発明により、従来i、ijl定が不可能であったレ
ーザ加工器の加工ビームの空間エネルギー分布の実測が
可能となり、加工゛精度の向上をはかることができる。
ーザ加工器の加工ビームの空間エネルギー分布の実測が
可能となり、加工゛精度の向上をはかることができる。
またレーザフラッシュ法による熱拡散率測定などのよう
に一様な空間エネルギー分布をもったビームを必要とす
る場合には、空間エネルギー分布の一様性を実測するこ
とにより熱拡散率の測定精度を評価できる。
に一様な空間エネルギー分布をもったビームを必要とす
る場合には、空間エネルギー分布の一様性を実測するこ
とにより熱拡散率の測定精度を評価できる。
第1図及び第2図は本発明の方法を実施する装置の異種
例を示す料硯図である。 3.6・・・耐熱性黒化薄膜
例を示す料硯図である。 3.6・・・耐熱性黒化薄膜
Claims (1)
- レーザなど高輝度の光源からの放射束を耐熱性黒化薄膜
に照射・加熱し、それによって生ずる薄膜の温度上昇の
分布をサーモグラフィーにより測定することを特徴とす
る光ビームパターン測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3976286A JPS62197718A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 光ビ−ムパタ−ン測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3976286A JPS62197718A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 光ビ−ムパタ−ン測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62197718A true JPS62197718A (ja) | 1987-09-01 |
Family
ID=12561954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3976286A Pending JPS62197718A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 光ビ−ムパタ−ン測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62197718A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003023341A3 (en) * | 2001-09-08 | 2003-05-30 | Avecia Ltd | Thermographic metthod |
WO2018131308A1 (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | キヤノン株式会社 | 計測装置、情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS592509U (ja) * | 1982-06-26 | 1984-01-09 | 中島 鉄雄 | コンクリ−ト型枠 |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP3976286A patent/JPS62197718A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS592509U (ja) * | 1982-06-26 | 1984-01-09 | 中島 鉄雄 | コンクリ−ト型枠 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003023341A3 (en) * | 2001-09-08 | 2003-05-30 | Avecia Ltd | Thermographic metthod |
WO2018131308A1 (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | キヤノン株式会社 | 計測装置、情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム |
JP2018112532A (ja) * | 2017-01-13 | 2018-07-19 | キヤノン株式会社 | 計測装置、情報処理装置、情報処理方法、およびプログラム |
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