JPS62193725U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS62193725U JPS62193725U JP8117586U JP8117586U JPS62193725U JP S62193725 U JPS62193725 U JP S62193725U JP 8117586 U JP8117586 U JP 8117586U JP 8117586 U JP8117586 U JP 8117586U JP S62193725 U JPS62193725 U JP S62193725U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical container
- semiconductor wafer
- opening
- wafer
- vacuum pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Weting (AREA)
Description
図はこの考案の一実施例を示し、第１図は半導
体ウエハを円筒形容器に吸着する状態の外観斜視
図、第２図はそれを上下に反転した状態の外観斜
視図である。 １……半導体ウエハ、２……円筒形容器、２ａ
……ウエハ吸着孔、２ｂ……真空用の配管。
体ウエハを円筒形容器に吸着する状態の外観斜視
図、第２図はそれを上下に反転した状態の外観斜
視図である。 １……半導体ウエハ、２……円筒形容器、２ａ
……ウエハ吸着孔、２ｂ……真空用の配管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 半導体ウエハ上の薄膜をエツチングするときに
用いるウエツトエツチング装置であり、 片面側に開口が形成され、この開口側端面に複
数のウエハ吸着孔を形成してなるエツチング溶液
収容用の円筒形容器と、この円筒形容器の各ウエ
ハ吸着孔を介して前記開口側に前記半導体ウエハ
を吸着する真空ポンプとを備え、 この真空ポンプで半導体ウエハを円筒形容器に
吸着させることにより、半導体ウエハの片面側を
前記円筒形容器で覆うようにしたことを特徴とす
るウエツトエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8117586U JPS62193725U (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8117586U JPS62193725U (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62193725U true JPS62193725U (ja) | 1987-12-09 |
Family
ID=30932675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8117586U Pending JPS62193725U (ja) | 1986-05-30 | 1986-05-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62193725U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997021243A1 (en) * | 1995-12-04 | 1997-06-12 | Hitachi, Ltd. | Method for processing semiconductor wafer, method for manufacturing ic card, and carrier |
-
1986
- 1986-05-30 JP JP8117586U patent/JPS62193725U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997021243A1 (en) * | 1995-12-04 | 1997-06-12 | Hitachi, Ltd. | Method for processing semiconductor wafer, method for manufacturing ic card, and carrier |