JPS62167009A - セラミツクス成形体の連続成形装置 - Google Patents
セラミツクス成形体の連続成形装置Info
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- JPS62167009A JPS62167009A JP804886A JP804886A JPS62167009A JP S62167009 A JPS62167009 A JP S62167009A JP 804886 A JP804886 A JP 804886A JP 804886 A JP804886 A JP 804886A JP S62167009 A JPS62167009 A JP S62167009A
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Landscapes
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はセラミックス成形体の連続成形装置に関するも
ので、特に成形後直ちに離型することができるセラミッ
クス成形体の離型のための乾燥炉を全く必要としない連
続成形装置に関するものである。
ので、特に成形後直ちに離型することができるセラミッ
クス成形体の離型のための乾燥炉を全く必要としない連
続成形装置に関するものである。
（従来の技術）
従来、セラミックス成形体の連続成形装置は種々提案さ
れている。例えばその−例を示すと、まず押出機から供
給されるセラミックス坏土を適当な大きさに切断後、そ
の坏土を石膏型に入れ例えば焼鏝等により所望の形状に
加圧成形する。次に、セラミックス成形体を石膏型と一
緒に乾燥炉内で５時間程度加熱乾燥させて乾燥にともな
う収縮により石膏型とセラミックス成形体との間に隙間
を生じさせた後、セラミックス成形体を石膏型から離型
する。その後、得られたセラミックス成形体を乾燥およ
び焼成してセラミックス成品を得ている。
れている。例えばその−例を示すと、まず押出機から供
給されるセラミックス坏土を適当な大きさに切断後、そ
の坏土を石膏型に入れ例えば焼鏝等により所望の形状に
加圧成形する。次に、セラミックス成形体を石膏型と一
緒に乾燥炉内で５時間程度加熱乾燥させて乾燥にともな
う収縮により石膏型とセラミックス成形体との間に隙間
を生じさせた後、セラミックス成形体を石膏型から離型
する。その後、得られたセラミックス成形体を乾燥およ
び焼成してセラミックス成品を得ている。
（発明が解決しようとする問題点）
上述した従来の連続成形装置においては、連続してセラ
ミックス成形体を得ることができるが、石膏型からセラ
ミックス成形体を離型するためには石膏型中で成形され
たセラミックス成形体を石膏型とともに一緒に乾燥炉中
で加熱乾燥する必要があった。そのため、連続してセラ
ミックス成形体を得るためには石膏型を例えば数十個必
要とすると共に、乾燥炉中での乾燥のために数時間かか
る欠点があった。さらに、乾燥炉の大きさが大きいため
連続成形装置全体も大きくなりスペースも広く要する等
の欠点があった。
ミックス成形体を得ることができるが、石膏型からセラ
ミックス成形体を離型するためには石膏型中で成形され
たセラミックス成形体を石膏型とともに一緒に乾燥炉中
で加熱乾燥する必要があった。そのため、連続してセラ
ミックス成形体を得るためには石膏型を例えば数十個必
要とすると共に、乾燥炉中での乾燥のために数時間かか
る欠点があった。さらに、乾燥炉の大きさが大きいため
連続成形装置全体も大きくなりスペースも広く要する等
の欠点があった。
本発明の目的は上述した不具合を解消して、乾燥炉を必
要とすることなくセラミックス成形体を成形後直ちに型
より離型でき、その結果必要とする型の個数が極めて少
ないと共に従来乾燥に必要であった時間やスペースが不
必要であるセラミックスス成形体の連続成形装置を提供
しようとするものである。
要とすることなくセラミックス成形体を成形後直ちに型
より離型でき、その結果必要とする型の個数が極めて少
ないと共に従来乾燥に必要であった時間やスペースが不
必要であるセラミックスス成形体の連続成形装置を提供
しようとするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明のセラミックス成形体の連続成形装置は、一定寸
法に切断されたセラミックス坏土を供給する押出装置と
、 該押出装置より供給された坏土を一時貯留して次工程に
供給する坏土供給装置と、 該坏土供給装置から供給された坏土を予備成形するため
の予備成形装置と、 多孔体よりなる成形型と金属製受台とが所定の間隙を設
けて一体的に気密に連結されたセラミックス成形型およ
び該セラミックス成形型と連通した減圧加圧機構ならび
に成形機とを少なくとも有し、減圧加圧機構により成形
時には前記成形型と受台との間隙を減圧に保持して成形
型表面を減圧した状態で、前記予備成形装置から供給さ
れた坏土を前記セラミックス成形型に載置して前記成形
機により成形してセラミックス成形体を得ると共に、成
形後には前記間隙に圧縮空気を供給してセラミックス成
形体をエアレーションにより成形型表面より離型する本
成形装置と、 前記離型したセラミックス成形体の仕上成形を行なう仕
上成形装置と、 離形後のセラミックスス形体を洗浄する超音波洗浄装置
とからなることを特徴とするものである。
法に切断されたセラミックス坏土を供給する押出装置と
、 該押出装置より供給された坏土を一時貯留して次工程に
供給する坏土供給装置と、 該坏土供給装置から供給された坏土を予備成形するため
の予備成形装置と、 多孔体よりなる成形型と金属製受台とが所定の間隙を設
けて一体的に気密に連結されたセラミックス成形型およ
び該セラミックス成形型と連通した減圧加圧機構ならび
に成形機とを少なくとも有し、減圧加圧機構により成形
時には前記成形型と受台との間隙を減圧に保持して成形
型表面を減圧した状態で、前記予備成形装置から供給さ
れた坏土を前記セラミックス成形型に載置して前記成形
機により成形してセラミックス成形体を得ると共に、成
形後には前記間隙に圧縮空気を供給してセラミックス成
形体をエアレーションにより成形型表面より離型する本
成形装置と、 前記離型したセラミックス成形体の仕上成形を行なう仕
上成形装置と、 離形後のセラミックスス形体を洗浄する超音波洗浄装置
とからなることを特徴とするものである。
（作 用）
上述した構成において、供給された坏土を連続して成形
できると共に、成形用の型として予め離型剤を含浸させ
た多孔体よりなる成形型を使用しているため、成形時に
は減圧により成形型とセラミックス成形体を密着でき離
型時には加圧によるエアレーションにより成形型とセラ
ミックス成形体との間に隙間を形成するとともに：離型
剤を噴出させることができ、成形ライン中で成形後直ち
にセラミックス成形体の離型ができる。そのため、離型
のために大きなスペースを必要としていた乾燥炉を完全
に除くことができ、セラミックス成形体を製造する装置
の省スペース化、工程の短縮化が達成できる。
できると共に、成形用の型として予め離型剤を含浸させ
た多孔体よりなる成形型を使用しているため、成形時に
は減圧により成形型とセラミックス成形体を密着でき離
型時には加圧によるエアレーションにより成形型とセラ
ミックス成形体との間に隙間を形成するとともに：離型
剤を噴出させることができ、成形ライン中で成形後直ち
にセラミックス成形体の離型ができる。そのため、離型
のために大きなスペースを必要としていた乾燥炉を完全
に除くことができ、セラミックス成形体を製造する装置
の省スペース化、工程の短縮化が達成できる。
（実施例）
第１図は本発明のセラミックス成形体の連続成形装置の
一実施例を示す平面図である。本実施例の連続成形装置
は、押出装置１、坏土供給装置２、予備成形装置３、本
成形装置４、仕上成形装置５および超音波洗浄装置６か
ら構成されている。以下、上述した各装置の動作につい
て説明する。
一実施例を示す平面図である。本実施例の連続成形装置
は、押出装置１、坏土供給装置２、予備成形装置３、本
成形装置４、仕上成形装置５および超音波洗浄装置６か
ら構成されている。以下、上述した各装置の動作につい
て説明する。
まず押出装置１では、図示しない土練機で混練された坏
土を押し出して、その先端に設けた坏土切断機１−２に
より一定寸法に切断した後、把持機構１−３により次工
程の坏土供給装置２の坏土プールターンテーブル２−２
に設置したパレット２−３上に供給する。坏土供給装置
２においては、パレット２−３上の坏土を一部プールし
て坏土移送機構２−４で位置決めした後火の予備成形装
置３へ供給する。
土を押し出して、その先端に設けた坏土切断機１−２に
より一定寸法に切断した後、把持機構１−３により次工
程の坏土供給装置２の坏土プールターンテーブル２−２
に設置したパレット２−３上に供給する。坏土供給装置
２においては、パレット２−３上の坏土を一部プールし
て坏土移送機構２−４で位置決めした後火の予備成形装
置３へ供給する。
予備成形装置３においては、間欠的に移動する成形台３
−２上に坏土供給装置２から供給された坏土を載置し、
好ましくは焼鏝成形機３−３により坏土の一面を予備成
形した後、反転移載機構３−４により予備成形した面を
下に反転して次の本成形装置４へ供給する。
−２上に坏土供給装置２から供給された坏土を載置し、
好ましくは焼鏝成形機３−３により坏土の一面を予備成
形した後、反転移載機構３−４により予備成形した面を
下に反転して次の本成形装置４へ供給する。
本成形装置４は、好ましくは１０μｍ以下の微細孔を有
する成形表面層と型の機械的強度を保持する５０−２０
０μｍの孔径を有する下層との２重構造の多孔体よりな
る成形型と金属製受台とが所定の間隙を設けて一体的に
気密に連結された複数のセラミックス成形型４−２と、
これら複数のセラミックス成形型４−２を一定の間隔で
載置する間欠的に駆動するターンテーブル４−３と、坏
土をセラミ・ノクス成形型中へ密着させる予成形機４−
４と、本成形を行なう好ましくは焼鏝成形機４−５と、
必要に応じてマーキング機４−６と、真空吸着移送機構
４−７と、予成形機４−４、焼鏝成形機４−５および真
空吸着移送機構４−７の位置に設けられた図示しない減
圧加圧機構とにより構成されている。まず、セラミック
ス成形型４−２上に予備成形装置３より反転移載され間
欠的に移動する坏土を、予成形機４−４の位置で成形型
を回転しながら鏝を上方から押し付けて予成形する。こ
のとき、減圧加圧機構がセラミックス成形型４−２と接
続して成形型と受台との間隙を減圧にすることにより成
形型表面を減圧とし、セラミックス坏土とセラミックス
成形型４−２表面との密着性を良好にしている。予成形
の終了した坏土は焼鏝成形機４−５の位置で焼鏝により
本成形を行なう。
する成形表面層と型の機械的強度を保持する５０−２０
０μｍの孔径を有する下層との２重構造の多孔体よりな
る成形型と金属製受台とが所定の間隙を設けて一体的に
気密に連結された複数のセラミックス成形型４−２と、
これら複数のセラミックス成形型４−２を一定の間隔で
載置する間欠的に駆動するターンテーブル４−３と、坏
土をセラミ・ノクス成形型中へ密着させる予成形機４−
４と、本成形を行なう好ましくは焼鏝成形機４−５と、
必要に応じてマーキング機４−６と、真空吸着移送機構
４−７と、予成形機４−４、焼鏝成形機４−５および真
空吸着移送機構４−７の位置に設けられた図示しない減
圧加圧機構とにより構成されている。まず、セラミック
ス成形型４−２上に予備成形装置３より反転移載され間
欠的に移動する坏土を、予成形機４−４の位置で成形型
を回転しながら鏝を上方から押し付けて予成形する。こ
のとき、減圧加圧機構がセラミックス成形型４−２と接
続して成形型と受台との間隙を減圧にすることにより成
形型表面を減圧とし、セラミックス坏土とセラミックス
成形型４−２表面との密着性を良好にしている。予成形
の終了した坏土は焼鏝成形機４−５の位置で焼鏝により
本成形を行なう。
本成形も予成形と同様焼鏝成形機４−５の下部に設けら
れた減圧加圧機構により予成形体とセラミックス成形型
４−２表面との密着性を良好にした状態で、成形型４−
２中の予成形体に回転する焼鏝を押し付けて実施してい
る。焼鏝成形後の成形体はセラミックス成形型４−２中
に載置したままマーキング機４−６の位置で製品番号等
を印字した後、真空吸着移送機構４−７の位置に搬送さ
れる。
れた減圧加圧機構により予成形体とセラミックス成形型
４−２表面との密着性を良好にした状態で、成形型４−
２中の予成形体に回転する焼鏝を押し付けて実施してい
る。焼鏝成形後の成形体はセラミックス成形型４−２中
に載置したままマーキング機４−６の位置で製品番号等
を印字した後、真空吸着移送機構４−７の位置に搬送さ
れる。
真空吸着移送機構４−７においては、その下部に設けた
減圧加圧機構によりセラミックス成形型４−２と受台と
の間隙に圧縮空気を供給してエアレーションにより成形
体を成形型４−２表面よりわずかに浮き上がらせ離型す
る。すなわち、成形型４−２表面に空気を吹き出すと共
に多孔体中に予め含浸している離型剤をも微細な泡とし
て表面に吹き出すことにより、成形体と成形型表面との
間を強制的に離型している。エアレーションと同時に真
空吸着移送機構４−７が作動して、成形体を成形型４−
２から吸着離脱させて次の仕上成形装置５へ移送する。
減圧加圧機構によりセラミックス成形型４−２と受台と
の間隙に圧縮空気を供給してエアレーションにより成形
体を成形型４−２表面よりわずかに浮き上がらせ離型す
る。すなわち、成形型４−２表面に空気を吹き出すと共
に多孔体中に予め含浸している離型剤をも微細な泡とし
て表面に吹き出すことにより、成形体と成形型表面との
間を強制的に離型している。エアレーションと同時に真
空吸着移送機構４−７が作動して、成形体を成形型４−
２から吸着離脱させて次の仕上成形装置５へ移送する。
仕上成形装置５においては、セラミックス成形体を真空
吸着して離型をしたままの状態で回転して、バイト等を
当接させ仕上成形を行なう。仕上成形後のセラミックス
成形体はそのまま所定の場所に移送され、次の乾燥およ
び焼成に備える。
吸着して離型をしたままの状態で回転して、バイト等を
当接させ仕上成形を行なう。仕上成形後のセラミックス
成形体はそのまま所定の場所に移送され、次の乾燥およ
び焼成に備える。
また、セラミックス成形体を離型した後の成形型４−２
は本成形装置４のターンテーブル４−３により搬送され
、超音波洗浄装置６の位置でターンテーブル４−３から
取り出された後、その成形型内部に水を供給して超音波
発振機６−２により超音波洗浄され多孔体の目詰まりを
防止し型の再生処理をする。この成形型４−２の洗浄は
毎回洗浄を行なうのがよいが、数回使用後に１回の割合
で洗浄してもよい。洗浄再生後の成形型は再び本成形装
置４のターンテーブル４−３上に戻される。その結果、
装置全体として必要なセラミックス成形型はターンテー
ブル４−３上に必要な個数と超音波洗浄装置で洗浄され
る個数だけで十分であり、従来装置に比べて成形型の必
要数を１７５０〜Ｌ／１００以下に大幅に減少できる。
は本成形装置４のターンテーブル４−３により搬送され
、超音波洗浄装置６の位置でターンテーブル４−３から
取り出された後、その成形型内部に水を供給して超音波
発振機６−２により超音波洗浄され多孔体の目詰まりを
防止し型の再生処理をする。この成形型４−２の洗浄は
毎回洗浄を行なうのがよいが、数回使用後に１回の割合
で洗浄してもよい。洗浄再生後の成形型は再び本成形装
置４のターンテーブル４−３上に戻される。その結果、
装置全体として必要なセラミックス成形型はターンテー
ブル４−３上に必要な個数と超音波洗浄装置で洗浄され
る個数だけで十分であり、従来装置に比べて成形型の必
要数を１７５０〜Ｌ／１００以下に大幅に減少できる。
（発明の効果）
以上詳細に説明したところから明らかなように、本発明
のセラミックス成形体の連続成形装置によれば、各装置
を組み合わせて同時に駆動することにより連続してセラ
ミックス成形体を得ることができると共に、成形型から
のセラミックス成形体の離型を乾燥炉を使用することな
く製造ライン中で成形後直ちに離型に行なうことができ
るため、省スペース化および成形の短時間化を達成する
ことができる。さらに、乾燥炉が必要でないため使用す
る成形型の個数を従来に比べて大幅に減少させることが
できる。
のセラミックス成形体の連続成形装置によれば、各装置
を組み合わせて同時に駆動することにより連続してセラ
ミックス成形体を得ることができると共に、成形型から
のセラミックス成形体の離型を乾燥炉を使用することな
く製造ライン中で成形後直ちに離型に行なうことができ
るため、省スペース化および成形の短時間化を達成する
ことができる。さらに、乾燥炉が必要でないため使用す
る成形型の個数を従来に比べて大幅に減少させることが
できる。
第１図は本発明のセラミックス成形体の連続成形装置の
一実施例を示す平面図である。 １・・・押出装置 １−２・・・坏土切断機１
−３・・・把持機構 ２・・・坏土供給装置２−
２・・・ターンテーブル ２−３・・・パレット２−４
・・・坏土移送機構 ３・・・予備成形装置３−２・
・・成形台 ３−３・・・焼鏝成形機３−４・
・・反転移載機構 ４・・・本成形装置４−２・・・
セラミックス成形型 ４−３・・・ターンテーブル ４−４・・・予成形機４
−５・・・焼鏝成形機 ４−６・・・マーキング機
４−７・・・真空吸着移送機構 ５・・・仕上成形装置 ６・・・超音波洗浄装置６
−２・・・超音波発振機
一実施例を示す平面図である。 １・・・押出装置 １−２・・・坏土切断機１
−３・・・把持機構 ２・・・坏土供給装置２−
２・・・ターンテーブル ２−３・・・パレット２−４
・・・坏土移送機構 ３・・・予備成形装置３−２・
・・成形台 ３−３・・・焼鏝成形機３−４・
・・反転移載機構 ４・・・本成形装置４−２・・・
セラミックス成形型 ４−３・・・ターンテーブル ４−４・・・予成形機４
−５・・・焼鏝成形機 ４−６・・・マーキング機
４−７・・・真空吸着移送機構 ５・・・仕上成形装置 ６・・・超音波洗浄装置６
−２・・・超音波発振機
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一定寸法に切断されたセラミックス坏土を供給する
押出装置と、 該押出装置より供給された坏土を一時貯留 して次工程に供給する坏土供給装置と、 該坏土供給装置から供給された坏土を予備 成形するための予備成形装置と、 多孔体よりなる成形型と金属製受台とが所 定の間隙を設けて一体的に気密に連結されたセラミック
ス成形型および該セラミックス成形型と連通した減圧加
圧機構ならびに成形機とを少なくとも有し、減圧加圧機
構により成形時には前記成形型と受台との間隙を減圧に
保持して成形型表面を減圧した状態で、前記予備成形装
置から供給された坏土を前記セラミックス成形型に載置
して前記成形機により成形してセラミックス成形体を得
ると共に、成形後には前記間隙に圧縮空気を供給してセ
ラミックス成形体をエアレーションにより成形型表面よ
り直ちに離型する本成形装置と、前記離型したセラミッ
クス成形体の仕上成 形を行なう仕上成形装置と、 離形後のセラミックス成形型を洗浄する超 音波洗浄装置とからなることを特徴とするセラミックス
成形体の連続成形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP804886A JPS62167009A (ja) | 1986-01-20 | 1986-01-20 | セラミツクス成形体の連続成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP804886A JPS62167009A (ja) | 1986-01-20 | 1986-01-20 | セラミツクス成形体の連続成形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62167009A true JPS62167009A (ja) | 1987-07-23 |
Family
ID=11682451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP804886A Pending JPS62167009A (ja) | 1986-01-20 | 1986-01-20 | セラミツクス成形体の連続成形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62167009A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4936364A (ja) * | 1972-06-12 | 1974-04-04 | ||
| JPS5342609U (ja) * | 1976-09-16 | 1978-04-12 | ||
| JPS5416518A (en) * | 1977-07-08 | 1979-02-07 | Nippon Koushitsu Touki Kk | Method for rapidly molding and demolding green ceramic materials |
| JPS6037380B2 (ja) * | 1979-11-06 | 1985-08-26 | 松下電器産業株式会社 | 氷削・氷砕装置 |
| JPS61270110A (ja) * | 1985-05-24 | 1986-11-29 | 有限会社 ヤマロク | ローラーマシン成形における粘土製品の成形及び離型システム |
-
1986
- 1986-01-20 JP JP804886A patent/JPS62167009A/ja active Pending
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