JPS62187466A

JPS62187466A - ピロン−３−カルボキサミド化合物の製造方法

Info

Publication number: JPS62187466A
Application number: JP2817386A
Authority: JP
Inventors: Yukihisa Goto; 幸久後藤; Kazuhisa Masamoto; 正本　和久
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1986-02-12
Filing date: 1986-02-12
Publication date: 1987-08-15
Anticipated expiration: 2009-02-02
Also published as: JPH068287B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ）産業上の利用分野この発明は４−オキソ−４日−ビラン−３−カルボキサ
ミド化合物の新規な製造方法にｆｉｌするものである。

この発明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいは
それらの合成中間体として有用である。

（ロ）′従来の技術この発明に係る４−オキソ−４日−ビラン−３−カルボ
キサミドを製造りる方法としては、従来いくつかの方法
が報告されている。

そのうち、ジケテンをイソシアナート類あるいは第１級
アミンまたはそのアセトアセチル体または、β−アミノ
クロトン酸アミド１１体と反応させて、４−オキソ−４
日−ビラン−３−カルボキサミド化合物を得ている報告
例として、特公昭４５−３１６６３号；薬学９ｆｔ誌、
　８７．　１２１２　（１９６７）　　：　Ｃｈｅｍ。

Ｐｈａｒｍ、　　Ｂｕｌｌ、、　　１９．　１４７７（
１９７１）　　　：　　Ｃｈｅｌｌ。

Ｐｈａｒａ＋、　Ｂｕｌｌ、、　２０．　１３３（１９
７２）　；　Ｃｈｅｗ。

Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、、　２８．２１２９（１９８
０）　：薬学雑誌。

１０１、４０（１９８１）等がある。しかしながら、こ
れらの方法は、得られる４−オキソ−４日−ビラン−３
−カルボキサミド化合物が、ビラン環の２位及び６位が
ともにメチル基であるものに限られるため、一般的な方
法ではない。

また、β−ケトアミド誘導体の２ｍ化によって、４−オ
キソ−４日−ビラン−３−カルボキサミド化合物を得る
方法も知られているが（Ｊ、０ｒｌＪ。

Ｃｈｅｍ、、　２９．３５４８および３５５５　（１９
６４）　；　Ｚ　ｅｓｚ。

Ｎａｕｋ、Ｕｎｉｗ、Ｊａｇｉｅｌｌｏｎ、、Ｐｒ、Ｃ
ｈｅｗ、１９７６．２１゜１４１、：　　Ｚｅｓｚ、Ｎ
ａｕｋ、Ｕｎｉｗ　　、Ｊａｏｉｅｌｌｏｎ、　　：　
　Ｐｒ。

Ｃｈｅｍ、１９８０，２５，７．　）これらの方法で得
られる化合物は、ビラン環の２位及び６位の置換基がと
もに等しいものに限られるため、やはり一般的とはいえ
ない。

以上のように、従来４−オキソ−４日−ビラン−３−カ
ルボキサミドの一般的な製造法は知られていない。

一方、特開昭５６−７９６１３８号は、β−ケトエステ
ル化合物と、β−ケトエステルのエナミン誘導体とを、
モレキュラーシープの存在下で加熱することによる１、
４−ジヒドロ−４＝−オキソニコチンＭＬｉ導体の製造
法を開示している。本発明は、この方法と類似している
が、この方法から類Ｉ「される化合物とは全く異なる４
−オキソ−４日−ビラン−３−カルボキサミド化合物を
与える点で上記の方法と根本的に異なる。

（ハ）発明が解決しようとする問題点この発明は、４−オキソ−４日−ビラン−３−カルボキ
サミド化合物を製造するために、一般的応用可能な方法
を示すものである。

（ニ）問題点を解決するための手段この発明によれば、一般式（Ｉ）または＜Ｉ）Ｒ”　　
　−Ｃ−Ｃト１２ｃＯＮｌ−ＩＲ２（Ｉ）Ｒ”−Ｃ＝Ｃ
Ｉ−ＩＣＯＮＩ−ＩＲ２（Ｉ）’Ｃ式（Ｉ）および（Ｉ
）′中Ｒ１はＣｉ〜Ｃ７，のアルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、
核が置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキ
ル３．１又は５もしくは６員の異１「口Ｍ基であり、Ｒ
２は置換基を有していてもよいアリール基または異項環
基であり、Ｒｏはジアルキルアミノ基であり、ｎは０〜
Ｇの整数を表わす。〕で表わされる化合物と、一般式（ＩＦ）Ｒ３ＣＯＣＨＲ
’　ＧＯＯＲ’　　　　　（ＩＩ）〔式（ＩＦ）中Ｒ３
は、Ｃ１〜Ｃ１，のアルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、置換されていてもよいフェニル基、核が置換
されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基又は
５もしくは６員の異項環基であり、Ｒ４は水素原子、Ｃ
１〜Ｃ／／のアルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基、置換されていてもよいフェニル基、核が置換されて
いてもよいアラルキル基又はハロゲン化アルキル基であ
り、Ｒ′は低級アルキル基を表わすか：あるいはＲ３及
びＲ４は一緒に−（Ｃ１ｌｚ　）　ｍ　−（＋ｅは３又
は４である）を表わす〕で表わされるβ−ケトエステル
とを、不活性溶剤中、モレキュラーシーブの存在下ぐ加
熱することからなる、式（１）〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ’　、Ｒ’は上記と同じ〕で表わ
されるピロン−３−カルボキサミド化合物を製造する方
法が提供される。

一般式（Ｉ）ないしく工）′にＪ：って表わされる化合
物は、次式（１ｖ）で現われされるβ−ケトアミド誘導
体と、Ｒ”　　　Ｇ　　Ｇ　　Ｈ２ＣＯＮ　　ＨＲ’　　　　
　　　　　　　（ＩＶ　　）（式中Ｒ１とＲ２は式（Ｉ
）、（Ｉ）′中の定義に同じ。〕式（Ｖ）で表わされる化合物Ｒ２Ｎ　（ＣＨ２）ｎ　Ｒ”　　　　　　（Ｖ）（式中
Ｒ６とｎは式（Ｉ）、（１）′中の定義に同じ。〕との脱水縮合反応によって得ら、れる生成物を意味して
おり、一般式（Ｉ）ないしく工）′の表現は、プロトト
ロピーによって相互に変換しうる異性体を意味するもの
で、式中のｎおよびＲ８によってその存在比率が異なる
。

一般式（１’）、（Ｉ）’　、（Ｉｌｌ）、（■）中の
Ｒ１はＣ１〜ｃｉｉのアルキル基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、シフΩアル１ニル基、低級アルコキ
シアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、核が
置換されてもよいアラルキル縫、ハロゲン化アルキル基
又は５もしくは６Ωの異項環基を表わす。

Ｃ４〜Ｃ７，のアルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３級
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル
、デシル基などが挙げられる。

低級アルケニル基、低級アルキニル基としＣは、ビニル
、アリル、イソプロペニル、２−ブテニル、１．３−ブ
タジェニル、２−ペンテニル、１．４−ペンタジェニル
、１，６−へブタジェニル、１−ヘキセニル、エチニル
、２−プロピニル基などが挙げられる。

シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。

低級アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル、
エトキシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基
などが挙げられる。

置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基
、並びに塩素、臭素、ヨウ素、フッ素のようなハロゲン
原子、０１〜Ｃ５の低級アルキル基及び０１〜Ｃ５の低
級アルコキシ基の１〜２個で置ＰＡされていてもよいフ
ェニル基が挙げられる。

アラルキル基としては、ベンジル、２−フにルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチルＭなどが挙
げられる。これらも上記フェニル基と同様にその核は前
記のごとき置換基の１〜２個で置換されていてもよい。

ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル、
り０ロメチル基などが挙げられる。

５もしくは６Ωの異項環基としては、窒素原子、硫黄原
子、酸素原子から選ばれた１〜３個の異原子を含有する
異項環基が含まれ、ことにフリル、テトラヒドロフリル
、チェニル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサシリ
ル、イソオキサシリル、ピラゾリルのような５員環の塁
、ピリジル、ごリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル
のような６員環の基が挙げられる。ここでの異項環基と
は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子のようなハ［１ゲ
ン原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チルのようなアルキル基、メトキシ、１トキシ、プロポ
キシのようなアルコキシ基、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニルのようなアルコキシカルボニル基、シア
ノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、フェニル基な
どの置換基を有するものを含む。フェニル基で置換され
た場合、環内の２つの炭素原子と結合して縮合環を形成
してもよい。縮合環を形成した場合の例としては、ベン
ゾデアゾリル、ベンゾフリル、キナゾリニル、キノキサ
リニル基などが挙げられる。

一般式（Ｉ）、＜Ｉ＞’　、（１）、ＮＶ）中のＲ２は
置換基を有していてもよいアリール基または異項環ヰで
ある。

アリール基としてはフェニルまたはナフチル基が含まれ
る。異項環基としてはＲ１における例示と同じものが含
まれる。

なお、アリール基の置換基としては、異項環基に含まれ
つる種々の置換基が適用できる。

一般式（Ｉ）、（Ｉ）’　、（Ｖ）中のＲ６は、ジアル
キルアミノ基を表わす。アルキル基は、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチルなどのアルキル基を
意味する。２つのアルキル基は、共に結合して、シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなシ
フ［１アルキル基を形成してもよい。また、２つのアル
キル基は、それらが結合するアミノ基の窒素原子および
場合により他の異原子と共に、異項環基を形成してもよ
い。このような異項環基の具体例としては、ビ０リジン
環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環などが
挙げられる。

一般式（Ｉ＞、（Ｉ）’　、（Ｖ）中のｎは、Ｏ〜Ｇの
整数を表わし、０の場合は（Ｉ）または（１）′の化合
物の分子内にヒドラジノ結合を形成する。

一般式（Ｉ）または（Ｉ）′の化合物を形成するのに用
いる式（Ｖ）の化合物としては、Ｎ、Ｎ−ジメチルヒド
ラジン、Ｎ、Ｎ−ジエチルヒドラジン、Ｎ−アミノピロ
リジン、Ｎ−アミノピペリジン、Ｎ−アミノモルホリン
、１−アミノ−４−メヂルビベラジン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルエチレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエチレンジアミ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピロリジン、Ｎ−（・２
−アミノエチル）ピペリジン、Ｎ、−（２−アミノ１チ
ル）モリホリン、Ｎ−（３−アミノプロピル）モルホリ
ン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）モルホリンなどが挙げ
られる。

一般式（Ｉ）ないしく工）′で表わされる化合物の反応
相手は、一般式（ＩＩ）で表わされるβ−ケトエステル
である。

一般式（ＩＩ）および（［１）におけろＲ３はＣ１〜Ｃ
１，のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置
換されていてもよいフェニル基、核が置換されてもよい
アラルキル基、ハロゲン化アルキル基又は、５もしくは
６員の異項環基である。これらはＲ１における例示と同
じものが含まれる。

、　一般式（ＩＩ）および（１）におけるＲ４は、水素
原子、Ｃ１〜ｃｎ　のアルキル基、低級アルケニル基、
低級アルキニ、ル基、シクロアルキル基、低級アルコキ
シアルキル基、置換されていてもよいフェニル７Ｊ、核
が置換されていてもよいアラキル基、又は、ハロゲン化
アルキル基である。

これらはＲ１における例示と同じものが含まれる。

また、Ｒ３とＲ４は一緒に−（ＣＨ２）ｍ−（ｍは３又
は４）を形成してもよい。

一般式（Ｉ）におけるＲｆ′は低級アルキル基であり、
特にメチル基、エチル基などが好ましい。

一般式（Ｉ）あるいは（■）′で表わされる化合物と一
般式（ＩＩ）で表わされる化合物との反応は、不活性溶
剤中、モレキュラーシーブの存在下で好都合に進行され
る。好ましい不活性溶剤の例として、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デカリン、ジ
フェニルエーテルなどが挙げられる。反応温度としては
、通常８０〜３００℃程度の温度が用いられる。モレキ
ュラーシーブとしては、例えば、３Ａ１４Ａ、　　５Ａ
、１３Ｘなどが使用できる。生成した式（１）の化合物
は、たとえば抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー
、蒸留等により分離精製することかできる。

（ホ）実施例以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。

実施例１Ｎ−（２−エチルフェニル）　−２，５，６−ドリメチ
ルー４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミドＮ−（２−エチルフェニル）−３−オキソ−醋酸アミＦ
　２．２１ｇ（１０，８ａ＋ｍｏｌ）　、Ｎ、　Ｎ−ジ
メチルヒドラジン０．９６ｇ　（１６，０ｍｌｌ１ｏｌ
　）およびトルエン３０１！の混合物を６０℃′ｃ８時
間撹拌下に加熱した侵、反応混合物をｄ温して未反応の
Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラジンおよび生成した水を常圧に
て約１２　′１１のトルエンと共に系外に留去し、さら
に反応混合物を減圧下Ｌ」−タリーエバポレーターを用
いて乾固まで溶媒を除去した。得られた残漬に、２−メ
チル−３−オキソ−醋酸エチル２．１０ｇ　（１４，５
ｍｍｏｆ　）、モレキュラーシーブ５Ａ　　１０ｏおよ
びキシレン３０Ｖを加え、８時間遠流させた。さらに、
モレキュラーシーブ５Ａを１０１７加えて、１時間遠流
させた。

反応混合物をろ過した後ろ液を約１０〃まで濃縮し、室
温に放置した。生成した結晶をろ過、洗浄乾燥すると、
ｍ２化合物１，８９１Ｊ　（収率６２％）がｊ！ｌられ
た。

融点：１１９〜１８２℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：１６５０．１６９２ｃ１１−
’ＮＭＲ（ＣＤＣρ　３　　）　δ　値　：　　　１．
２６　　　（ｔ、　　３Ｈ）　　、１．９５　　　（Ｓ
、　　　３Ｈ）　　　、　　　２．２６　　　（ｓ、　
　　３Ｈ）　　　、　　　２．１５（ｑ、２Ｈ）、２．
７９　　（ｓ、　３１−１　）、６．７０−８．２０（
−、４Ｎ　）　　、　１２．２０　　（ｂｒ、、　　１
）１　）　　、実施例２２．６−ダニチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキザミド３−オキソーＮ−フェニル−吉草酸アミド５．１６ｇ　
（２７，０ａｍｏｆ）　、Ｎ　、　Ｎ−ジメチルヒドラ
ジン２．２５＜１　（３７，５ｍｍｏｌ　）およびトル
エン３０ｗ１の混合物を６０℃で８時間撹拌下に加熱し
た後、反応混合物を５［して未反応のＮ、Ｎ−ジメチル
ヒドラジンおよび生成した水を常圧にて約１２１！のト
ルエンと共に系外に留去し、さらに反応混合物を減圧下
口−タリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去
した。得られた残渣に、３−オキソ−吉草酸メチル６，
５５９　（５０，３１１１０１）モレキュラーシーブ５
Ａ　　２０ｇおよびキシレン５０ν！を加え、８．５時
間遠流させた後、さらに、モレキュラーシーブ５Ａを２
０（ｌ加えて７時間遠流させた。反応混合液をろ過した
後減圧下に溶媒を除去し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマ１−グラフィーにＪ、って処理し、さらに酢
酸エチルとへキサンの混合物から晶析させることによっ
て、ｍ２化合物２．９４ｇ（収率４０％）が得られた。

融点：　　１１４．５〜１１６℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：１６５２．１６９８３−’Ｎ
　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ａ　）δ値：　　１，２１　（
ｔ、　３Ｈ）、１．３０　　（ｔ、　３Ｈ）、２．５４
　　（ｑ、　２Ｈ）、３．２７（４，２Ｈ）、６．１７
　　（ｓ、　ＩＨ）、６．７０−　７．９０（１，５Ｈ
）　、１２．０２　　（ｂｒ、、　１Ｎ　＞、実施例３Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２−メチル−４−
オキソ−６−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド２．６−ジニチルア１１７＋〜アセトアニリド２３，３
（］（１００ｍｍｏｆ　）　、Ｎ　、　Ｎ−ジメチルヒ
ドラジン１２．０ｇ　　（２０Ｏｎ＋ｉｏｌ　）および
トルエン１２５　ｙｓｌの混合物を６０℃で８時間加熱
撹拌した後、反応混合物を胃温して未反応のＮ、Ｎ−ジ
メチルヒドラジンおよび生成した水を常温にて約２０１
！の１〜ルエンと共に系外に留去し、さらに反応混合物
を減圧下ロータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶
媒を除去した。得られた固体残漬をヘキサンを用いて常
法に従って晶析するとＮ−（２，６−ジニチルフ１ニル
）−３−（Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラジノ）酪酸アミドが
融点１０７〜１０８．５℃の無色結晶として得られた。

収量２５．６０　、収率９３％であった。１１マ（ＫＢ
ｒディスク）　：　ｌ、）Ｃ＝　０　１６４２３−’、
ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ値：　　１，１６　（ｔ、　６
１−１＞、２．１０　　（ｓ、　３Ｈ）、２．４８　　
（ｓ、　６Ｎ　＞、２．５５（ｑ、４Ｈ）、３．３３　
　（ｓ　）および３．５２　　（Ｓ　）、積分比的１＝
１（計２８）、６．８５−７．３５　　（ｍ。

３Ｈ）、８．２０−９．１０　　（ＩＨ）。

得られたＮ−（２，６−ジニチルフエニル）−３−（Ｎ
、Ｎ−ジメチルヒドラジノ）酪酸アミド１３．７０ｇ　
（４９，７ｍｍｏｌ　）に、ベンゾイル酢酸エチル１９
．２２ｇ　（１００ｎ＋５ｏｌ）　、モレキュラーシー
ブ５Ａ４０９およびキシレン１００　ｘｉを加えて８．
５時間還流させた後、さらにモレキュラーシー１４０（
＋を加えて、１．５時間還流させた。反応混合物をろ過
した俊、減圧下に溶媒を除去し、得られた残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーによって処理し、さらにへキサ
ンとシクロヘキサンの混合液から晶析ぎせることによっ
て、ｍ２化合物１０．７６ｇ　（収率６０％）が得られ
た。

融点：１１４〜１１８℃ ＩＲ（Ｋ［３ｒデイスク）：１６１０．１６４０゜１６
７３Ｃ１１−’ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　３）δ値：　　１，１９　（
ｔ、　６ｌ−１）、２．６３　　（０，４Ｈ）、２．９
２　　（ｓ、　３Ｈ）、６．８２（ｓ、ＩＨ）、６．９
０−　８．１０　　（ｍ、　８１−１　＞　、１１．１
２（ｂｒ、、　ＩＨ）、実施例４Ｎ−（２，６−ジＪチルフエニル）　−５，６，７，８
−テトラヒドロ−２−メチル−４−オキソ−ａＨ−クロ
メン−３−カルボキ１ナミドＮ−（２，６−ジニチルフエニル）−３−（Ｎ。

Ｎ−ジメチルヒドラジノ）酪酸アミド８．２６（Ｊ　（
３０ｍ＋１１０１）、シクロへキサノン−２−カルボン
酸エチル１０．２１（１（６０ｍｍｏｆ　）　、モレキ
ュラーシーブ５Ａ２５（Ｊおよびキシレン６０１！の混
合物を６時間加熱還流させた。反応混合物をろ過した後
、減圧下に溶媒を除去し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィーによって処理し、ざらにヘキサンから
晶析させることによって、ｍ２化合物５．４０（１（収
率５３％）が得られた。

融点：１１５〜１１１℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：１６５５．１６７７３−’Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣρ３）δ値：　　１，１６　（ｔ、　６Ｈ
）、１．４０−２．８５　　（ｍ、　８Ｈ）、２．５９
　　（Ｑ、　４Ｈ）、２．７６　　（ｓ、　３Ｈ）、７
．０１　　（ｓ、　３Ｈ）　、１１．２３（ｂｒ、、　
ＩＨ）、（へ）発明の効果この発明の方法により、多種多様な置換基を任愈の位置
に有する４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボ」：サ
ミド化合物が、入手しやすい原料を用い簡単な操作によ
って、収率良く得ることが可能になった。

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式（ I ）または（ I ）′ ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）′ 〔式（ I ）および（ I ）′中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿１
＿１のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置
換されていてもよいフェニル基、核が置換されていても
よいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基又は５もしく
は６員の異項環基であり、Ｒ＾２は置換基を有していて
もよいアリール基または異項環基であり、Ｒ＾６はジア
ルキルアミノ基であり、ｎは０〜６の整数を表わす。〕で表わされる化合物と、一般式（II）Ｒ＾３ＣＯＣＨＲ＾４ＣＯＯＲ＾５（II）〔式（II）中Ｒ＾３は、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿１のアルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアル
キル基、低級アルコキシアルキル基、置換されていても
よいフェニル基、核が置換されていてもよいアラルキル
基、ハロゲン化アルキル基又は５もしくは６員の異項環
基であり、Ｒ＾４は水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿１のア
ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シク
ロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換されて
いてもよいフェニル基、核が置換されていてもよいアラ
ルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｒ＾５は低
級アルキル基を表わすか；あるいはＲ＾３及びＲ＾４は
一緒に−（ＣＨ＿２）ｍ−（ｍは３又は４である）を表
わす〕で表わされるβ−ケトエステルとを、不活性溶剤中、モ
レキュラーシーブの存在下で加熱することからなる、式
（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４は上記と同じ〕
で表わされるピロン−３−カルボキサミド化合物の製造
方法。２、式（ I ）又は式（ I ）′の−（ＣＨ＿２）ｎＲ＾
６がジメチルアミノ基である特許請求の範囲第１項記載
の方法。