JPS6219494A - Base material for lithographic printing - Google Patents

Base material for lithographic printing

Info

Publication number
JPS6219494A
JPS6219494A JP15895685A JP15895685A JPS6219494A JP S6219494 A JPS6219494 A JP S6219494A JP 15895685 A JP15895685 A JP 15895685A JP 15895685 A JP15895685 A JP 15895685A JP S6219494 A JPS6219494 A JP S6219494A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lithographic printing
phosphate
printing plate
preferable
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15895685A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0528196B2 (en
Inventor
Shuichi Takamiya
周一 高宮
Hirokazu Sakaki
榊 博和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP15895685A priority Critical patent/JPS6219494A/en
Publication of JPS6219494A publication Critical patent/JPS6219494A/en
Publication of JPH0528196B2 publication Critical patent/JPH0528196B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the lithographic printing plate in which the picture part is strongly sticked to the base material, further the ink adhered to the non- picture part being quickly removed and contamination is difficult to be generated in the non-picture part, by providing the hydrophylic layer containing phosphate on the film of the aluminum plate having an anodic oxidation film. CONSTITUTION:It is the base material for lithographic printing plate in which the hydrophylic layer containing phosphate is established on the anodic oxidation film of the aluminum plate having said film. Preferable phosphates to be used are the metal salts or ammonium salts of Ia, IIa, IIb, IIIb, VIIa or VIII groups. They are concretely the salts of NH4, Li, Be, B, Na, Ba, etc. or the salt containing not less than 2 kinds of those constituents. Especially, those of 1,000 max. in molecular weight should be preferable. If the molecular weight exceeds 1,000, the layer becomes undesirably easy to be peeled. Though there are the primary, the secondary, the tertiary phosphate, etc. as preferable hydrophylic phosphate, the especially preferable one is the primary phosphate such as KH2PO4, NaH2PO4 and NH4H2PO4.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は平版印刷版用支持体に関するものであり、特に
陽極酸化皮膜上に改良された親水層を有するアルミニウ
ム板よりなる平版印刷版用支持体に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of the Invention] The present invention relates to a support for a lithographic printing plate, and more particularly to a support for a lithographic printing plate made of an aluminum plate having an improved hydrophilic layer on an anodized film. It is something.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、平版印刷版には、アルミニウム板上に感光性組成
物を薄層状に塗設した所謂PS版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシダレイン法やボールダレイン法
のごとき機械的な方法や電解ダレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両   ;者を組合せた方法などの粗
面化処理に付され、そ   iの表面が梨地状にされた
のち、酸またはアルカリ等の水溶液によりエツチングさ
れ、さらに陽極酸   ;化処理を経たのち所望により
親水化処理が施され   ′て平版印刷版用支持体とさ
れ1、この支持体上に感光層が設けられてPS版(平版
印刷版)とされる。  □このPS版は、通常、像露光
、現像、修正、ガム   □引き工程を施して平版印刷
版とされ、これを印刷   □機に取り付けて印刷する
Conventionally, lithographic printing plates include so-called PS plates in which a photosensitive composition is coated in a thin layer on an aluminum plate. The surface is roughened by an electrochemical method such as the electrolytic dalein method, or a combination of both methods, and the surface is made into a matte finish, and then etched with an aqueous solution such as an acid or alkali. After further anodic acid treatment, a hydrophilic treatment is applied as desired to form a support for a lithographic printing plate1, and a photosensitive layer is provided on this support to form a PS plate (lithographic printing plate). Ru. □This PS plate is usually subjected to image exposure, development, correction, and gumming □pulling processes to make a lithographic printing plate, which is attached to a printing □ machine and printed.

しかしながら上記の平版印刷版において、像露光、現像
して得られた平版印刷版の非画像部には感光層中に含ま
れる物質が不可逆的に吸着し、非画像部を汚染するため
、修正工程で画像部と非画像部の識別が困難であったり
、修正跡が明瞭に残り不均一な版面となり、その程度が
ひどくなると汚れとなるため印刷版として使用できな(
なるという問題があった。
However, in the above-mentioned lithographic printing plate, substances contained in the photosensitive layer irreversibly adsorb to the non-image area of the lithographic printing plate obtained by imagewise exposure and development, contaminating the non-image area. It is difficult to distinguish between the image area and the non-image area, or the plate surface becomes uneven with clear traces of correction, and if this becomes severe, it becomes smudged and cannot be used as a printing plate (
There was a problem.

これを改善するため、従来は、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体表面を、米国特許3.181.461号明
細書に記載されているようなアルカリ金属珪酸塩中に浸
漬する方法、米国特許3.860.426号明細書に記
載されているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロ
ースを下塗りする方法、又は英国特許2.098.62
7号に記載されているようなアIJ +ルスルホン酸ナ
トリウムを下塗りする方法等の処理が施されている。こ
のような処理を施すことによって、上述した非画像部の
汚染を防止して印刷物に“汚れ”が生じないようにする
ことができるが、その反面印刷物の耐刷性が、上記処理
を施さない場合の50〜80%に減少するという新たな
問題を伴なう欠点があった。
In order to improve this, a conventional method has been used in which the anodized aluminum support surface is immersed in an alkali metal silicate as described in US Pat. No. 3,181,461. 860.426, or British Patent No. 2.098.62.
A treatment such as a method of undercoating with AJ+sodium sulfonate as described in No. 7 is applied. By performing such processing, it is possible to prevent the above-mentioned contamination of the non-image area and prevent "stains" from occurring on the printed matter, but on the other hand, the printing durability of the printed matter may be reduced if the above treatment is not applied The disadvantage was that it was accompanied by a new problem: a reduction of 50 to 80% of the case.

また、従来は陽極酸化処理したアルミニウム支持体表面
に、特公昭44−6410号公報に記載されているよう
なトリヒドロキシベンツ′−ルカルボン酸の薄層を設け
る方法、又は特公昭41−14337号公報に記載され
ているようなメリット酸の薄層を設ける方法、又は特公
昭3B−8907号公報に記載されているようなホスホ
ン酸およびその誘導体よりなる薄層を設ける方法等の処
理を施すことによって画像部の密着−性を良くすること
も試みられたが、その反面非画像部の汚れが、上記処理
を施さない場合に比べて著しく悪化するという新たな問
題が生じた。特に28版を製造後、経時するにつれてこ
のような問題は顕著になる傾向があった。
In addition, conventional methods include providing a thin layer of trihydroxybenz'-carboxylic acid on the surface of an anodized aluminum support as described in Japanese Patent Publication No. 44-6410, or Japanese Patent Publication No. 41-14337. By applying a treatment such as a method of providing a thin layer of mellitic acid as described in Japanese Patent Publication No. 3B-8907, or a method of providing a thin layer of phosphonic acid and its derivatives as described in Japanese Patent Publication No. 3B-8907. Attempts have been made to improve the adhesion of the image area, but on the other hand, a new problem has arisen in that the staining of the non-image area is significantly worse than when the above-mentioned treatment is not performed. Particularly after producing the 28th edition, such problems tended to become more noticeable as time passed.

また従来の平版印刷版では、非画像部に付着したインキ
が迅速に除去されないために汚れを生じるという問題も
あった。
Furthermore, conventional planographic printing plates have the problem that ink adhering to non-image areas is not quickly removed, resulting in stains.

このように従来より、高耐刷力を有する平版印刷版は非
画像部が汚れ易く、逆に非画像部の汚れ難い平版印刷版
は耐刷力が低いという性質をもっており、これら両者の
性能を同時に改善させることは極めて困難であるとされ
ていた。
In this way, it has traditionally been the case that lithographic printing plates with high printing durability are prone to staining in non-image areas, and conversely, lithographic printing plates that are hard to stain in non-image areas have low printing durability. It was believed that it would be extremely difficult to make improvements at the same time.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

したがって本発明の目的は、画像部が支持体に強固に密
着し、しかも非画像部に付着したインキが迅速に除去さ
れ、非画像部に汚染を生じにくい平版印刷版を得ること
ができるような平版印刷版用支持体を提供することであ
る。
Therefore, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate in which the image area is firmly adhered to the support, and ink adhering to the non-image area is quickly removed, and the non-image area is less likely to be contaminated. An object of the present invention is to provide a support for a lithographic printing plate.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明者らは上記の目的を達成すべく鋭意検討した結果
本発明をなすに至った。本発明は、陽極酸化皮膜を有す
るアルミニウム板の該皮膜上にリン酸塩を含む親水層を
設けたことを特徴とする平版印刷版用支持体である。本
発明に使用される好ましいリン酸塩は、周期表のIa、
IIa、IIb。
The present inventors have made extensive studies to achieve the above object, and as a result, have completed the present invention. The present invention is a support for a lithographic printing plate, characterized in that a hydrophilic layer containing a phosphate is provided on an aluminum plate having an anodized film. Preferred phosphates used in the present invention are Ia of the periodic table,
IIa, IIb.

■b1■aまたは■族の金属の塩、またはアンモニウム
塩である。
■b1■a or group ■ metal salt, or ammonium salt.

具体的には、N H4、L i、Be5B、Na。Specifically, NH4, Li, Be5B, Na.

Mg、AI!、KS CaX Mn、Fe、Co、Ni
Mg, AI! , KS CaX Mn, Fe, Co, Ni
.

ZnSSr、Ba等の塩またはこれらの2種以上を含む
塩である。
It is a salt such as ZnSSr or Ba, or a salt containing two or more of these.

特に分子量が1000以下のものが好ましい。Particularly preferred are those having a molecular weight of 1000 or less.

分子量が1000を越えると、層剥離を起しやすくなり
、好ましくない。好ましい親水性リン酸塩の具体例とし
てはNH,112PO,、(N)14)211P[1,
、K112PO,、K、1IPO,、ZnHPO−1N
H,Na1lP04、NH,KIIPO,、N114C
aPO4、A I (LPL) 3、A I!、 (H
PO,)、、MnHPO4、Mn (H2PO,)2、
Mn1la (PO−)2、C03(PO4)2 、B
a(H2PO,)2、Ba11P04、Li)!zP0
4 、LI2HP口4  、Bez(P[1s)2 、
Bl’04 、N1a(PD<)z 、Mg、3(PD
<)z 、FeHP[]4、Fe3 (PO4)2、S
r (l12P[+−> 2.5rllP04等の第一
、第二および第三リン酸塩等が挙げられる。これらのう
ち特に好ましいものはKl(2P[1,、NaHaPO
,、NH,H2PO4のような第一リン酸塩である。
When the molecular weight exceeds 1000, layer peeling tends to occur, which is not preferable. Specific examples of preferable hydrophilic phosphates include NH, 112PO,, (N)14)211P[1,
,K112PO,,K,1IPO,,ZnHPO-1N
H, Na1lP04, NH, KIIPO,, N114C
aPO4, A I (LPL) 3, A I! , (H
PO, ), , MnHPO4, Mn (H2PO,)2,
Mn1la (PO-)2, C03(PO4)2, B
a(H2PO,)2, Ba11P04, Li)! zP0
4, LI2HP mouth 4, Bez(P[1s)2,
Bl'04, N1a(PD<)z, Mg, 3(PD
<)z, FeHP[]4, Fe3 (PO4)2, S
Examples include primary, secondary and tertiary phosphates such as r(l12P[+->2.5rllP04, etc.) Among these, particularly preferred are Kl(2P[1,, NaHaPO
, , NH, H2PO4.

以下、本発明について順を追って詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail step by step.

本発明において用いられるアルミニウム板はアルミニウ
ム主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含むア
ルミニウム合金等の板状体である。
The aluminum plate used in the present invention is a plate-shaped body made of pure aluminum containing aluminum as a main component or an aluminum alloy containing a trace amount of foreign atoms.

このような異原子には、珪素、鉄、マンガン、銅、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン
などがある。これらの異原子の含有率は一般に10重量
%以下である。本発明の支持体に好適なアルミニウムは
純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは
、製錬技術上製造が困難であるので、できるだけ異原子
を含まないものがよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな〈
従来公知、公用の素材のものを適宜利用することができ
る。本発明に用いられるアルミニウム板の厚さは、およ
そ0.1mm〜0.5mm程度が適当である。
Such foreign atoms include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of these foreign atoms is generally 10% by weight or less. Aluminum suitable for the support of the present invention is pure aluminum, but since it is difficult to produce completely pure aluminum due to smelting technology, it is preferable to use aluminum that contains as few foreign atoms as possible. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified.
Conventionally known and publicly used materials can be used as appropriate. The appropriate thickness of the aluminum plate used in the present invention is approximately 0.1 mm to 0.5 mm.

アルミニウム板の陽極酸化するに先立ち、表面の圧延油
を除去するための、例えば界面活性剤又はアルカリ性水
溶液による脱脂処理、および砂目立処理が所望により行
なわれる。
Prior to anodizing the aluminum plate, degreasing treatment using, for example, a surfactant or an alkaline aqueous solution and graining treatment are carried out, if desired, in order to remove rolling oil from the surface.

砂目立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研摩法、ブラシ研摩法、ブラスト
研摩法、パフ研摩法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
Graining treatment methods include a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. As a method for mechanically roughening the surface, known methods such as ball polishing, brush polishing, blast polishing, puff polishing, etc. can be used.

また電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液
中で交流又は直流により、行なう方法がある。また、特
開昭54−63902号公報に開示されているように両
者を組合せた方法も利用することができる。
Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method in which alternating current or direct current is used in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Furthermore, a method that combines both methods can also be used, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-63902.

このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
The aluminum plate thus roughened is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as required.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては硫酸、燐酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸
が用いられ、それらの電解質やその濃度は電解質の種類
によって適宜法められる。
Sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used as the electrolyte for anodizing the aluminum plate, and the electrolyte and its concentration are determined as appropriate depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1
〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜6
0A/dm2、電圧1〜100■、電解時間10秒〜5
0分の範囲が適当である。
The treatment conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used, so they cannot be specified definitively, but generally the electrolyte concentration is 1.
~80% by weight solution, liquid temperature 5~70℃, current density 5~6
0A/dm2, voltage 1~100■, electrolysis time 10 seconds~5
A range of 0 minutes is appropriate.

陽極酸化皮膜の量は0.1〜10 g 7m2が好適で
あるが、より好ましくは1〜6 g /m”の範囲であ
る。上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化
皮膜上に水又はメタノールなどの有機溶剤に前記のリン
酸塩を溶解させた溶液をi布、乾燥して親水層を設ける
ことにより、本発明の平版印刷版用支持体が得られる。
The amount of the anodic oxide film is preferably in the range of 0.1 to 10 g/m2, but more preferably in the range of 1 to 6 g/m2. Alternatively, the lithographic printing plate support of the present invention can be obtained by dissolving a solution of the phosphate in an organic solvent such as methanol and drying it to form a hydrophilic layer.

塗布液中のリン酸塩の濃度は0.001〜10重量%が
適当である。このとき、塗布液のpHは1〜13の範囲
にあるのが好ましい。また塗布液の温度は10〜50℃
の範囲が適当である。
The appropriate concentration of phosphate in the coating solution is 0.001 to 10% by weight. At this time, the pH of the coating liquid is preferably in the range of 1 to 13. Also, the temperature of the coating liquid is 10 to 50℃
A range of is appropriate.

塗布方法としては、浸漬塗布、回転塗布、スプレー塗布
、カーテン塗布等のいずれの方法を用いてもよい。塗布
量は、乾燥後の被覆量で1〜100mg/m2が好適で
あるが、より好ましくは5〜50mg/m2の範囲であ
る。上記の被覆量がl mg 7m2より少なくなると
非画像部の汚れ防止効果がなくなりまた、非画像部に付
着したインキを除去することが難しくなる。他方100
mg/m2より多くなると感光層と支持体との密着性が
劣化し、耐刷力の低い平版印刷版しか得られなくなる。
As the coating method, any method such as dip coating, spin coating, spray coating, curtain coating, etc. may be used. The coating amount after drying is preferably from 1 to 100 mg/m2, more preferably from 5 to 50 mg/m2. If the above-mentioned coating amount is less than 1 mg 7 m2, the effect of preventing stains in the non-image area is lost and it becomes difficult to remove the ink adhering to the non-image area. the other 100
When the amount exceeds mg/m2, the adhesion between the photosensitive layer and the support deteriorates, and only a lithographic printing plate with low printing durability can be obtained.

このような親水層を設ける前又は後に、陽極酸化された
アルミニウム板を米国特許第3.181.461号に記
載されているように、アルカリ金属シリケート(例えば
珪酸ソーダ)の水溶液で処理することができる。
Before or after providing such a hydrophilic layer, the anodized aluminum plate can be treated with an aqueous solution of an alkali metal silicate (e.g. sodium silicate) as described in U.S. Pat. No. 3,181,461. can.

このようにして得られた平版印刷版用支持体の上に、従
来より知られている感光層を設けて、感光性平版印刷版
を得ることができ、これを製版処理して得た平版印刷版
は、優れた性能を有している。
A conventionally known photosensitive layer can be provided on the lithographic printing plate support thus obtained to obtain a photosensitive lithographic printing plate. The plate has excellent performance.

上記の感光層の組成物としては、露光の前後で現像液に
対する溶解性又は膨潤性が変化するものであれば、いず
れも使用できる。以下、その代表的なものについて説明
する。
As the composition for the above-mentioned photosensitive layer, any composition can be used as long as its solubility or swelling property in a developer changes before and after exposure. The typical ones will be explained below.

■ ポジ作用型感光性ジアゾ化合物としては、特公昭4
3−28403号公報に記載されているベンゾキノン−
1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシ
フェニルとのエステル又はナフトキノン−1,2−ジア
ジドスルホン酸クロリドとピロガロール−アセトン樹脂
とのエステルが最も好ましいものである。その他の比較
的好適な0−キノンジアジド化合物としては、米国特許
第3.046.120号及び同第3.188.210号
の各明細書中に記載されているベンゾキノン−1,2−
ジアジドスルホン酸クロリド又はす7トキノンー1.2
−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルがある。
■ As a positive-acting photosensitive diazo compound,
Benzoquinone described in Publication No. 3-28403
Most preferred are esters of 1,2-diazide sulfonic acid chloride and polyhydroxyphenyl or esters of naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin. Other comparatively suitable 0-quinonediazide compounds include benzoquinone-1,2-
Diazide sulfonic acid chloride or 7-toquinone-1.2
- There are esters of diazide sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin.

0−キノンジアジド化合物は単独で感光層を構成するが
、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤(バインダー)とし
て併用してもよい。このアルカリ水に可溶性の樹脂とし
ては、ノボラック樹脂があり、たとえばフェノールホル
ムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
p−t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、フェ
ノール変性キシレン樹脂、フェノール変性キシレン・メ
シチレン樹脂などがある。その他の有用なアルカリ水可
溶性樹脂としてポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン
化ヒドロキシスチレン化(メタ)アクリル酸と他のビニ
ル化合物とのコポリマーを挙げることができる。
The 0-quinonediazide compound alone constitutes the photosensitive layer, but a resin soluble in alkaline water may be used in combination as a binder. Examples of resins soluble in alkaline water include novolac resins, such as phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin,
Examples include pt-butylphenol formaldehyde resin, phenol-modified xylene resin, and phenol-modified xylene/mesitylene resin. Other useful alkaline water-soluble resins include polyhydroxystyrene, copolymers of polyhalogenated hydroxystyrenated (meth)acrylic acid and other vinyl compounds.

0−キノンジアジド化合物からなる感光層およびその現
像液の更なる詳細は米国特許第4、259.434号に
記載されている。
Further details of photosensitive layers consisting of 0-quinonediazide compounds and their developers are described in U.S. Pat. No. 4,259,434.

■ ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光性組成物。■A photosensitive composition consisting of a diazo resin and a binder.

ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成−物であるジフェニルアミン−p−ジ
アゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂
感光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。その他の有用
な縮合ジアゾ化合物は米国特許第3.679.419号
、英国特許第1.312.925号、同1.312.9
26号の各明細書等に開示されている。これらの型の感
光性ジアゾ化合物は、通常水溶性無機塩の型で得られ、
従って水溶液から塗布することができる。又、これらの
水溶性ジアゾ化合物を英国特許第1.280.885号
明細書に開示された方法により1個又はそれ以上のフェ
ノール性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有する芳
香族又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物であ
る実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用すること
もできる。
As a negative-acting photosensitive diazo compound, US Patent No. 2.
Diphenylamine is a reaction product of the diazonium salt disclosed in No. 063.631 and No. 2.667, 415 and an organic condensing agent containing a reactive carbonyl group such as aldol or acetal. A condensation product of -p-diazonium salt and formaldehyde (so-called photosensitive diazo resin) is preferably used. Other useful fused diazo compounds are U.S. Pat. No. 3.679.419, British Pat.
It is disclosed in each specification of No. 26. These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts,
Therefore, it can be applied from an aqueous solution. Alternatively, these water-soluble diazo compounds can be converted into aromatic or aliphatic compounds having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups, or both by the method disclosed in British Patent No. 1.280.885. It is also possible to use a substantially water-insoluble photosensitive diazo resin which is a reaction product of the reaction.

また、特開昭56−121031号公報に記載されてい
るようにヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフルオロ
硼酸塩との反応生成物として使用することもできる。
It can also be used as a reaction product with hexafluorophosphate or tetrafluoroborate as described in JP-A-56-121031.

そのほか、米国特許第1.312.925号明細書に記
載されているジアゾ樹脂も好ましい。
In addition, diazo resins described in US Pat. No. 1,312,925 are also preferred.

このようなジアゾ樹脂は、バインダーと共に用いられる
。好ましいバインダーは酸価10〜200を有する有機
高分子重合体であり、具体例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須の重合
成分として含む共重合体、例えば米国特許第4.123
.276号に記されている様な2−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、アクリロニトリルまたはメタクリレートリル、アクリ
ル酸またはメタクリル酸および必要に応じて更に他の共
重合しうるモノマーとの3元または4元共重合体、特開
昭53−120903号公報に記載されている様な末端
がヒドロキシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基
を含む基でエステル化されたアクリル酸またはメタクリ
ル酸、アクリル酸またはメタクリル酸、および必要に応
じて更に他の共重合しろるモノマーとの共重合体、特開
昭54−98614号公報に記載されている様な芳香族
性水酸基を末端に有する単量体(例えばN−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、アクリル酸
またはメタクリル酸、及び更に必要に応じて他の共重合
可能なモノマーの少なくとも1つとの共重合体、特開昭
56−4144号公報に記載されている様なアルキルア
クリレートまたはメタクリレート、アクリロニトリルま
たはメタクリレートリル、および不飽和カルボン酸より
なる共重合体が含まれる。また酸性ポリビニルアルコー
ル誘導体、酸性セルロース誘導体も有用である。
Such diazo resins are used together with binders. Preferred binders are organic polymers having an acid value of 10 to 200, and specific examples include copolymers containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, or maleic acid as an essential polymerization component, such as U.S. Pat. .123
.. 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylate trile, acrylic acid or methacrylic acid and optionally further copolymerizable monomers as described in No. 276. Original copolymer, acrylic acid or methacrylic acid, acrylic acid or Copolymers of methacrylic acid and, if necessary, other copolymerizable monomers, monomers having an aromatic hydroxyl group at the end as described in JP-A No. 54-98614 (e.g. N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, etc.), acrylic acid or methacrylic acid, and if necessary, a copolymer with at least one other copolymerizable monomer, as described in JP-A-56-4144. Included are copolymers of alkyl acrylates or methacrylates, acrylonitrile or methacrylatetrile, and unsaturated carboxylic acids as described. Also useful are acidic polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives.

■ 活性光線の照射により二層化を起す化合物を含む組
成物。例えばポリ桂皮酸ビニル、ポリビニルシンナモイ
ルエチルエーテル、ポリエチレンシンナメートアクリレ
ート、及びその共重合体、ポリエチルシンナメートメタ
クリレート及びその共重合体、ポリパラビニルフェニル
シンナメート及びその共重合体、ポリビニルベンザール
アセトフェノン及びその誘導体、ポリビニルシンナミリ
デンアセテート及びその誘導体、アクリル酸アリルプレ
ポリマー及びその誘導体、パラフェニレンジアクリル酸
とポリハイドリックアルコールから成るポリエステル樹
脂の誘導体で、例えば米国特許第3.030.208号
明細書に記載されているような化合物などがある。
■ A composition containing a compound that causes two-layer formation upon irradiation with actinic rays. For example, polyvinyl cinnamate, polyvinyl cinnamoyl ethyl ether, polyethylene cinnamate acrylate and its copolymers, polyethyl cinnamate methacrylate and its copolymers, polyparavinylphenyl cinnamate and its copolymers, polyvinyl benzal acetophenone and its derivatives, polyvinyl cinnamylidene acetate and its derivatives, allyl acrylate prepolymer and its derivatives, derivatives of polyester resins consisting of paraphenylene diacrylic acid and polyhydric alcohol, such as U.S. Pat. No. 3.030.208. These include compounds as described in the specification.

■ 活性光線の照射により重合反応を起す、いわゆる共
重合性組成物。例えば米国特許第2、760.863号
および同第3.060.023号明細書に記載の2個又
はそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる組成物がある。
■ A so-called copolymerizable composition that causes a polymerization reaction when irradiated with active light. For example, compositions comprising an addition polymerizable unsaturated compound having two or more terminal ethylene groups and a photopolymerization initiator as described in U.S. Pat. There is.

上記活性光線の照射により二層化する化合物および重合
反応する化合物には、更にバインダーとしての樹脂、増
感剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤などを含有させるこ
とができる。
The compound that forms two layers and the compound that undergoes a polymerization reaction upon irradiation with actinic rays may further contain a resin as a binder, a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a dye, a plasticizer, and the like.

上記の如き感光性組成物は、通常、水、有機溶剤、又は
これらの混合物の溶液として、本発明による支持体上に
塗布し、乾燥されて感光性平版印刷版が作成される。
The photosensitive composition as described above is usually applied as a solution of water, an organic solvent, or a mixture thereof onto the support according to the present invention, and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate.

感光性組成物の塗布量は、一般的に約0.1〜約5、0
 g 7m2が適当であり、約0.5〜約3.0g/m
’がより好ましい。
The coating amount of the photosensitive composition is generally about 0.1 to about 5.0
g 7m2 is suitable, about 0.5 to about 3.0g/m
' is more preferable.

かくして得られる感光性率−版印刷版はカーボンアーク
灯、キャノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどの如き活性光線を含む光源により画像露
光し、現像して平版印刷版が得られる。
The photosensitivity-plate printing plate thus obtained is imagewise exposed with a light source containing actinic rays such as a carbon arc lamp, a Cannon lamp, a mercury lamp, a tungsten lamp, a metal halide lamp, etc., and developed to obtain a lithographic printing plate.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により得られるアルミニウム支持体を用いた平版
印刷版は、従来のものに比べて高い耐剛力を与えると同
時に非画像部が汚れにくいという従来得られなかった優
れた性質を有している。
A lithographic printing plate using an aluminum support obtained according to the present invention has excellent properties not previously available, such as providing higher stiffness resistance than conventional plates and at the same time being resistant to staining in non-image areas.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例を用いて、より具体的に説明する
。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重
量%」を示すものとする。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail using Examples. Note that "%" in the examples indicates "% by weight" unless otherwise specified.

実施例I JIS1050アルミニウムシートをバミスー水懸濁液
を研摩剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。このときの表面粗さく中心線平均粗さ)は0.5
μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃
に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が6
 g 7m2になるようにエツチングした。水洗後、3
0%硝酸水溶液に1分間浸漬して中和し、十分水洗した
。その後に、0.7%硝酸水溶液中で、陽極特電圧13
ボルト、陰極特電圧6ボルトの矩形波交番波形を用いて
(特開昭52−77702号公報実施例に記載されてい
る電源波形)20秒間電電解面化を行ない、20%硫酸
の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗した
Example I The surface of a JIS1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a vamisu water suspension as an abrasive. At this time, the surface roughness (center line average roughness) is 0.5
It was μ. After washing with water, add 10% caustic soda aqueous solution to 70°C.
The amount of aluminum dissolved is 6.
g It was etched to a size of 7m2. After washing with water, 3
It was immersed in a 0% nitric acid aqueous solution for 1 minute to neutralize it, and then thoroughly washed with water. After that, in a 0.7% nitric acid aqueous solution, an anode special voltage of 13
Electrolytic surface treatment was carried out for 20 seconds using a rectangular alternating waveform with a cathode special voltage of 6 volts (power supply waveform described in the example of JP-A-52-77702), and a solution of 20% sulfuric acid at 50°C. After washing the surface by immersing it in water, it was washed with water.

さらに20%硫酸水溶液中で陽極酸化皮膜重量が3.0
 g /m”となるように直流を用いて陽極酸化処理を
施して水洗、乾燥後、基板(1)を用意した。
Furthermore, the weight of the anodic oxide film was 3.0 in a 20% sulfuric acid aqueous solution.
A substrate (1) was prepared after anodizing using a direct current so as to obtain a coating film of 1.5 g/m'', washing with water, and drying.

このように処理された基板(1)の表面に下記組成の溶
液(1)を塗布し80℃、30秒間乾燥 □した。
A solution (1) having the following composition was applied to the surface of the substrate (1) thus treated and dried at 80° C. for 30 seconds □.

乾燥後の被覆看は10mg/m2であった。The coating density after drying was 10 mg/m2.

このようにして、基板(If)を作成した。In this way, a substrate (If) was created.

また基板(1)に、第一リン酸アンモニウムの 1′7
.わ、Jl、IE−IJ7ヤカ、つ、、や□いえ工8、
え。 1溶液(n)を塗布し、80℃、30秒間乾燥し
た。−,1被覆量は乾燥後10mg/m’であった。
Also, on the substrate (1), 1'7 of monoammonium phosphate
.. Wow, Jl, IE-IJ7 Yaka, Tsu,, ya□Ieko8,
picture. 1 solution (n) was applied and dried at 80° C. for 30 seconds. -,1 coating amount was 10 mg/m' after drying.

このようにして、基1ffl(III)を作成した。In this way, the group 1ffl(III) was created.

さらに比較のため、カルボキシメチル、セルローズ(分
子125,000)又はポリビニルアルコール(分子1
11Q、000)をそれぞれ水に溶解し、乾燥後の被覆
量が10mg/m2となるように基板(1)上に設けて
、それぞれ基板(■)、基板(V)を設けた。
For further comparison, carboxymethyl, cellulose (125,000 molecules) or polyvinyl alcohol (1 molecule
11Q.

このようにして作成した基板(1)〜(■)に下記組成
物を乾燥後の塗布重量が2.5g/m2となるように塗
布しテ感光層を設けた。
The following composition was coated on the substrates (1) to (■) thus prepared so that the coating weight after drying was 2.5 g/m<2> to provide a photosensitive layer.

このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジティ゛ブフイルムを通して1mの距離か
ら3KWのメタルハライドランプにより、50秒間露光
を行なったのち、SiO□/Na、Oのモル比が1.7
4の珪酸す) IJウムの5.26%水溶液(pH= 
12.7 )で現像した。
The photosensitive planographic printing plate thus produced was exposed in a vacuum printing frame through a transparent positive film from a distance of 1 m using a 3KW metal halide lamp for 50 seconds, and then exposed to SiO□/Na,O. molar ratio is 1.7
4) 5.26% aqueous solution of IJium (pH=
12.7).

このように現像した後、十分水洗し、ガム引きしたのち
、常法の手順で印刷した。このときの非画像部の汚染と
耐刷力を調べた結果を第1表に示した。
After developing in this manner, the film was thoroughly washed with water and gummed, and then printed using a conventional procedure. Table 1 shows the results of examining the staining of the non-image area and printing durability at this time.

第1表の結果から、本発明による支持体は比較例のもの
に比べて耐刷力および非画像部の汚れのいずれにおいて
も満足すべきものであることが判る。
From the results in Table 1, it can be seen that the supports according to the present invention are more satisfactory in both printing durability and staining in non-image areas than those of the comparative examples.

実施例2 JIS1050アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研摩剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。このときの表面粗さく中心線平均粗さ)は0.5
μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃
に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量゛が
6 g 7m2になるようにエツチングした。水洗後、
30%硝酸水溶液に1分間浸漬して中和し、十分水洗し
た。その後に、0.7%硝酸水溶液中で、陽極特電圧1
3ボルト、陰極特電圧6ボルトの矩形波交番波形を用い
て(特開昭52−77702号公報実施例に記載されて
いる電源波形)20秒間電電解面化を行ない、20%硫
酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗し
た。
Example 2 The surface of a JIS1050 aluminum sheet was grained using a rotating nylon brush using a pumice water suspension as an abrasive. At this time, the surface roughness (center line average roughness) is 0.5
It was μ. After washing with water, add 10% caustic soda aqueous solution to 70°C.
It was etched by immersing it in a solution warmed to a temperature such that the amount of aluminum dissolved was 6 g 7 m2. After washing with water,
It was immersed in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute to neutralize it, and then thoroughly washed with water. After that, in a 0.7% nitric acid aqueous solution, the anode special voltage 1
Electrolytic surface treatment was carried out for 20 seconds using a rectangular alternating waveform of 3 volts and a cathode special voltage of 6 volts (power supply waveform described in the example of JP-A-52-77702), and 20% sulfuric acid was heated at 50°C. After washing the surface by immersing it in a solution, it was washed with water.

さらに20%硫酸水溶液中で陽極酸化皮膜重憬が1.5
 g 7m2となるように直流を用いて陽極酸化処理し
たのち、水洗し、2%珪酸ナトリウム水溶液に70℃で
1分間浸漬し、水洗、乾燥して支持体(VI)を用意し
た。
Furthermore, the weight of the anodized film was 1.5 in a 20% sulfuric acid aqueous solution.
After anodic oxidation using direct current so that the size of the support was 7 m2, it was washed with water, immersed in a 2% aqueous sodium silicate solution at 70°C for 1 minute, washed with water, and dried to prepare a support (VI).

このように処理された基板(■)、の表面に実施例1で
使用した溶液(1)を塗布し80℃、30秒間乾燥した
The solution (1) used in Example 1 was applied to the surface of the thus treated substrate (■) and dried at 80° C. for 30 seconds.

乾燥後の被覆量は、10mg/m’であった。The coating amount after drying was 10 mg/m'.

このようにして基板(■)を作成した。In this way, a substrate (■) was created.

また基板(VI)に実施例1で使用した溶液(II)を
塗布し80℃、30秒間乾燥した。
Further, the solution (II) used in Example 1 was applied to the substrate (VI) and dried at 80° C. for 30 seconds.

被覆量は乾燥後10mg/m2であった。The coating amount was 10 mg/m2 after drying.

このようにして基板(■)を作成した。In this way, a substrate (■) was created.

さらに比較のため、カルボキシメチルセルローズ(分子
量25.000)又はポリビニルアルコール(分子量1
0.000)をそ−れぞれ水に溶解し、乾燥後の被覆量
が10mg/m2となるように基板(VI)上に設けて
、それぞれ基板(■)、基板(X)を作成した。
Furthermore, for comparison, carboxymethyl cellulose (molecular weight 25,000) or polyvinyl alcohol (molecular weight 1
0.000) was dissolved in water and provided on the substrate (VI) so that the coating amount after drying was 10 mg/m2 to create a substrate (■) and a substrate (X), respectively. .

このようにして作成した基板(Vl)〜(X)に下記組
成物を乾燥後の塗布重量が2.5 g 7m2となるよ
うに塗布して感光層を設けた。
A photosensitive layer was provided on the substrates (Vl) to (X) thus prepared by applying the following composition so that the coating weight after drying was 2.5 g and 7 m<2>.

感光液 このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ネガティブフィルムを通して、1mの距離か
ら3KWのメタルハライドランプにより50秒間露光を
行なったのち、下記組成の現像液で現像し、アラビアガ
ム水溶液でガム引きして平版印刷版とした。
Photosensitive solution The photosensitive lithographic printing plate thus prepared was exposed in a vacuum printing frame through a transparent negative film from a distance of 1 m for 50 seconds using a 3KW metal halide lamp, and then exposed to light using a developer having the following composition. It was developed and gummed with an aqueous gum arabic solution to prepare a lithographic printing plate.

現像液 このようにして製版された印刷版を、通常の手順で印刷
した。
Developer The printing plate made in this manner was printed in the usual manner.

このときの非画像部の汚れと耐刷力を調べた結果を第2
表に示した。
The results of checking the stains and printing durability of the non-image area at this time are shown in the second section.
Shown in the table.

第2表の結果から、本発明による支持体は、比較例のも
のに比べて耐剛力および非画像部の汚れのいずれにおい
ても満足すべきものであることが判る。
From the results in Table 2, it can be seen that the support according to the present invention is more satisfactory in both stiffness resistance and staining in non-image areas than the support of the comparative example.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板の該皮膜上
に、リン酸塩を含む親水層を設けたことを特徴とする平
版印刷版用支持体。
(1) A support for a lithographic printing plate, characterized in that a hydrophilic layer containing a phosphate is provided on an aluminum plate having an anodized film.
(2)リン酸塩が周期表の I a、IIa、IIb、IIIb、
VIIaまたはVIII族の金属の塩、またはアンモニウム塩
である特許請求の範囲第(1)項記載の平版印刷版用支
持体。
(2) Phosphate is Ia, IIa, IIb, IIIb on the periodic table,
The support for a lithographic printing plate according to claim 1, which is a salt of a group VIIa or VIII metal, or an ammonium salt.
(3)リン酸塩の分子量が、1000以下である特許請
求の範囲第(1)項記載の平版印刷版用支持体。
(3) The support for a lithographic printing plate according to claim (1), wherein the phosphate has a molecular weight of 1000 or less.
(4)親水層の被覆量が、1〜100mg/m^2であ
る特許請求の範囲第(1)項記載の平版印刷版用支持体
(4) The support for a lithographic printing plate according to claim (1), wherein the coating amount of the hydrophilic layer is 1 to 100 mg/m^2.
JP15895685A 1985-07-18 1985-07-18 Base material for lithographic printing Granted JPS6219494A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15895685A JPS6219494A (en) 1985-07-18 1985-07-18 Base material for lithographic printing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15895685A JPS6219494A (en) 1985-07-18 1985-07-18 Base material for lithographic printing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6219494A true JPS6219494A (en) 1987-01-28
JPH0528196B2 JPH0528196B2 (en) 1993-04-23

Family

ID=15683015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15895685A Granted JPS6219494A (en) 1985-07-18 1985-07-18 Base material for lithographic printing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6219494A (en)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216796A (en) * 1986-03-19 1987-09-24 Dainippon Ink & Chem Inc Manufacture of supporter for planograph plate
EP0565006A2 (en) 1992-04-06 1993-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing PS plate
EP0762208A2 (en) 1995-09-08 1997-03-12 Konica Corporation Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate
JP2003003296A (en) * 2001-06-25 2003-01-08 Mitsubishi Alum Co Ltd Surface treated aluminum material and aluminum formed body
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1625944A1 (en) 2004-08-13 2006-02-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of manufacturing lithographic printing plate support
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1712368A1 (en) 2005-04-13 2006-10-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate
JP2008208449A (en) * 2007-01-29 2008-09-11 Kobe Steel Ltd Surface treatment agent for aluminum alloy, and surface treatment method for aluminum alloy
EP1972438A1 (en) 2007-03-20 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2100677A1 (en) 2008-03-06 2009-09-16 Fujifilm Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
WO2011037005A1 (en) 2009-09-24 2011-03-31 富士フイルム株式会社 Lithographic printing original plate

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI784889B (en) 2022-03-01 2022-11-21 林志成 Anti-cracking component structure for door and window corner walls and anti-cracking components thereof

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134007A (en) * 1974-09-12 1976-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd INSATSUBANYOSHIJITAINOSETOZOHOHO
JPS555829A (en) * 1978-06-28 1980-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd Surface protective agent for flat printing plate
JPS5519504A (en) * 1978-06-23 1980-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Lithoprinting plate protective agent
JPS5573590A (en) * 1978-11-29 1980-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd Protective agent for planographic printing plate
JPS55105581A (en) * 1979-02-09 1980-08-13 Fuji Photo Film Co Ltd Protecting agent for surface of form for lithographic printing
JPS5615397A (en) * 1979-07-16 1981-02-14 Hoechst Co American Water flat board finishing agent and method of finishing developed flat board
JPS56133193A (en) * 1980-02-19 1981-10-19 Hoechst Ag Method of preserving flat board printing block
JPS5816893A (en) * 1981-07-06 1983-01-31 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Supporter for offset printing cylinder and its manufacture
JPS5818291A (en) * 1981-07-06 1983-02-02 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Supporter for offset printing plate and its manufacture
JPS58128898A (en) * 1982-01-26 1983-08-01 Fuji Photo Film Co Ltd Treating liquid for making offset master hydrophilic
JPS58140299A (en) * 1982-02-17 1983-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Treating liquid for making offset master hydrophilic
JPS58193194A (en) * 1982-05-06 1983-11-10 Fuji Photo Film Co Ltd Surface protecting agent for lithographic plate
JPS58215399A (en) * 1982-06-09 1983-12-14 Fuji Photo Film Co Ltd Treatment of offset master for making it hydrophilic
JPS5929198A (en) * 1982-08-09 1984-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd Plate surface protecting agent for planographic printing press

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134007A (en) * 1974-09-12 1976-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd INSATSUBANYOSHIJITAINOSETOZOHOHO
JPS5519504A (en) * 1978-06-23 1980-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Lithoprinting plate protective agent
JPS555829A (en) * 1978-06-28 1980-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd Surface protective agent for flat printing plate
JPS5573590A (en) * 1978-11-29 1980-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd Protective agent for planographic printing plate
JPS55105581A (en) * 1979-02-09 1980-08-13 Fuji Photo Film Co Ltd Protecting agent for surface of form for lithographic printing
JPS5615397A (en) * 1979-07-16 1981-02-14 Hoechst Co American Water flat board finishing agent and method of finishing developed flat board
JPS56133193A (en) * 1980-02-19 1981-10-19 Hoechst Ag Method of preserving flat board printing block
JPS5816893A (en) * 1981-07-06 1983-01-31 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Supporter for offset printing cylinder and its manufacture
JPS5818291A (en) * 1981-07-06 1983-02-02 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Supporter for offset printing plate and its manufacture
JPS58128898A (en) * 1982-01-26 1983-08-01 Fuji Photo Film Co Ltd Treating liquid for making offset master hydrophilic
JPS58140299A (en) * 1982-02-17 1983-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Treating liquid for making offset master hydrophilic
JPS58193194A (en) * 1982-05-06 1983-11-10 Fuji Photo Film Co Ltd Surface protecting agent for lithographic plate
JPS58215399A (en) * 1982-06-09 1983-12-14 Fuji Photo Film Co Ltd Treatment of offset master for making it hydrophilic
JPS5929198A (en) * 1982-08-09 1984-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd Plate surface protecting agent for planographic printing press

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216796A (en) * 1986-03-19 1987-09-24 Dainippon Ink & Chem Inc Manufacture of supporter for planograph plate
EP0565006A2 (en) 1992-04-06 1993-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing PS plate
EP0762208A2 (en) 1995-09-08 1997-03-12 Konica Corporation Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate
JP2003003296A (en) * 2001-06-25 2003-01-08 Mitsubishi Alum Co Ltd Surface treated aluminum material and aluminum formed body
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1625944A1 (en) 2004-08-13 2006-02-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of manufacturing lithographic printing plate support
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1712368A1 (en) 2005-04-13 2006-10-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate
JP2008208449A (en) * 2007-01-29 2008-09-11 Kobe Steel Ltd Surface treatment agent for aluminum alloy, and surface treatment method for aluminum alloy
EP1972438A1 (en) 2007-03-20 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2100677A1 (en) 2008-03-06 2009-09-16 Fujifilm Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
WO2011037005A1 (en) 2009-09-24 2011-03-31 富士フイルム株式会社 Lithographic printing original plate

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0528196B2 (en) 1993-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0532238B2 (en)
JPH0694234B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPS6219494A (en) Base material for lithographic printing
US4801527A (en) Presensitized O-quinone diazide plate having an anodized aluminum base with an amine compound containing hydrophilic layer
JPH01150583A (en) Support for planographic plate
JPH0448640B2 (en)
JPS63165183A (en) Support for planographic printing plate
JPH03261592A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPS63202497A (en) Manufacture of supporting member for photosensitive lithographic press
JPH0472719B2 (en)
JPS6356498A (en) Base for planographic plate
JPH0513078B2 (en)
JPH062435B2 (en) Support for planographic printing plates
JPH062434B2 (en) Support for planographic printing plates
JPS6297892A (en) Base for planographic plate
JPH03215095A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH0635215B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JPS59214651A (en) Plate making process using photo-sensitive lithographic printing plate
JPH0450846A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPS63107591A (en) Production of substrate for lithographic plate
JPH0225399A (en) Manufacture of support for planographic plate
JPS6330296A (en) Preparation of support for photosensitive planographic printing plate
JPH061090A (en) Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate
JPS62263092A (en) Base for planographic plate
JPS63230394A (en) Production of support base for planographic plate