JPS62197190A - 液面センサの洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、生化学分析装置その他の分析装置において、
試料や反応試薬を自動的に採取するサンプリングノズル
や試薬吸引ノズルなどに設けられている液面センサを自
動的に洗浄するための装置に関するものである。

（従来の技術） 生化学分析装置では、多数の血清や尿などの検体を順次
サンプリングノズルにより反応管に分注し、それらの分
注された試料に反応試薬を分注して反応させる。反応試
薬には試料と反応して分析対象の反応をするための化学
成分が含まれている。

反応後の試料は通常、測光により分析が行なわれる。

サンプリングノズルや試薬吸引ノズルには液面センサが
設けられていることが多い。液面センサは分注しようと
する試料や反応試薬の有無を調べるためのものであり、
例えばサンプリングノズルと液面センサの間に電圧をか
け、両者の間に流れる！流を測定することにより試料や
反応試薬の有無を検出するものである。

サンプリングノズルにより多数の検体を分注したり、試
薬吸引ノズルにより多数の反応試薬を分注したりすると
、液面センサの表面には蛋白質などが付着して汚れてく
る。液面センサ表面の汚れは検体吸引時に検体中に溶は
込んだり、液面センサ表面の腐蝕の原因になるなど、分
析精度に影響を及ぼす。

液面センサの汚れは、従来は柔らかい布や刷毛などを用
いて液面センサの表面をふき取ることにより行なわれて
いる。

（発明が解決しようとする問題点） 布や刷毛などでふいて液面センサ表面の汚れを均一に拭
い取ることは容易なことではない。

本発明は、生化学分析装置やその他の分析装置において
使用される液面センサの汚れを、自動的に洗浄すること
のできる装置を提供することを目的とするものである。

（問題点を解決するための手段） 実施例を示す第１図を参照して説明すると、本考案の洗
浄装置では、液面センサ（１８）が浸漬される洗浄槽（
２）の底部に振動素子（１４）が設けられており、また
、洗浄槽（２）の底部には洗剤と水とが電磁弁（８）の
切換えにより切り換えて注入される注入口（６）が設け
られ、この洗浄槽（２）から洗剤及び水が溢れて排水さ
れるようになっており、液面センサ（１８）を駆動部（
２２）を介して移動させ、振動素子（１４）を電源（１
６）を介して動作させ、注入口（６）から注入される洗
剤と水とを電磁弁（８）を介して切り換える制御部（１
２）を備えている。

（実施例） 第１図は本発明の一実施例を表わす。

２は洗浄槽であり、洗浄槽２の外側には洗浄槽２よりも
壁面の高い廃液溜め部４が設けられている。洗浄槽２の
底部には注入口６が設けられており、この注入口６から
は電磁弁８の切換えにより洗剤又は純水が洗浄槽２内に
注入されるようになっている。廃液溜め部４の底部には
排水口１０が設け、注入口６から注入された洗剤又は水
は洗浄槽２から溢れると廃液溜め部４に入り、排水口１
０を経て外部に排出される。電磁弁８の切換えは制御部
としてのＣＰＵ１２により制御される。

洗浄槽２の底部には、超音波を発生する振動素子１４が
バッキング１５を介して洗浄槽２の底面＝３＝ に固定させられている。これにより振動素子１４の振動
は洗浄槽２には伝わらず、洗浄槽２内の洗剤又は水にの
み伝えられる。１６は振動素子１４に電圧を印加するた
めの電源であり、振動素子１４の動作はＣＰＵ１２によ
り制御される。

１８は洗浄しようとする液面センサであり、サンプリン
グノズル２０に取りつけられ、サンプリングノズル２０
とともに移動するようになっている。２２は液面センサ
１８をサンプリングノズル２０とともに移動させるため
の駆動部であり、液面センサ１８とサンプリングノズル
２０の移動はＣＰＴＪ１２により制御される。

振動素子１４の構造の一例を第２図に示す。

２４は圧電型又は磁歪型の振動子であり、その振動子２
４の周囲を絶縁板２６が被覆している。

２８は絶縁板２６のさらに外側を被覆する振動板である
。振動子２４、絶縁板２６、振動板２８のそれぞれの間
は接着剤により接着されている。

振動素子】４を洗浄槽２の底面に密着するには、第１図
のバッキング１５に代えて０リングその他の弾性部材を
用いるようにしてもよい。

液面センサ１８は、ノズル２０との間に電圧を印加する
ことにより、液面センサ】８とノズル２０との間に発生
する電流により液体の有無を検出する方式のセンサであ
る。

次に、本発明の動作について第３図を参照して説明する
。

１日の作業が終了すると分析装置を停止させ、反応ライ
ンを洗浄する（ステップＳｌ、Ｓ２）。

次に、ＣＰＵ１２から液面センサ１８の洗浄を指示する
信号が駆動部２２に出される（ステップＳ３）。駆動部
２２はその信号により液面センサ１８を洗浄槽２の上方
に移動させ、さらに液面センサ１８を下降させて洗浄槽
２内に位置決めする（ステップ８４）。

液面センサ１８の移動が完了すると、ＣＰＵＩ２から電
磁弁８に信号が送出され、電磁弁８が洗剤側に開き、洗
浄槽２に洗剤が供給される（ステップ８５）。そして、
ＣＰＵ１２からの信号により電源１６を介して振動素子
１４がオンとなり、洗剤中での液面センサ１８の洗浄が
開始される（ステップＳ６）。洗剤中での洗浄が一定時
間行なわれると、ＣＰＵ］２からの信号により電磁弁８
が切り換わり、注入口６からは純水が注入される（ステ
ップＳ７）。純水は振動素子１４がオンとなって液面セ
ンサ１８を洗浄している間連続して供給され、洗浄槽２
の上部から溢れて排出口１０から排出されることにより
、洗浄槽２の液が純水に置換されていく。

洗剤又は純水中における液面センサ１８の洗浄は、振動
素子１４中の振動子２４が電源１６中の発振回路により
振動することにより振動子２４の振動が接着剤及び絶縁
板２６を介して振動板２８に伝達され、この振動板２８
により洗剤又は純水に超音波が伝達され、洗浄槽２内の
液の上方向に向って定在波が形成される。との定在波に
より、液面センサ１８の表面に付着した汚れが取り除か
れる。

純水による洗浄が一定時間経過すると、ＣＰＵ１２から
の洗浄終了を指示する信号により駆動部２２を介して液
面センサ１８がもとの分析装置の位置に戻され、電源１
６を介して振動素子１４の動作が停止させられ、電磁弁
８により純水の供給が停止させられる（ステップＳ８．
Ｓ９）。

（発明の効果） 本発明の洗浄装置を使用すれば、制御部からの指示によ
り液面センサの表面がまず洗剤中で、次に純水中でそれ
ぞれ自動的に超音波洗浄されるので、多数の検体や試料
を分析しても液面センサの表面を常に正常な状態に保持
しておくことができ、液面センサの汚れに起因するデー
タのばらつきを抑えることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図は
振動素子を示す斜視断面図、第３図は一実施例を示すフ
ローチャートである。 ２・・・・・・洗浄槽、 ６・・・・・・注入口、 ８・・・・・・電磁弁、 １０・・・・・・排水口、 １２・・・・・・制御部としてのＣＰＵ、１４・・・・
・・振動素子、 １８・・・・・・液面センサ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）液面センサが浸漬される洗浄槽の底部に振動素子
   が設けられており、また、この洗浄槽の底部には洗剤と
   水とが電磁弁の切換えにより切り換えて注入される注入
   口が設けられ、この洗浄槽から洗剤及び水が溢れて排水
   されるようになっており、 前記液面センサを駆動部を介して移動させ、前記振動素
   子を電源を介して動作させ、前記注入口から注入される
   洗剤と水とを前記電磁弁を介して切り換える制御部を備
   えている洗浄装置。