JPS6330296A - Preparation of support for photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Preparation of support for photosensitive planographic printing plate

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JPS6330296A
JPS6330296A JP17529086A JP17529086A JPS6330296A JP S6330296 A JPS6330296 A JP S6330296A JP 17529086 A JP17529086 A JP 17529086A JP 17529086 A JP17529086 A JP 17529086A JP S6330296 A JPS6330296 A JP S6330296A
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JP
Japan
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acid
aqueous solution
printing plate
salt
oxide film
Prior art date
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Application number
JP17529086A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruo Nakanishi
治雄 中西
Hirokazu Sakaki
榊 博和
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6330296A publication Critical patent/JPS6330296A/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer

Abstract

PURPOSE:To obtain a planographic printing plate hardly generating contamination in a non- image part, generating no contamination in the non-image part of printed matter and free from lowering in plate wear, by a method wherein surface roughening treatment is applied to at least the single surface of an aluminum plate and anodic oxidation treatment is subsequently applied thereto and the treated surface is further treated with an acidic aqueous solution containing sulfur oxyacid to dissolve a part of an anodic oxidation film. CONSTITUTION:The salt containing the oxyacid radical of sulfur in an acidic aqueous solution may be a salt of any element but, more pref., said salt is a salt of a metal of Ia, IIa, IIIa and VIII Groups of the Periodic Table or ammonium salt. As oxyacid of sulfur, sulfuric acid, sulfurous acid, hyposulfurous acid, permonosulfuric acid and perdisulfuric acid are designated but the most pref. one is sulfuric acid. In order to prepare the acidic aqueous solution with pH3 or less, any acid having action dissolving an oxide film may be added and, for example, there are sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, oxalic acid and sulfamic acid etc. The dissolving quantity of the oxide film is pref. 1-30% by wt. of the total amount of the oxide film. A planographic printing plate obtained by exposing and developing a photosensitive planographic printing plate using the support thus obtained provides an easy discrimination between an image part and a non-image in a correction process and has high plate wear.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は感光性平版印刷版用支持体の製造方法に関する
ものであり特に陽極酸化皮膜を改質し、非画像部の汚染
が改良されたアルミニウム板よりなる平版印刷版用支持
体の製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate, and in particular to an aluminum plate whose anodic oxide film has been modified to improve staining in non-image areas. The present invention relates to a method for producing a support for a lithographic printing plate.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、平版印刷版には、アルミニウム板上に感光性組成
物を薄層状に塗設した所謂PS版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシグレイン法やホールグレイン法
のごとき機械的な方法や電解グレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両者を組合せた方法などの粗面化処理
に付され、その表面が梨地状にされたのち、酸またはア
ルカリ等の水溶液によりエツチングされ、さらに陽極酸
−化処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平
版印刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設け
られてPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS
版は、通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施し
て平版印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷す
る。
Conventionally, lithographic printing plates include so-called PS plates in which a photosensitive composition is coated in a thin layer on an aluminum plate. The surface is roughened by an electrochemical method such as the electrolytic grain method or a combination of both methods, and the surface is made into a matte finish.Then, the surface is etched with an aqueous solution of acid or alkali, and then anodized. After the treatment, a hydrophilic treatment is performed as desired to obtain a support for a planographic printing plate, and a photosensitive layer is provided on this support to obtain a PS plate (photosensitive planographic printing plate). This PS
The plate is usually subjected to imagewise exposure, development, correction, and gumming steps to form a lithographic printing plate, which is then mounted on a printing press and printed.

しかしながら上記のPS版を、像露光、現像して得られ
た平版印刷版の非画像部には感光層中に含まれる物質が
不可逆的に吸着し、非画像部を汚染するため、修正工程
で画像部と非画像部の識別が困難であったり、修正跡が
明瞭に残り不均一な版面となり、その程度がひどくなる
と汚れとなるため印刷版として使用できなくなるという
問題があった。
However, the substances contained in the photosensitive layer irreversibly adsorb to the non-image areas of the lithographic printing plate obtained by imagewise exposure and development of the PS plate described above, contaminating the non-image areas. There have been problems in that it is difficult to distinguish between image areas and non-image areas, and that traces of correction remain clearly, resulting in an uneven plate surface, and if the degree of correction becomes severe, it becomes smudged, making it impossible to use it as a printing plate.

これを改善するため、従来は、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体表面を、米国特許第3,181゜461 
号明細書に記載されているようなアルカリ金属珪酸塩中
に浸漬する方法、米D1特許第3.860.426号明
細書に記載されているような、水溶性金属塩を含む親水
性セルロースを下塗りする方法、又は英国特許第2.0
98.627号に記載されているようなアリールスルホ
ン酸ナトリウトを下塗りする方法等が提案されている。
To improve this, conventionally, the surface of the aluminum support was anodized, as described in US Pat. No. 3,181°461.
A method of soaking hydrophilic cellulose containing water-soluble metal salts in an alkali metal silicate as described in U.S. Patent No. 3,860,426. Method of priming or British Patent No. 2.0
A method of undercoating with sodium arylsulfonate as described in No. 98.627 has been proposed.

このような処理を施すことによって、上述した非画像部
の汚染を防止して印刷物に“′汚れ°′が生じないよう
にすることができるが、その反面耐刷性が、上記処理を
施さない場合の50〜80%に減少するという新たな問
題を伴なう欠点があった。
By performing such treatment, it is possible to prevent the above-mentioned contamination of the non-image area and prevent the occurrence of "'stains'" on printed matter. The disadvantage was that it was accompanied by a new problem: a reduction of 50 to 80% of the case.

また、従来は陽極酸化処理したアルミニウム支持体表面
に、特公昭44−6410号公報に記載されているよう
なトリヒドロキシペンゾールカルボン酸の薄層を設ける
方法、又は特公昭41−14337号公報に記載されて
いるようなメリット酸の薄層を設ける方法、又は特公昭
38−8907号公報に記載されているようなホスホン
酸およびその誘導体よりなる薄層を設ける方法等の処理
を施すことによって画像部の密着性を良くすることも試
みられたが、その反面非画像部の汚れが、上記処理を施
さない場合に比べて著しく悪化するという新たな問題が
生じた。特にPS版を製造してから製版処理されるまで
の時間(保存時間)が長くなるにつれてこのような問題
は顕著になる傾向があった。
Conventionally, a method of providing a thin layer of trihydroxypenzole carboxylic acid on the surface of an anodized aluminum support as described in Japanese Patent Publication No. 44-6410, or a method described in Japanese Patent Publication No. 41-14337, Images can be imaged by applying a process such as a method of providing a thin layer of mellitic acid as described in Japanese Patent Publication No. 38-8907, or a method of providing a thin layer of phosphonic acid and its derivatives as described in Japanese Patent Publication No. 38-8907. Attempts have been made to improve the adhesion of the areas, but on the other hand, a new problem has arisen in that the stains in the non-image areas are significantly worse than in the case where the above-mentioned treatment is not performed. In particular, as the time (storage time) from the production of the PS plate to the plate-making process becomes longer, such problems tend to become more prominent.

才だ従来の平版印刷版では、非画像部に付着したインキ
が迅速に除去されないために汚れを生じるという問題も
あった。
Conventional lithographic printing plates also have the problem of stains because ink adhering to non-image areas is not removed quickly.

このように非画像部の汚染が生じない平版印刷版は耐剛
力が低く、耐刷力の低下が生しない平版印刷版は非画像
部の汚染が著しくなるという傾向があり、これら両者の
性能を同時に満足させることは非常に困難であった。
In this way, lithographic printing plates that do not cause contamination in non-image areas tend to have low stiffness durability, and lithographic printing plates that do not cause a decrease in printing durability tend to have significant contamination in non-image areas. It was very difficult to satisfy them at the same time.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

したがって本発明の目的は、非画像部に汚染を生じに(
<、印刷物の非画像部の汚れが発生ぜず、しかも耐刷力
の低下のない平版印刷版を得ることができるような平版
印刷版用支持体を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to prevent contamination from occurring in non-image areas (
Another object of the present invention is to provide a support for a lithographic printing plate, which allows a lithographic printing plate to be obtained without staining of non-image areas of printed matter and without deterioration in printing durability.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明者らは」1記の目的を達成すべく鋭意検討を重ね
た結果本発明をなすに至った。本発明はアルミニラl、
板の少なくとも片面を粗面化処理し、次いで陽極酸化処
理したのち、硫黄の酸素酸根を含有する塩を含むpH3
以下の酸性水溶液で処理して陽極酸化皮膜を全重量の1
〜30重量%溶解することを特徴とする感光性平版印刷
版用支持体の製造方法である。
The present inventors have made extensive studies to achieve the object stated in item 1, and as a result, have accomplished the present invention. The present invention provides aluminum laminated l,
After roughening at least one side of the plate and then anodizing it, a pH 3 solution containing a salt containing an oxygen radical of sulfur is applied.
Treat with the following acidic aqueous solution to remove 1% of the total weight of the anodized film.
This is a method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that a support for a photosensitive lithographic printing plate is dissolved in an amount of up to 30% by weight.

本発明に使用される酸性水溶液の硫黄の酸素酸根を含有
する塩はいかなる元素の塩でもよい。より好ましくは周
期律表のIa、fla、lla、■族の金属の塩、また
はアンモニウム塩である。具体的にはNH4、Li5B
e、 Na、 Mg、ΔII’XK。
The salt containing a sulfur oxygen acid group in the acidic aqueous solution used in the present invention may be a salt of any element. More preferred are salts of metals in groups Ia, fla, lla, and ■ of the periodic table, or ammonium salts. Specifically, NH4, Li5B
e, Na, Mg, ΔII'XK.

Ca 1M n % F e 、SCO% N r X
Z n z S r −、B a等の塩またはこれらの
塩の2種以上を含んでも良い。
Ca 1M n% F e , SCO% N r X
It may contain salts such as ZnzSr-, Ba, etc., or two or more of these salts.

硫黄の酸素酸としては硫酸、亜硫酸、次亜硫酸、−過硫
酸、ベルオキソニ過硫酸などが挙げられるが、最も好ま
しいものは硫酸である。
Examples of the sulfur oxygen acid include sulfuric acid, sulfurous acid, hyposulfite, persulfuric acid, and peroxonipersulfuric acid, and the most preferred is sulfuric acid.

ざらにρ113以下の酸性水溶液とするためには、酸化
皮膜を溶解する作用がある酸ならばいかなる酸を添加し
ても良い。たとえば硫酸、塩酸、硝酸、蓚酸、スルファ
ミン酸等々である。
In order to obtain an acidic aqueous solution with a roughness of ρ113 or less, any acid may be added as long as it has the effect of dissolving the oxide film. Examples include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, oxalic acid, and sulfamic acid.

また、これらの塩と酸の、水溶液状態と同等のイオン種
を生じる化合物でpH3以下の水溶液となり得るもので
も良い。このような化合物としては硫酸水素ナトリウム
、硫酸水素カリウム、硫酸水素カルンウム、硫酸水素ア
ンモニウムなどの硫酸水素塩が挙げられる。またこれら
の化合物に上記の酸を同時に含んでも良い。
Further, a compound of these salts and acids that can produce ionic species equivalent to those in an aqueous solution state and can form an aqueous solution with a pH of 3 or less may be used. Examples of such compounds include hydrogen sulfates such as sodium hydrogen sulfate, potassium hydrogen sulfate, carunium hydrogen sulfate, and ammonium hydrogen sulfate. Further, these compounds may also contain the above-mentioned acids at the same time.

上記の塩を含まない酸のみの水溶液、即ち硫黄の酸素酸
の水溶液で処理した場合には、非画像部に付着したイン
キが湿し水と置換されに<<、本発明による支持体に比
べて非画像部が汚染されやすいものしか得られない。
When treated with an aqueous solution containing only an acid without the above-mentioned salts, i.e., an aqueous solution of a sulfur oxygen acid, the ink adhering to the non-image area is replaced by dampening water. Therefore, only the non-image area can be easily contaminated.

酸化皮膜の溶解量は酸化皮膜全量の1〜30重量%溶解
するのが良く、好ましくは5〜20重量%である。
The dissolved amount of the oxide film is preferably 1 to 30% by weight, preferably 5 to 20% by weight, based on the total amount of the oxide film.

陽極酸化皮膜の溶解量は、次式に示すように、重量法に
より測定する。
The amount of dissolved anodic oxide film is measured by gravimetric method as shown in the following formula.

WA:  全陽極酸化皮膜量(g / m’ )、S 
: ザンプル面積(m2)、 ml:  処理する前のサンプル重量、m2:  処理
後のサンプル重量、 以下、本発明について順を追って詳しく説明する。
WA: Total anodic oxide film amount (g/m'), S
: sample area (m2), ml: sample weight before treatment, m2: sample weight after treatment.Hereinafter, the present invention will be explained in detail step by step.

本発明において用いられるアルミニウム板はアルミニウ
ム主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含むア
ルミニウム合金等の板状体である。
The aluminum plate used in the present invention is a plate-shaped body made of pure aluminum containing aluminum as a main component or an aluminum alloy containing a trace amount of foreign atoms.

このような異原子には、珪素、鉄、マンガン、銅、マク
ネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン
などがある。これらの異原子の含有率は一般に10重量
%以下である。本発明の支持体に好適なアルミニウムは
純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは
、製練技術上製造が困難であるので、できるだけ異原子
を含まないものがよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな〈
従来公知、公用の素材のものを適宜利用することができ
る。本発明に用いられるアルミニウム板の厚さは、およ
そ0.1 mm〜0.5 mm程度が適当であるアルミ
ニウム板を陽極酸化するに先立ち、表面の圧延油を除去
するための、例えば界面活性剤又はアルカリ性水溶液に
より脱脂処理、および砂目立処理が所望により行なわれ
る。
Such foreign atoms include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of these foreign atoms is generally 10% by weight or less. Aluminum suitable for the support of the present invention is pure aluminum, but since completely pure aluminum is difficult to produce due to smelting technology, it is preferable to use aluminum that does not contain foreign atoms as much as possible. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified.
Conventionally known and publicly used materials can be used as appropriate. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is preferably about 0.1 mm to 0.5 mm. Before anodizing the aluminum plate, a surfactant, for example, is applied to remove rolling oil from the surface. Alternatively, degreasing treatment and graining treatment using an alkaline aqueous solution may be performed as desired.

砂目立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研摩法、プラン研摩法、ブラスト
研摩法、パフ研摩法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
Graining treatment methods include a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. As a method for mechanically roughening the surface, known methods such as ball polishing, plan polishing, blast polishing, puff polishing, etc. can be used.

また電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液
中で交流又は直流により、行なう方法かある。また、特
開昭54−63902号公報に開示されているように両
者を組合せた方法も利用することができる。
Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method in which alternating current or direct current is used in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Furthermore, a method that combines both methods can also be used, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-63902.

このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
The aluminum plate thus roughened is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as required.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては多孔性酸化皮膜を形成するものならばいかなるもの
でも使用することができ、一般的には硫酸、燐酸、耐酸
、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、それらの
電解質やその濃度は電解質の種類によって適宜法められ
る。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わ
るので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度
が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5
〜60A/dm2、電圧1〜100■、電解時間10秒
〜50分の範囲が適当である。
Any electrolyte that forms a porous oxide film can be used as the electrolyte used for anodizing aluminum plates, and generally sulfuric acid, phosphoric acid, acid-resistant, chromic acid, or mixed acids thereof are used. The electrolytes and their concentrations are determined as appropriate depending on the type of electrolyte. The processing conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used, so they cannot be specified, but generally the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70°C, and the current density is 5.
A range of ~60 A/dm2, a voltage of 1 to 100 cm, and an electrolysis time of 10 seconds to 50 minutes are suitable.

陽極酸化皮膜の量は0.1〜10g/m’が好適である
が、より好ましくは1〜6 g / m’の範囲である
The amount of the anodic oxide film is preferably 0.1 to 10 g/m', more preferably 1 to 6 g/m'.

上記の如く陽極酸化処理されたアルミニウム板は、つづ
いて硫黄の酸素酸根を含有する塩を含むp113以下の
酸性水溶液で酸化皮膜をその全重量の1〜30%溶解し
て、水洗、乾燥することにより本発明の感光性平版印刷
版用支持体が得られる。
The aluminum plate that has been anodized as described above is then washed with water and dried after dissolving 1 to 30% of its total weight in an acidic aqueous solution of p113 or less containing a salt containing an oxygen radical of sulfur. In this manner, the support for a photosensitive lithographic printing plate of the present invention is obtained.

酸性水溶液による陽極酸化皮膜の処理は酸化皮膜の溶解
量を皮膜全重量の1〜30重量%となるように行なうが
、好ましくは5〜20重量%である。皮膜溶解量が1重
量%より少ない場合、感光層成分による非画像部の汚染
防止効果が殆んど得られなくなり30重量%より多い場
合、非画像部の耐摩耗性が著しく低下してしまう。
The treatment of the anodized film with an acidic aqueous solution is carried out so that the dissolved amount of the oxide film becomes 1 to 30% by weight, preferably 5 to 20% by weight, based on the total weight of the film. When the amount of dissolved film is less than 1% by weight, the effect of preventing staining of the non-image area by the components of the photosensitive layer is hardly obtained, and when it is more than 30% by weight, the abrasion resistance of the non-image area is significantly reduced.

処理温度は常温から沸点まで任意に選べるが、短時間で
所望の酸化皮膜溶解量を得るためには、より高い温度で
行なう方が良い。
The treatment temperature can be arbitrarily selected from room temperature to boiling point, but in order to obtain the desired amount of oxide film dissolved in a short time, it is better to conduct the treatment at a higher temperature.

硫黄の酸素酸根を含有する塩は、水溶液中で硫黄の酸素
酸根として計算できるイオン種の濃度が0、001モル
/1以上、好ましくは0,01モル/p以上となるよう
な濃度で含まれていることが適当であり、それ以下では
本発明の効果は得られない。酸の濃度は溶液がpH3以
下であればいかなる濃度でもよい。pHが3を越えると
皮膜の溶解量が著しく減少し、本発明の効果は得られな
くなる。
The salt containing a sulfur oxygen acid radical is contained in a concentration such that the concentration of ionic species that can be calculated as a sulfur oxygen acid radical in an aqueous solution is 0,001 mol/p or more, preferably 0,01 mol/p or more. The effect of the present invention cannot be obtained below this range. The concentration of the acid may be any concentration as long as the pH of the solution is 3 or less. If the pH exceeds 3, the amount of dissolved film will decrease significantly and the effects of the present invention will no longer be obtained.

処理液の濃度・温度・処理時間の範囲については、処理
液の種類・処理設備からの制約などにより一義的には決
定される得ないが一般的には硫酸根を含む塩の濃度は0
.001モル/p〜飽和未満濃度、処理温度は30℃〜
100℃、処理時間は2秒間〜5分間の範囲である。
The concentration, temperature, and treatment time range of the treatment solution cannot be determined unambiguously due to the type of treatment solution and restrictions from the treatment equipment, but in general, the concentration of salts containing sulfate groups is 0.
.. 001 mol/p ~ less than saturation concentration, processing temperature is 30°C ~
100° C. and treatment time ranges from 2 seconds to 5 minutes.

処理方法は」二記酸性水溶液を酸化皮膜に接触させる方
法ならばいかなる方法でもよく、たとえばスプレ一方式
によるものでも、浸漬方式によるものでもよい。
The treatment method may be any method as long as the acidic aqueous solution is brought into contact with the oxide film, such as a spray method or a dipping method.

このような酸性水溶液による処理の後に、特開昭60−
149491号公報、特願昭60−158956号明細
書に記載されているような中間層を設けることができる
After treatment with such an acidic aqueous solution,
An intermediate layer as described in Japanese Patent Application No. 149491 and Japanese Patent Application No. 158956/1986 can be provided.

また、この中間層を設ける前又は後に米国特許第3.1
81.461号に記載されているよへうに、アルカリ金
属シリケート(例えば珪酸ソーダ)の水溶液で処理する
こともできる。
Also, before or after providing this intermediate layer, US Pat.
It is also possible to treat with aqueous solutions of alkali metal silicates (e.g. sodium silicate), as described in No. 81.461.

このようにして得られた平版印刷版用支持体の上に、従
来より知られている感光層を設けて、感光性平版印刷版
を得ることができ、これを製版処理して得た平版印刷版
は、優れた性能を有している。
A conventionally known photosensitive layer can be provided on the lithographic printing plate support thus obtained to obtain a photosensitive lithographic printing plate. The plate has excellent performance.

上記の感光層の組成物としては、露光の前後で現像液に
対する溶解性又は膨潤性が変化するものであれば、いず
れも使用できる。以下、その代表的なものについて説明
する。
As the composition for the above photosensitive layer, any composition can be used as long as its solubility or swelling property in a developer changes before and after exposure. The typical ones will be explained below.

■ ポジ作用型感光性ジアゾ化合物としては、特公昭4
3−28403号公報に記載されているベンゾキノン−
1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキン
フェニルとのエステル又はナフトキノン−1,2−ジア
ジドスルホン酸クロリドとピロガロール−アセトン樹脂
とのエステルが最も好ましいものである。その他の比較
的好適な0−キノンジアジド化合物としては、米国特許
第3.046.120号及び同第3.188.210号
の各明細書中に記載されているベンゾキノンり1.2−
ジアジドスルホン酸クロリド又はナフトキノン−1,2
−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルがある。
■ As a positive-acting photosensitive diazo compound,
Benzoquinone described in Publication No. 3-28403
Most preferred are esters of 1,2-diazide sulfonic acid chloride and polyhydroquinphenyl or esters of naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin. Other comparatively suitable 0-quinone diazide compounds include benzoquinone diazide compounds described in U.S. Pat. No. 3,046,120 and U.S. Pat.
Diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone-1,2
- There are esters of diazide sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin.

0−キノンジアジド化合物は単独で感光層を構成するが
、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤(バインダー)とし
て併用してもよい。このアルカリ水に可溶性の樹脂とし
ては、ノボラック樹脂があり、たとえばフェノールホル
ムアルデヒド樹脂、クレゾールホルトアルデヒド樹脂、
p−t−7”チルフェノールホルムアルデヒド樹脂、フ
ェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性キシレン・
メシチレン樹脂などがある。その他の有用なアルカリ水
可溶性樹脂としてポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲ
ン化ヒドロキシスチレン化(メク)アクリル酸と他のビ
ニル化合物とのコポリマーを挙げることができる。
The 0-quinonediazide compound alone constitutes the photosensitive layer, but a resin soluble in alkaline water may be used in combination as a binder. Examples of resins soluble in alkaline water include novolac resins, such as phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin,
pt-7” tylphenol formaldehyde resin, phenol-modified xylene resin, phenol-modified xylene resin
Examples include mesitylene resin. Other useful alkaline water-soluble resins include polyhydroxystyrene, copolymers of polyhalogenated hydroxystyrenated (meth)acrylic acids and other vinyl compounds.

0−キノンジアジド化合物からなる感光層およびその現
像液の更なる詳細は米国特許第4,259、434号に
記載されている。
Further details of photosensitive layers comprising 0-quinonediazide compounds and their developers are described in U.S. Pat. No. 4,259,434.

■ ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光性組成物。■A photosensitive composition consisting of a diazo resin and a binder.

ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セクールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂感
光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。その他の有用な
縮合ジアゾ化合物は米国特許第3.679.419号、
英国特許第1.312.925号、同1.312.92
6号の各明細書等に開示されている。これらの型の感光
性ジアゾ化合物は、通常水溶性無機塩の型で得られ、従
って水溶液から塗布することができる。又、これらの水
溶性ジアゾ化合物を英国特許第1,280、885号明
細書に開示された方法により1個又はそれ以上のフェノ
ール性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有する芳香
族又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物である
実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用することも
できる。
As a negative-acting photosensitive diazo compound, US Patent No. 2.
Diphenylamine, which is a reaction product of the diazonium salt disclosed in No. 063.631 and No. 2.667 and No. 415, and an organic condensing agent containing a reactive carbonyl group such as aldol or acecool. A condensation product of p-diazonium salt and formaldehyde (so-called photosensitive diazo resin) is preferably used. Other useful fused diazo compounds are U.S. Pat.
British Patent No. 1.312.925, British Patent No. 1.312.92
It is disclosed in each specification etc. of No. 6. These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts and can therefore be coated from aqueous solution. Alternatively, these water-soluble diazo compounds can be converted into aromatic or aliphatic compounds having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups, or both by the method disclosed in British Patent No. 1,280,885. It is also possible to use a substantially water-insoluble photosensitive diazo resin which is a reaction product of the reaction.

また、特開昭56−121031号公報に記載されてい
るようにヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフルオロ
硼酸塩との反応生成物として使用することもできる。
It can also be used as a reaction product with hexafluorophosphate or tetrafluoroborate as described in JP-A-56-121031.

そのほか、米国特許第1.312.925号明細書に記
載されているジアゾ幀(脂も好ましい。
In addition, diazo fat described in US Pat. No. 1,312,925 is also preferred.

このようなジアゾ樹脂は、バインダーと共に用いられる
。好ましいバインダーは酸価10〜200を有する有機
高分子重合体であり、具体例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須の重合
成分として含む共重合体、例えば米国特許第4.123
.276号に記されている様な2−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリ
ル酸またはメタクリル酸および必要に応じて更に他の共
重合しうるモノマーとの3元または4元共重合体、特開
昭53−120903号公報に記載されている様な末端
がヒドロキシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基
を含む基でエステル化されたアクリル酸またはメタクリ
ル酸、アクリル酸またはメタクリル酸、および必要に応
じて更に他の共重合しろるモノマーとの共重合体、特開
昭54−98614号公報に記載されている様な芳香族
性水酸基を末端に有する単量体(例えばN−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、アクリル酸
またはメタクリル酸、及び更に必要に応じて他の共重合
可能なモノマーの少な(とも1つとの共重合体、特開昭
56−4144号公報に記載されている様なアルキルア
クリレートまたはメタクリレート、アクリロニトリルま
たはメタクリロニトリル、および不飽和カルボン酸より
なる共重合体が含まれる。また酸性ポリビニルアルコー
ルm導体、酸性セルロース誘導体も有用である。
Such diazo resins are used together with binders. Preferred binders are organic polymers having an acid value of 10 to 200, and specific examples include copolymers containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, or maleic acid as an essential polymerization component, such as U.S. Pat. .123
.. 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile, ternary or acrylic acid or methacrylic acid and optionally further copolymerizable monomers as described in No. 276. Quaternary copolymers, acrylic acid or methacrylic acid, acrylic acid which has a hydroxyl group at the end and is esterified with a group containing a dicarboxylic acid ester residue as described in JP-A-53-120903. Or a copolymer of methacrylic acid and other copolymerizable monomers if necessary, a monomer having an aromatic hydroxyl group at the end as described in JP-A-54-98614 ( For example, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, etc.), acrylic acid or methacrylic acid, and if necessary, a copolymer with a small amount (or one) of other copolymerizable monomers, JP-A-56-4144 Copolymers of alkyl acrylates or methacrylates, acrylonitrile or methacrylonitrile, and unsaturated carboxylic acids as described in the above publication are included.Acidic polyvinyl alcohol m conductors and acidic cellulose derivatives are also useful.

■ 活性光線の照射により三量化を起す化合物を含む組
成物。例えばポリ桂皮酸ビニル、ポリビニルシンナモイ
ルエチルエーテル、ポリエチレンシンナメートアクリレ
ート、及びその共重合体、ポリエチルシンナメートメタ
クリレート及びその共重合体、ポリパラビニルフェニル
シンナメート及びその共重合体、ポリビニルベンザール
アセトフェノン及びその誘導体、ポリビニルシンナミリ
デンアセテート及びその誘導体、アクリル酸アリルプレ
ポリマー及びその誘導体パラフェニレンジアクリル酸と
ポリハイドリックアルコールから成るポリエステル樹脂
の誘導体で、例えば米国特許第3.030.2.08号
明細書に記載されているような化合物などがある。
■ A composition containing a compound that undergoes trimerization upon irradiation with actinic rays. For example, polyvinyl cinnamate, polyvinyl cinnamoyl ethyl ether, polyethylene cinnamate acrylate and its copolymers, polyethyl cinnamate methacrylate and its copolymers, polyparavinylphenyl cinnamate and its copolymers, polyvinyl benzal acetophenone and derivatives thereof, polyvinyl cinnamylidene acetate and derivatives thereof, allyl acrylate prepolymer and derivatives thereof Derivatives of polyester resins consisting of paraphenylene diacrylic acid and polyhydric alcohol, such as U.S. Pat. No. 3.030.2.08 There are compounds such as those described in the specification of No.

■ 活性光線の照射により重合反応を起す、いわゆる共
重合性組成物。例えば米国特許第2.760゜863号
および同第3.060.023号明細書に記載の2個又
はそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる組成物がある。
■ A so-called copolymerizable composition that causes a polymerization reaction when irradiated with active light. For example, compositions comprising an addition polymerizable unsaturated compound having two or more terminal ethylene groups and a photopolymerization initiator as described in U.S. Pat. There is.

上記活性光線の照射により三量化する化合物および重合
反応する化合物には、更にバインダーとして樹脂、増感
剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤などを含有させること
ができる。
The compound that trimerizes and the compound that undergoes a polymerization reaction upon irradiation with actinic rays may further contain a resin, a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a dye, a plasticizer, etc. as a binder.

上記の如き感光性組成物は、通常、水、有機溶剤、又は
これらの混合物の溶液として、本発明による支持体上に
塗布し、乾燥されて感光性平版印刷版が作成される。
The photosensitive composition as described above is usually applied as a solution of water, an organic solvent, or a mixture thereof onto the support according to the present invention, and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate.

感光性組成物の塗布量は、一般的に約0.1〜約5、0
 g / m’が適当であり、約0.5〜約3.0 g
 / m’がより好ましい。
The coating amount of the photosensitive composition is generally about 0.1 to about 5.0
g/m' is suitable, about 0.5 to about 3.0 g
/m' is more preferable.

かくして得られる感光性平版印刷版はカーボンアーク灯
、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハライ
ドランプなどの如き活性光線を含む光源により画像露光
し、現像して平版印刷版が得られる。
The photosensitive lithographic printing plate thus obtained is imagewise exposed using a light source containing actinic rays such as a carbon arc lamp, xenon lamp, mercury lamp, tungsten lamp, metal halide lamp, etc., and developed to obtain a lithographic printing plate.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の実施により得られる支持体を使用した感光性平
版印刷版を露光、現像して得られる平版印刷版は、非画
像部の汚染がなく、修正工程で画像部と非画像部の識別
が容易であり、しかも耐刷力が高い。また修正跡が生じ
ることなく、したがって修正跡による印刷物の汚れが発
生しない。
The lithographic printing plate obtained by exposing and developing the photosensitive lithographic printing plate using the support obtained by carrying out the present invention has no contamination in the non-image area, and it is possible to distinguish between the image area and the non-image area in the correction process. It is easy and has high printing durability. In addition, no correction marks are produced, and therefore printed matter is not smeared due to correction marks.

さらに本発明の実施により得られるアルミニウム支持体
は、従来のものに比べて白い表面となり、検版性に優れ
ており、しかもインキ汚れ回復力においても優れている
Furthermore, the aluminum support obtained by carrying out the present invention has a whiter surface than the conventional one, has excellent plate inspection properties, and is also excellent in ink stain recovery ability.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により、具体的に説明する。なお
実施例中の「%」は、特に指定のない限り1重量%」を
示すものとする。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples. Note that "%" in the examples indicates "1% by weight" unless otherwise specified.

実施例1 JIS1050アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研摩剤として、回転ナイロンブラシて表面を砂目室て
した。このときの表面粗さく中心線平均粗さ)は0.5
μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃
に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が6
 g / m’になるようにエツチングした。水洗後、
30%硝酸水溶液に1分間浸漬して中和し、十分水洗し
た。その後に、0.7%硝酸水溶液中で、陽極特電圧1
3ボルト、陰極特電圧6ボルトの矩形波交番波形を用い
て(特開昭52−77702号公報実施例に記載されて
いる電源波形)20秒間電電解面化を行ない、20%硫
酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗し
た。
Example 1 The surface of a JIS1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a pumice water suspension as an abrasive. At this time, the surface roughness (center line average roughness) is 0.5
It was μ. After washing with water, add 10% caustic soda aqueous solution to 70°C.
The amount of aluminum dissolved is 6.
It was etched to give g/m'. After washing with water,
It was immersed in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute to neutralize it, and then thoroughly washed with water. After that, in a 0.7% nitric acid aqueous solution, the anode special voltage 1
Electrolytic surface treatment was carried out for 20 seconds using a rectangular alternating waveform of 3 volts and a cathode special voltage of 6 volts (power supply waveform described in the example of JP-A-52-77702), and 20% sulfuric acid was heated at 50°C. After washing the surface by immersing it in a solution, it was washed with water.

さらに20%硫酸水溶液中で陽極酸化皮膜重量が3.0
 g / m’となるように直流を用いて陽極酸化処理
を施して水洗、乾燥し、基板(I)を作成した。
Furthermore, the weight of the anodic oxide film was 3.0 in a 20% sulfuric acid aqueous solution.
Anodic oxidation treatment was performed using a direct current so that the thickness of the substrate was 10 g/m', washed with water, and dried to prepare a substrate (I).

この基板(1)を、硫酸す) IJウム約0.3%、硫
酸約0.2%を含む水溶液(pfl 1.5〜2.0)
に、90℃で10秒間浸漬処理し、水洗および乾燥して
支持体〔Δ〕を作成した。このときの陽極酸化皮膜の溶
解量は、その全皮膜重量の約10%(約0、3 g /
 m’ )であった。このようにして作成した支持体(
A)に下記組成の感光液を乾燥後の塗布重量が2.5 
g / m’となるように塗布して感光層を設けた。
This substrate (1) is dissolved in an aqueous solution (pfl 1.5 to 2.0) containing about 0.3% of IJ and about 0.2% of sulfuric acid.
The substrate was immersed at 90° C. for 10 seconds, washed with water, and dried to prepare a support [Δ]. The amount of dissolved anodic oxide film at this time is approximately 10% of the total film weight (approximately 0.3 g/
m'). The support created in this way (
A) A photosensitive solution with the following composition was applied, and the coating weight after drying was 2.5.
A photosensitive layer was provided by coating to give a ratio of g/m'.

このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離から
3KWのメタルハライドランプにより、50秒間露光を
行なったのち、SiO2/Na2Oのモル比が1.74
の珪酸ナトリウムの5.26%水溶液(pH= 12.
7 )で現像した。
The photosensitive lithographic printing plate thus prepared was exposed in a vacuum printing frame through a transparent positive film from a distance of 1 m using a 3KW metal halide lamp for 50 seconds, and the molar ratio of SiO2/Na2O was 1. .74
A 5.26% aqueous solution of sodium silicate (pH=12.
7).

次いで十分水洗し、非画像部の汚染を調べたのち、市販
の消去液で画像部の一部を消去し、十分水洗してからガ
ム引きして、常法の手順で印刷した。このときの消去部
の汚れの発生と耐刷力を調べた。更に、平版印刷版の全
面にインキを付着させたのち、常法の手順で印刷を開始
したときの非画像部に汚れのない奇麗な印刷物が得られ
るまでの印刷枚数(以下、インキ汚れ回復力と称す)を
調べた。
After thoroughly washing with water and checking the non-image area for contamination, a part of the image area was erased with a commercially available erasing liquid, thoroughly washed with water, gummed, and printed in the usual manner. At this time, the occurrence of stains on the erased area and the printing durability were investigated. Furthermore, after applying ink to the entire surface of the lithographic printing plate, the number of prints until a clean print with no stains in the non-image area is obtained when printing is started using the usual procedure (hereinafter referred to as ink stain recovery ability) ) was investigated.

以上の結果を第1表に示した。The above results are shown in Table 1.

〔比較例1〕 実施例1の基板CI〕に酸性水溶液処理を行なわないで
、感光層を実施例1と同様に設け、印刷までも実施例1
と同様に行なった。
[Comparative Example 1] A photosensitive layer was provided in the same manner as in Example 1 without performing acidic aqueous solution treatment on the substrate CI of Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1.
I did the same thing.

その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.

〔実施例2〕 実施例1の基板〔■〕を硫酸水素ナトリウム約0.5%
を含む水溶液(pit 1.5〜2.0)に、90℃で
陽極酸化皮膜を、皮膜の全重量の10%が溶解するまで
(処理時間10秒)浸漬処理して、水洗、乾燥し、支持
体〔B〕を作成した。感光層塗布から印刷までは実施例
1と同様に行なった。
[Example 2] The substrate [■] of Example 1 was treated with about 0.5% sodium hydrogen sulfate.
The anodized film was immersed in an aqueous solution (pit 1.5 to 2.0) at 90°C until 10% of the total weight of the film was dissolved (processing time 10 seconds), washed with water, dried, A support [B] was prepared. The steps from coating the photosensitive layer to printing were carried out in the same manner as in Example 1.

その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕 実施例1の基板(1’lをNaOHを約0.01%(p
H10〜11)含む水溶液中で90℃で陽極酸化皮膜を
、皮膜の全重量の10%が溶解するまで浸漬処理して、
水洗、乾燥し、支持体〔■〕を作成した。感光層塗布か
ら印刷までは実施例1と同様に行なった。
[Comparative Example 2] The substrate of Example 1 (1'l) was mixed with about 0.01% NaOH (p
H10-11) The anodized film was immersed at 90°C in an aqueous solution containing the solution until 10% of the total weight of the film was dissolved,
It was washed with water and dried to prepare a support [■]. The steps from coating the photosensitive layer to printing were carried out in the same manner as in Example 1.

その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.

〔実施例3〕 実施例1の基板〔■〕を、硫酸す) IJウム約0.3
%、塩酸約0.2%を含む水溶液(pH1,0〜1.5
)に90℃で陽極酸化皮膜を皮膜の全重量の10%が溶
解するまで浸漬処理して、水洗、乾燥し、支持体〔C〕
を作成した。感光層塗布から印刷までは実施例1と同様
に行なった。
[Example 3] The substrate [■] of Example 1 was treated with sulfuric acid (IJum) of about 0.3
%, an aqueous solution containing about 0.2% hydrochloric acid (pH 1.0-1.5
) at 90°C until 10% of the total weight of the film is dissolved, washed with water, dried, and prepared as a support [C].
It was created. The steps from coating the photosensitive layer to printing were carried out in the same manner as in Example 1.

その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕 実施例1の基板〔■〕を硫酸的0.5%を含む水溶液(
pH1,O以下)で90℃で陽極酸化皮膜を全重量の約
10%溶解するように浸漬処理して、水洗、乾燥し、支
持体〔■〕を作成した。感光層塗布から印刷までは実施
例1と同様に行なった。
[Comparative Example 3] The substrate [■] of Example 1 was dissolved in an aqueous solution containing 0.5% sulfuric acid (
The substrate was immersed at 90° C. at a pH of 1.0 or below so that about 10% of the total weight of the anodized film was dissolved, washed with water, and dried to prepare a support [■]. The steps from coating the photosensitive layer to printing were carried out in the same manner as in Example 1.

その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.

〔比較例4〕 実施例1の基板〔■〕を、硫酸水素ナトリウム約0.5
%を含む水溶液(flH1,5〜2.0)を苛性ソーダ
によりpH4,0とした水溶液で、実施例1と同様に9
0℃で10秒浸漬処理したが、陽極酸化皮膜の溶解は起
こらなかった。
[Comparative Example 4] The substrate [■] of Example 1 was diluted with about 0.5 sodium hydrogen sulfate.
% (flH 1.5 to 2.0) was adjusted to pH 4.0 with caustic soda, and as in Example 1, 9.
Although immersion treatment was performed at 0° C. for 10 seconds, the anodic oxide film did not dissolve.

特開昭63−3029G(8) ユ〕 」 −G)−JJ ロ     駆 麗 第1表の結果より、本発明法による支持体は比較例のも
のに比べて耐刷力が1氏下することなく、非画像部の汚
染、修正跡の汚れが改良されていることがわかる。更に
、本発明による支持体は、インキ汚れ回復力においても
すぐれていることが判る。
JP-A-63-3029G(8) -G)-JJ Lo From the results in Table 1, the printing durability of the support prepared by the method of the present invention is 1 degree lower than that of the comparative example. It can be seen that the contamination in non-image areas and the contamination of correction marks have been improved. Furthermore, it can be seen that the support according to the present invention has excellent ink stain recovery ability.

また、これらの結果は硫酸塩を含む処理液の場合につい
ての結果であるが亜硫酸塩または過硫酸塩の場合につい
ても同様の効果が得られた。
Further, although these results are for the case of a treatment liquid containing sulfate, similar effects were obtained in the case of sulfite or persulfate.

また、この支持体はポジ型感光層だけでなく、ネガ型感
光層においても同様の良好な結果が得られた。
Further, similar good results were obtained with this support not only in the positive type photosensitive layer but also in the negative type photosensitive layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] アルミニウム板の少なくとも片面を粗面化処理し、次い
で陽極酸化処理したのち、硫黄の酸素酸根を含有する塩
を含む、pH3以下の酸性水溶液で処理して、陽極酸化
皮膜をその全重量の1〜30重量%溶解することを特徴
とする感光性平版印刷版用支持体の製造方法。
At least one side of the aluminum plate is roughened and then anodized, and then treated with an acidic aqueous solution containing a salt containing an oxygen radical of sulfur and having a pH of 3 or less to form an anodized film of 1 to 10% of the total weight of the aluminum plate. A method for producing a support for a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that it dissolves 30% by weight.
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