JPS62166284A - Heating furnace - Google Patents

Heating furnace

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Publication number
JPS62166284A
JPS62166284A JP61008166A JP816686A JPS62166284A JP S62166284 A JPS62166284 A JP S62166284A JP 61008166 A JP61008166 A JP 61008166A JP 816686 A JP816686 A JP 816686A JP S62166284 A JPS62166284 A JP S62166284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
heating
heating furnace
containers
trays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61008166A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
デイビツト ニコラス ヤング
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAINETEIKON Ltd
Original Assignee
KAINETEIKON Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by KAINETEIKON Ltd filed Critical KAINETEIKON Ltd
Priority to JP61008166A priority Critical patent/JPS62166284A/en
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Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は加熱炉、特に、しかし限定しない意味において
半導体を熟成するのに用いられる加熱炉に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to heating furnaces, particularly, but not exclusively, to heating furnaces used to mature semiconductors.

〔従来の技術と発明が解決する問題点〕シリコンチップ
集積回路のような半導体装置(半導体デバイス)はそれ
らの寿命中に早く減退しがちであり、そこで半導体装置
が使用に供せられる前に、半導体装置をコントロールさ
れた加熱状態にさらすことによって半導体の自然老化を
加速することが従来から提案されている。このような加
熱すなわち焼入れは半導体の寿命を通うして半導体を指
数関数的に加速する効果を有し、その結果寿命の第1年
は典型的には48時間から64時間で表わすことができ
る。
[Problems to be solved by the prior art and the invention] Semiconductor devices such as silicon chip integrated circuits tend to deteriorate quickly during their lifetime, so before the semiconductor devices are put into use, It has been previously proposed to accelerate the natural aging of semiconductor devices by exposing them to controlled heating conditions. Such heating or quenching has the effect of accelerating the semiconductor exponentially through its life, so that the first year of life can typically be expressed in 48 to 64 hours.

熟成工程の後に複数の半導体の試験を行い、減退してい
る半導体を取外すことができ、作動するユニットのみが
残される。かくして使用中の第1年で減退している半導
体を大幅に減少することができる。
After the aging process, multiple semiconductors can be tested and the degraded semiconductors removed, leaving only working units. In this way, it is possible to significantly reduce the amount of semiconductors that are depleted in the first year of use.

複数の半導体は、その中に複数の半導体装置されている
複数のトレーが置かれている加熱炉中で熟成される。狭
い温度許容差で観測されなければならないので、加熱サ
イクルは炉のドアが開かれて各ユニットが検査される前
に完了しなければならない。かくして金でのユニットが
同時に加熱され、工程の間中で作動するユニットから欠
点のあるユニットを分離することは困難である。又その
工程は完全にバッチ式1程であって、複数のユニットの
連続処理を可能にしない。
The plurality of semiconductors are aged in a heating furnace in which are placed a plurality of trays having a plurality of semiconductor devices therein. Since narrow temperature tolerances must be observed, the heating cycle must be completed before the furnace door is opened and each unit is inspected. Thus, the gold units are heated at the same time and it is difficult to separate defective units from the units operating throughout the process. Also, the process is entirely batch-wise and does not allow for continuous processing of multiple units.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明により、それぞれが加熱されることになる複数の
物品用の複数のコンテナを受入れるための加熱室を含ん
で成り、その室の壁が遮熱層によって形成されており、
前記遮熱層は個々のコンテナがそれを通って通過するこ
とが可能であるように間隔をあけて複数個所で開口可能
であり、個々のコンテナの通過が完了すると前記遮熱層
が再度閉鎖されるようになっている加熱炉が提供される
According to the invention, it comprises a heating chamber for receiving a plurality of containers, each for a plurality of articles to be heated, the walls of the chamber being formed by a heat barrier layer,
The heat barrier layer is openable at multiple locations spaced apart to allow passage of individual containers therethrough, and the heat barrier layer is closed again upon completion of passage of the individual containers. A heating furnace is provided that is adapted to be heated.

前記加熱炉は好ましくは加熱室とは異なる温度で保たれ
ている第2室を有し、両方の室は遮熱層を経て相互に連
通している。第2室の室温は大気温度であると好ましい
The heating furnace preferably has a second chamber which is kept at a different temperature than the heating chamber, both chambers communicating with each other via a heat barrier layer. The room temperature of the second chamber is preferably atmospheric temperature.

加熱炉は特に半導体を熟成するのに用いられ、この場合
に複数のコンテナは例えば多数の半導体のための電気的
連結(すなわち接続)を有する複数のトレーである。し
たがって、使用される際に、それぞれのトレーは予め設
定された時間の間、加熱室の中へ通され、加熱室に残っ
ている複数のトレイの温度環境を乱すことなしに、其後
加熱室から自動的に放出される。この事はトレイの放出
に際して遮熱層を再閉鎖することによって達成される。
Furnaces are used in particular to mature semiconductors, where the containers are, for example, trays with electrical connections for a number of semiconductors. Therefore, when in use, each tray is passed into the heating chamber for a preset period of time and then removed from the heating chamber without disturbing the temperature environment of the trays remaining in the heating chamber. automatically released from. This is accomplished by reclosing the thermal barrier upon ejection of the tray.

第3室を加熱室から見て第2室とは反対側に設けること
ができ、第3室は第2室に類似した設計である。この第
3室も又遮熱層を経て加熱室と相互連通することができ
、複数の半導体を有する複数のトレーは、加熱室と第2
室との間と同様にこれらの室間で移動可能である。複数
のトレーおよびそれらの移動の案内手段が、第2室へ移
動可能なトレーが第3室へ移動可能なトレーと加熱室に
おいて組み合さるように、配置されていると好ましい。
A third chamber can be provided on the opposite side of the heating chamber from the second chamber, the third chamber having a similar design to the second chamber. This third chamber can also be interconnected with the heating chamber via the heat barrier layer, and the plurality of trays having the plurality of semiconductors are connected to the heating chamber and the second chamber.
It is possible to move between these rooms as well as between rooms. Preferably, the plurality of trays and the means for guiding their movement are arranged such that a tray movable to the second chamber is combined with a tray movable to the third chamber in the heating chamber.

この事は第2室および第3室での複数のトレーの検査と
取扱いを楽にするのを可能にし、一方加熱室によって受
入れ可能のトレーの数を最大にする。第2室と第3室の
それぞれに収められたトレーの間隔は加熱室に収められ
る時のトレーの間隔の2倍である。
This allows for ease of inspection and handling of multiple trays in the second and third chambers, while maximizing the number of trays that can be received by the heating chamber. The interval between the trays housed in each of the second and third chambers is twice the interval between the trays when housed in the heating chamber.

遮熱層は幾つかの方法で形成することができる。The thermal barrier layer can be formed in several ways.

例えば複数のコンテナがそれを越えて移動することがで
き、其後それらが閉じられる位置に戻るフラップを用い
て形成することができる。これとは別に、コンテナが加
熱室に完全に入っている時あるいは室から完全に出てい
る時に、その一部が複数のコンテナの部分によって形成
される壁を提供することに遮熱層が形成されてもよい。
For example, containers can be formed with flaps over which they can be moved and then they can be returned to the closed position. Separately, a heat barrier layer is formed by providing a wall, a portion of which is formed by several container parts, when the container is completely in the heating chamber or completely out of the heating chamber. may be done.

かくしてそれぞれのコンテナは間隔をあけて配置された
一対の面を有し、一対の面のそれぞれが、コンテナが適
切に位置決めされた時に壁の固定部分と係合することが
できる。このような係合が遮熱層を完成する。
Each container thus has a pair of spaced apart surfaces, each of which is capable of engaging a fixed portion of the wall when the container is properly positioned. Such engagement completes the heat barrier layer.

前記固定された壁部分は、それを通って複数のコンテナ
が通過することができる複数の孔を提供するように相互
に合さった複数のれんがから作ることができる。これら
れんがは保守あるいは交換のために取外し可能である。
The fixed wall portion may be made from bricks that are interlocked to provide holes through which containers can pass. These bricks are removable for maintenance or replacement.

複数のコンテナは加熱室の内外へ複数のランチ上で摺動
するトレーであると好ましい。
Preferably, the plurality of containers are trays that slide into and out of the heating chamber on a plurality of launches.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の実施例を示す添付図面を参照して本発明を以下
に詳述する。
The invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings, which illustrate embodiments of the invention.

添付図面に示すように、本発明の加熱炉の基本構成は加
熱炉の内側で熟成されている半導体の条件と状態が表示
されているコントロール・監視ステーションをその中に
収容している外箱1を有する。ガラスドア3がコントロ
ールステーション2の両側に配置され、他のドア4が炉
の反対側の壁内に設けられる。
As shown in the accompanying drawings, the basic structure of the heating furnace of the present invention is an outer box 1 containing a control/monitoring station in which the conditions and status of the semiconductor being matured inside the heating furnace are displayed. has. Glass doors 3 are placed on either side of the control station 2, and another door 4 is provided in the opposite wall of the furnace.

炉の内側は複数の加熱室5と複数の大気温度室6に分け
られ、大気室6は2つのドアー3,4と加熱室5との間
に配置される。濾内の中央区域には加熱・冷却装置8.
9が設けられ、加熱・冷却装置8.9からは加熱室5を
通過する複数のパイプ(図示せず)が延びる。それぞれ
の室の加熱と冷却はコントロールステーションを用いて
装置8゜9から独立にコントロールすることができる。
The inside of the furnace is divided into a plurality of heating chambers 5 and a plurality of atmospheric temperature chambers 6, and the atmospheric chamber 6 is arranged between the two doors 3, 4 and the heating chamber 5. In the central area of the filter there is a heating/cooling device 8.
A plurality of pipes (not shown) extending through the heating chamber 5 extend from the heating/cooling device 8.9. The heating and cooling of each chamber can be controlled independently from the apparatus 8.9 using a control station.

このようなコントロールはサーモスタット等によって行
われればよく、室内での熱分布を確実に均一にするため
に加熱室5の内側に循環ファンを用いてコントロールを
助けることができる。
Such control may be performed by a thermostat or the like, and may be assisted by the use of a circulation fan inside the heating chamber 5 to ensure uniform heat distribution within the room.

加熱装置8は大気より20℃高い温度から200℃迄の
温度を室5の内側に作ることができ、一方冷却装置9は
一55℃迄の温度を提供することができる。
The heating device 8 can create temperatures inside the chamber 5 ranging from 20° C. above atmospheric temperature to 200° C., while the cooling device 9 can provide temperatures up to -55° C.

加熱炉5の複数の壁は遮熱層を提供するために効果的に
絶縁され、複数のトレー10が加熱室5と大気室6との
間の壁11を通って複数のランナー15 (第3図)上
を滑走するように!!置される。
The walls of the furnace 5 are effectively insulated to provide a heat barrier layer, and the trays 10 are passed through the wall 11 between the heating chamber 5 and the atmospheric chamber 6 by a plurality of runners 15 (third Figure) Like gliding on top! ! placed.

それぞれの最も外側の位置で、複数のトレー10は後述
のように遮熱層を完備するために壁と協働する。複数の
トレー10のそれぞれはシリコンチップ集積回路の形状
をした半導体を受入れるために電気コネクタをはめこま
れて有する。電流は母線を経て供給され、母線からは高
可撓性絶縁銅ブレードが、複数のトレーが妨害されるこ
となく走行できるように、複数のトレーに延びる。
At their respective outermost positions, the plurality of trays 10 cooperate with the walls to provide a heat barrier layer as described below. Each of the plurality of trays 10 has an electrical connector fitted therein for receiving a semiconductor in the form of a silicon chip integrated circuit. Current is supplied through a busbar from which highly flexible insulated copper braids extend to the trays to allow unhindered passage of the trays.

トレー10と壁11の構造が第3図に図示される。複数
の壁11は互いに積重ねられて組合されている複数の炉
用れんが12から成る。れんが12が内側にはめられた
時に複数のれんががそれらの間に複数の細長いスロット
13の輪郭を定めるような形状に複数のれんが12で作
られている。
The construction of tray 10 and wall 11 is illustrated in FIG. The walls 11 consist of a plurality of furnace bricks 12 which are stacked and assembled together. The bricks 12 are shaped so that when the bricks 12 are fitted inside, the bricks define a plurality of elongated slots 13 therebetween.

それぞれのれんが12は両側方部に孔14を有し、この
孔14を通ってガイドランナー15が設けられ、複数の
摺動ベアリング16が前記ガイトラシナ−15上に[置
されて複数のトレーlOをランナー間で支える。
Each brick 12 has a hole 14 on both side parts, through which a guide runner 15 is provided, and a plurality of sliding bearings 16 are placed on the guide liner 15 to carry a plurality of trays lO. Support between runners.

トレーlOの後端には、内側に先細となってその上面と
下面で直接れんがと係合することができる2つの面18
を有する端部ストリップ17が設けられる。同様な端部
ストリップ(図示せず)がトレー10の前つ:;)に取
付物として設けられる。この端部ストリップはトレーの
内容物に容易に接近できるようにするために取外し可能
あるいは位置を調節可能である。
The rear end of the tray 10 has two surfaces 18 that taper inwardly and can directly engage the bricks on their top and bottom surfaces.
An end strip 17 is provided having a . A similar end strip (not shown) is provided as a fixture on the front end of the tray 10. This end strip is removable or repositionable to provide easy access to the contents of the tray.

保持マグネット19および戻りばね2oがトレーの移動
と位置をコントロールし、これらはコントロールステー
ション2から始動される。
A retaining magnet 19 and a return spring 2o control the movement and position of the tray, which are initiated from the control station 2.

加熱室5の両側の大気室内で複数のトレー1゜は、トレ
ーがランナー15上を摺動して加熱室5の中に入る時に
、複数のトレーが組合されるように、互いにずれて重ね
合され、かくして炉の高さ迄一杯を使用することを可能
にし、一方それぞれの大気室6内でのトレーの内容物の
取扱いを容易にすることを可能にする。
In the atmospheric chambers on both sides of the heating chamber 5, the plurality of trays 1° are staggered and stacked one on top of the other so that when the trays slide on the runners 15 and enter the heating chamber 5, the plurality of trays are combined. 2, thus making it possible to use the full height of the furnace, while making it possible to easily handle the contents of the trays in each atmospheric chamber 6.

この実施例の炉は80個のトレー1oを有し、それぞれ
のトレーはそのコネクタに差込まれた約300個のシリ
コンチップ集積回路を有する。複数のトレー10は主コ
ンピユータからコントロールステーション2を経て移動
をそれぞれ独立にコントロールされる。かくしてどれか
のトレー10が大気室6内に載せられ、一方他の複数の
トレー10は加熱室5の内側にある。端部ストリップ1
7と端部ストリップ18の複数のれんが12との保合が
、複数のトレー10が加熱室5あるいは大気室6の何れ
に配置されておったとしても、加熱室5あるいは大気室
6間の遮熱層が効果的に維持されることを確実にする。
The furnace of this example has 80 trays 1o, each tray having approximately 300 silicon chip integrated circuits plugged into its connector. The movement of the plurality of trays 10 is independently controlled by the main computer via the control station 2. Thus, one of the trays 10 is placed in the atmospheric chamber 6, while the other trays 10 are inside the heating chamber 5. End strip 1
7 and the plurality of bricks 12 of the end strip 18 ensure that no matter whether the plurality of trays 10 are placed in the heating chamber 5 or the atmospheric chamber 6, there is no barrier between the heating chambers 5 or the atmospheric chambers 6. Ensures that the thermal layer is effectively maintained.

本発明による装置の他の実施例の詳細な説明および装置
の作動とプログラミングの説明を併せて以下に行う。
A detailed description of other embodiments of the device according to the invention, together with a description of the operation and programming of the device, follows below.

焼付炉全装置は2個の昇温された室と2個の大気室に分
割される。それぞれの昇温室の容積は80βであり、半
導体装置試験モジュール(以下DTMと称す)トレー(
第4図参照)の160個を全装置の中に収容するように
設備されている。1つの室は4個の柱体に区分され、そ
れぞれの柱体は第6図に示すように20枚のトレーの配
置が可能に構成されている。昇温室の両側には装置用動
力供給および分配ロジック装置を収容する大気室が配置
される。それぞれの大気室は昇温室のそれぞれの側面か
ら接近できる状態での全部で40あるいは80のトレー
を収容するのに充分な容積を有する。それぞれの大気室
への作業員の接近は装置の両側のガラスドアを経て行う
ことができる。
The entire baking oven installation is divided into two heated chambers and two atmospheric chambers. The volume of each heating chamber is 80β, and the capacity of each heating chamber is 80β.
160 pieces (see Fig. 4) are housed in the entire device. One chamber is divided into four pillars, and each pillar is configured so that 20 trays can be arranged as shown in FIG. On either side of the heating chamber are located atmospheric chambers that house the power supply and distribution logic for the device. Each atmospheric chamber has sufficient volume to accommodate a total of 40 or 80 trays, accessible from each side of the heating chamber. Operator access to each atmospheric chamber is via glass doors on either side of the device.

DTM I−レーのそれぞれは高温室の絶縁壁を経て挿
入されて試験される半導体装置を高温室の中に置くこと
を可能にし、一方試験のコントロールは大気室内に残る
Each of the DTM I-Rays is inserted through the insulating wall of the hot chamber to allow the semiconductor device to be tested to be placed inside the hot chamber, while the test controls remain in the atmospheric chamber.

試験システム管理装置(以下TSMと称す)が、現在試
験のためにプログラミングされている全体の装置タイプ
と試験モジュールコントローラ(以下TMCと称す)の
状態を確認するために、それぞれの試験モジュールコン
トローラに通ずる。もし装置の同一性がTMCのメモリ
内に現在記憶されたプログラム化された情報と比較され
たならば、TSMは試験レポートの表題に書かれる呼び
名、バッチ番号、スタートの時期、試験指針に関する情
報を提供することのみ必要である。
The test system management device (hereinafter referred to as TSM) communicates with each test module controller to confirm the overall equipment type and status of the test module controller (hereinafter referred to as TMC) currently programmed for the test. . If the identity of the equipment is compared to the programmed information currently stored in the TMC's memory, the TSM will provide information regarding the designation, batch number, time of start, and test guidelines written in the title of the test report. It is only necessary to provide

もしT M Cのメモリに内臓された情報が試験される
半導体装置に合わないならば、T S Mはウィンチェ
スタリジッドディスク上に内臓されているライブラリか
ら適当な情報を移す。そして表題の情報がまた前のよう
に付加される。
If the information contained in the TMC's memory does not suit the semiconductor device being tested, the TSM transfers appropriate information from a library contained on the Winchester rigid disk. The title information is then added again as before.

試験の間中周期的に、TSMは複数のTMCのそれぞれ
を調べ、発生した複数の試験結果を複数のTMCメモリ
から引出し、それぞれのトレーに対して複数の性能計算
結果を算出することを可能にする。この事が複数の個々
の装置バッチの減退率のパスタブ形曲線の底部を決定す
ることを可能にし、かくして不必要な焼入れ時間を避け
ることができる。
Periodically throughout the test, the TSM examines each of the multiple TMCs and retrieves multiple test results from the multiple TMC memories, allowing multiple performance calculations to be computed for each tray. do. This makes it possible to determine the bottom of the decline rate pastub-shaped curve for multiple individual device batches, thus avoiding unnecessary quenching times.

環境温度のコントロールはシステム内の温度と経過時間
をモニターするTSMによって遠隔操作される。周園室
の冷却および必要ならば除湿は高散逸負荷を具備したコ
ントロールされた作動を可能にし、且つ得られる大気温
度を下げることを可能にする冷凍技術によって達成され
る。
Environmental temperature control is remotely operated by the TSM, which monitors temperature and elapsed time within the system. Cooling and, if necessary, dehumidification of the surrounding room is achieved by refrigeration techniques that allow controlled operation with high dissipative loads and reduce the resulting atmospheric temperature.

試験室においてオーバヒートが生じた場合に、コントロ
ールオーバライド装置が冷凍システムの始動を行い、試
験中の半導体装置からパワーを取除く。試験システムマ
ネージャに通報され、欠点条件の作業員に警戒態勢をと
らせるために可聴域の警報がなる。全ての半導体装置ト
レーは自動的に上昇温度から自動的に排出される。
In the event of overheating in the test chamber, a control override device initiates the refrigeration system and removes power from the semiconductor device under test. The test system manager will be notified and an audible alarm will be sounded to alert the defective worker. All semiconductor device trays are automatically ejected from elevated temperatures.

環境コントロールはR5−422マルチドロップバス構
造体を経て試験システムマネージャに伝達することがで
きる三項(平行+積分十導関@)コントローラによって
与えられる。
Environmental control is provided by a ternary (parallel+integral decadic) controller that can be communicated to the test system manager via an R5-422 multidrop bus structure.

パワー供給モジュールは大気室に配置され、半導体装置
試験モジュール、試験モジュールコントローラ、分配シ
ステムロジックにパワーを供給する。
A power supply module is located in the atmospheric chamber and provides power to the semiconductor device test module, test module controller, and distribution system logic.

修正半導体装置トレー30が第4図および第5図に示さ
れる。これらのトレー30は加熱室5の壁11中のスロ
ット13を越えて延びるヒンヂ付フラップ31と協働す
る。フラップ31はその下方端縁部で丁番付けられ、戻
りスプリング32が設けられる。トレー30が挿入され
る時にはフラップ31は下方に折られ、トレー30が外
される時にはスプリング32の影響を受けて自動的に閉
鎖する。
A modified semiconductor device tray 30 is shown in FIGS. 4 and 5. These trays 30 cooperate with hinged flaps 31 extending beyond the slots 13 in the walls 11 of the heating chamber 5. The flap 31 is hinged at its lower edge and is provided with a return spring 32. The flap 31 is folded downward when the tray 30 is inserted, and automatically closes under the influence of the spring 32 when the tray 30 is removed.

複数のトレー30はキャリヤ33内にyj、置され、バ
ヨネットとラッチタイプのロックの組合せによって所定
位置に保たれる。トレー30と共に出たり、入ったりし
て動く可撓性ケーブル35の連結を可能にするコネクタ
34がそれぞれのトレーに設けられる。
A plurality of trays 30 are placed in carrier 33 and held in place by a combination of bayonet and latch type locks. A connector 34 is provided on each tray to allow connection of a flexible cable 35 that moves in and out with the tray 30.

それぞれのキャリヤ33は中央コンピュータによってコ
ントロールされるキャリヤ駆動用モータ36を有する。
Each carrier 33 has a carrier drive motor 36 controlled by a central computer.

試験されているそれぞれの半導体が、加熱室にいる間、
そしてもし必要ならば室の外にいる時に、半導体を横切
る電圧を持つことができるように、ケーブル35はパワ
ーを供給する。
While each semiconductor being tested is in a heating chamber,
Cable 35 then provides power so that if needed, a voltage can be carried across the semiconductor when outside the room.

システムの機能作用とコントロールシステムを以下に詳
述する。
The functional operation and control system of the system is detailed below.

コントロールシステムは作業員がシステムに指令を与え
、情報を受けることができる試験システムマネージャ装
置を含んで成る。マニュアルコントロール、チャートレ
コーダおよびレコードとディスプレーが目で見ることの
できる情報と人手によるコントロールを提供するために
コントロールステーションのコンソールパネルに配置さ
れる。
The control system includes a test system manager device that allows operators to give commands to the system and receive information. Manual controls, chart recorders and records and displays are located on the control station console panel to provide visual information and manual control.

半導体装置の積込みおよび積出しはガラスドア3.4を
経て行われ、それぞれのガラスドアで焼入れボード用の
40キヤリンヂに接近可能である。
Loading and unloading of semiconductor devices takes place via glass doors 3.4, each of which provides access to 40 carriages for hardened boards.

ガラスドア3.4をあける際に、現在試験中の何れかの
半導体装置トレーの自動的な放出が20で示すスタッフ
の内側で行われることによって作業員の安全が保たれる
When opening the glass door 3.4, the safety of the personnel is maintained by the automatic ejection of any semiconductor device tray currently under test inside the staff indicated at 20.

システムが始動すると、コンソール2によって教えられ
る人手作業の順序にしたがって作業員は導かれる。
When the system is started, the operator is guided through the manual sequence taught by the console 2.

1つの特定のボードの焼付はサイクルを開始するために
、作業員はドアー3,4を開け、それから1枚の半導体
装置ボード30あるいは2枚の半導体装置ボード30を
室のキャリヤ33内に置く。トレー成型物の前面に配置
された小さいレバーの作動によって電気的接触を発生さ
せるゼロ挿入力コネクタによって、パワーと信号35が
ボード30に連結される。
To begin the cycle of baking one particular board, the operator opens the doors 3, 4 and then places one semiconductor device board 30 or two semiconductor device boards 30 into the carrier 33 of the chamber. Power and signals 35 are coupled to board 30 by a zero insertion force connector that creates electrical contact by actuation of a small lever located on the front of the tray molding.

それからドアーは閉じられ、試験を始めるための指令が
システムターミナルを経て入れられる。
The door is then closed and the command to begin the test is entered via the system terminal.

パワーがボードに付与され、機能試験を開始する自己診
断、鑑定手続が完結する。TSMからの指示にしたがっ
て、キャリッヂ上に載置された1枚又は複数枚のボード
は自動的に加熱室に移動され、焼入れ工程が始まる。
Power is given to the board, and the self-diagnosis and appraisal procedures that begin the functional test are completed. According to instructions from the TSM, the board or boards placed on the carriage are automatically moved to the heating chamber and the hardening process begins.

それぞれのチャンバ内での温度は、事前設定の温度を維
持するために加熱と冷却にコントロール信号を切換えす
ることができるヨーコセラム(Euro therm)
 820温度コントローラによってコントロールされる
。加えてコントローラはマルチドロップネットワークを
経て試験装置マネージャに連結される。TSMは820
の範囲のパラメータを検査し、セットすることができる
。820コントロールパネルがセントポイントをセット
するために用いられ得るが、通常T S Mはそれを行
わず、システムマネージャが正しいパスワードを820
コントロールパネルに供給することによっであるいは診
断用プログラムを用いるT S Mから直接複数のパラ
メータをセットすることによってのみ行うことができる
The temperature in each chamber is controlled by a Eurotherm control signal that can switch between heating and cooling to maintain a preset temperature.
Controlled by an 820 temperature controller. In addition, the controller is coupled to the test equipment manager via a multidrop network. TSM is 820
A range of parameters can be inspected and set. Although the 820 control panel can be used to set the cent point, TSM typically does not do this and the system manager must enter the correct password on the 820.
This can only be done by setting parameters by supplying them to the control panel or directly from the TSM using a diagnostic program.

1つの特定のボードに対する焼入れが終了したことをシ
ステムが決定した時あるいは特定のボードに対する焼入
れを停止することを作業者によって指示された時に、シ
ステムはドアー3.4をロックし、ボードを焼入れ環境
から大気温度環境に引出して戻す。ボードが冷却されて
いる間では、ボード上のインディケータ(LED)が輝
いてボードの冷却が完了していない事を示す。しかしな
がら作業員は他のボードを積込んだり、積降ろしたりす
ることができる。冷却時間が経過すると、インディケー
タが消え、その結果に対するメツセージがディスプレ上
に印字される。
When the system determines that the hardening for one particular board is finished or when instructed by the operator to stop hardening for a particular board, the system locks the door 3.4 and removes the board from the hardening environment. and returned to an ambient temperature environment. While the board is cooling, an indicator (LED) on the board will illuminate to indicate that the board is not completely cooled. However, workers can load and unload other boards. Once the cooling time has elapsed, the indicator will disappear and a message to the result will be printed on the display.

加えて820コントローラから全く分離されているヨー
ロセラム温度超越ポリスマン装置がある。
In addition, there is a Euroceram temperature transcendental policeman device that is completely separate from the 820 controller.

この装置は作業員によって人手でセットされ、ポリスマ
ン装置が人手でリセットされる迄820コントロールパ
ネルからの複数の加熱・冷却信号を廃棄して無効にする
This device is manually set by an operator and discards and disables multiple heating and cooling signals from the 820 control panel until the Policeman device is manually reset.

TSMコンピュータが始動した時、室の状態は不作動状
態にリセットされる。焼入れボードのトレーは不作動室
内においてシステムによって開始されない。作業員ある
いはシステムマネージャはそれぞれの室あるいは何れか
の室を始動することができる。2種類の作動状態、安定
温度とサイクル作動とがある。
When the TSM computer is started, the chamber state is reset to the inactive state. The tray of hardened board is not started by the system in the inactive chamber. An operator or system manager can start each or any room. There are two types of operating conditions: stable temperature and cycle operation.

安定温度モードにおいて、作業員は摂氏で設定温度を供
給する。TSMはこの温度が室の構造上の限界内にある
ことを確実にし、それから特定の室内で現在燃焼中のそ
れぞれのトレーに対して、装置試験条件記載ファイル(
DOTファイル)中に指定されている最低装置作動温度
および最高装置作動温度を検査する。もし新しく要求さ
れた設定点が1個以上のボードに対して高すぎるかある
いは低すぎたりするならばエラーメソセージがプリント
される。もし要求されるならば、TSMは温度を無関係
にセントするオーバライド選択を可能にする。もしそう
でなければ、使用者は現在の複数のトレーによって許さ
れる範囲内の異なる設定点に入るか、あるいは変化され
ない現在の値を雛れなければならない。もし設定点が変
わられたならば、TSMは新しい値を820コントロー
ラに送り、コントローラは現在の温度を上げたり、下げ
たりするために自律的に作動する。
In stable temperature mode, the operator supplies the set temperature in degrees Celsius. The TSM ensures that this temperature is within the structural limits of the chamber and then creates an Equipment Test Conditions Description File (
Check the minimum and maximum device operating temperatures specified in the DOT file). If the newly requested set point is too high or too low for one or more boards, an error message will be printed. If required, the TSM allows an override selection to set temperature independently. If not, the user must either enter a different set point within the range allowed by the current trays, or leave the current value unchanged. If the set point is changed, the TSM sends the new value to the 820 controller and the controller operates autonomously to raise or lower the current temperature.

温度サイクル選択は使用者が必要とされる温度状況を保
つディスク上のファイルの名前を特定することを許す。
The temperature cycle selection allows the user to specify the name of a file on the disk that maintains the required temperature conditions.

この事は複数のトレー中での現在の焼付けを参照するこ
と無しに適当な間隔での820設定点を再度プログラミ
ングする。
This reprograms the 820 set points at appropriate intervals without reference to current firings in multiple trays.

室が不作動状態であることを要求した時には、TSMは
820コントローラをコントロールしく820コントロ
ーラを遠隔マニアルモードに切換える)、加熱と冷却を
止める。室のファンは人手によって停められる迄作動を
続ける。
When the room requires inactivity, the TSM controls the 820 controller (switching the 820 controller to remote manual mode) and turns off heating and cooling. The room fan continues to operate until it is stopped manually.

TSMが何回かの試みの後でも820コントローラとの
連携に失敗したならば、T S Mが連携できないそれ
ぞれの820コントローラに対して、TSMが室状態を
不作動に設定する。加えてもし820状態がコントロー
ラあるいは検温針が不適格であることを示すならば、室
は不作動になる。
If the TSM fails to coordinate with the 820 controllers even after several attempts, the TSM sets the room state to inactive for each 820 controller with which the TSM is unable to coordinate. In addition, if the 820 condition indicates that the controller or temperature probe is ineligible, the chamber will be inactive.

それぞれの活動状態のトレーの位置を調べる時に、TS
Mは不作動室にあるどのような作動トレーに対しても中
止させる。
When checking the position of each active tray, the TS
M will abort any working trays in the dead room.

作業者はC,R,Tモニタとキーボードを経てシステム
をコントロールする。これは作業員用のコンソール2で
ある(第1図参照)。又装置ファイルや他のソフトウェ
アを積込むことを可能にするフロッピディスクドライブ
がある。作業員はスクリーン上にディスプレイされた期
限や情報のメ・ノセージに応答してキーボードに指令や
情報を入れることができる。作業員は又スクリーン上に
情報をディスプレイすることや別箇の任意のプリンタに
情報をプリントすることをシステムに求めることができ
る。
The operator controls the system via the C, R, and T monitors and keyboard. This is the console 2 for the operator (see Figure 1). There is also a floppy disk drive that allows you to load device files and other software. Workers can enter commands and information on the keyboard in response to deadline and information messages displayed on the screen. The worker can also ask the system to display information on a screen or print information to a separate optional printer.

システムが最初に始動された時、室温度等のような必要
な情報を供給するために対話によって案内される。
When the system is first started, it will be guided through a dialog to provide necessary information such as room temperature, etc.

作業員は複数の装置ボードを炉の中へ積込み、キーボー
ドを用いて積込まれたボード上の最初のチェックを行う
ことをシステムに指示し、それから焼付はサイクルを開
始する。
The operator loads multiple equipment boards into the furnace, uses the keyboard to instruct the system to perform an initial check on the loaded boards, and then the bake cycle begins.

利用することができる作業員の指示の類例の簡単な要約
を下記に示す。
A brief summary of examples of worker instructions that may be utilized is provided below.

指示           作 用 スタート     1個の装置ボードに対する焼入れの
開始。作業員はボード位 置、装置名前、バッチ検証コー ド等のような情報に対して教え られる。
Instructions Start of operation Start of hardening for one equipment board. Workers are taught information such as board location, equipment name, batch verification code, etc.

ストップ     1個の装置ボードに対する焼入れの
迅速な停止。作業員はボ ード位置に対して教えられ、シ ステムは簡単な内容をプリント し、確認を求める。
Stop Quickly stop hardening on one equipment board. The operator is instructed on the board position and the system prints out a brief message and asks for confirmation.

プログレス    何れか1個の装置ボードに対する簡
単な工程レポートをCR Tスクリーンあるいはプリンタ 上にプリントする。リストされ る項目は計画された全体の焼入 れ時間、経過時間、それ迄の減 退の程度。
Progress Prints a simple process report for any one equipment board on a CRT screen or printer. Items listed are the total planned quenching time, elapsed time, and degree of reduction so far.

レポート     その焼入れを完了した何れか1個の
装置に対するレポートの 総括。
Report A summary of the report for any one piece of equipment that completed its hardening.

シャットダウン  焼入れシステムの閉鎖。これは、残
っている装置ボードの焼 入れの迅速な停止と炉装置の冷 却をさせる。
Shutdown Closure of the quenching system. This allows for a quick stop of quenching of the remaining equipment boards and cooling of the furnace equipment.

ヘルプ      補助設備が不慣れな作業員を案内し
、与えられたメツセージ を説明するために設けられる。
Help Auxiliary equipment is provided to guide inexperienced workers and explain messages given.

数多くの修正やさらに他の実施例が考えられる。Numerous modifications and further embodiments are possible.

例えば2番目作業員用コンソールが2人の作業員で作業
できるように設けられてもよい。
For example, a second worker console may be provided so that two workers can work on it.

しかしながら同じ機能、例えばボードの積込み、を両方
のコンソールによって同時に請求することはできないが
、片方がボードの積込みを請求し、他方が情況レポート
を請求することはできる。これは又1人の技術者が装置
ファイル情報を入力したり修正するために用いることが
できる。しかしこの機能は作業員の諸機能よりも低い優
先度を有する。
However, the same function, eg loading a board, cannot be requested by both consoles at the same time, although one can request loading a board and the other can request a status report. It can also be used by one technician to enter or modify device file information. However, this function has a lower priority than the worker functions.

3番目の使用方法は複数の装置ファイルを入力するのに
用いることができる別箇に設けられたマイクロコンピュ
ータ装置への直結を可能にすることである。それは又マ
イクロコンピュータに作業員コンソールに匹敵させるソ
フトウェアを書かせることが可能である。
A third use is to allow direct connection to a separately provided microcomputer device that can be used to input multiple device files. It is also possible to write software on a microcomputer that makes it comparable to a worker console.

4番目の使用方法は、システムが操業中に、サービス作
業員に診断上の試験をさせることが可能であることであ
り、もし適切に連結されると遠隔システム診断を実施す
ることができる。
A fourth use is to allow service personnel to perform diagnostic tests while the system is in operation and, if properly linked, to perform remote system diagnostics.

さらに他の修正や改良を本発明の範囲を逸脱すること無
しに行うことができる。
Still other modifications and improvements may be made without departing from the scope of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による加熱炉の一実施例を示す水平断面
図であり、第2図は第1図に示した加熱炉の斜視図であ
り、第3図は第2図の炉内に収められ且つ複数の半導体
を受入れるためのトレーの第1実施例を示す切開斜視図
であり、第4図は複数の半導体を受入れるためのトレー
の第2実施例を示す斜視図であり、第5図はキャリヤに
載置された第4図に示すトレーの2個を示す斜視図であ
り、第6図は第4図の複数のトレー用゛の収納棚モジュ
ールの一部切欠斜視図であり、第7図は第4図の2個の
トレー用のキャリヤを示す斜視図である。 1・・・外箱、   2・・・コントロールステーショ
ン、3.4・・・ガラスドア、  5・・・加熱室、6
・・・大気温度室、    7・・・中央区域、8・・
・加熱装置、     9・・・冷却装置、10・・・
トレー、      11・・・壁、12・・・れんが
、      13・・・スロット。 以下余白 手続補正書(方式ン 昭和61年4月7を日
FIG. 1 is a horizontal sectional view showing an embodiment of the heating furnace according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view of the heating furnace shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a cutaway perspective view of a first embodiment of a tray for receiving a plurality of semiconductors; FIG. 4 is a perspective view of a second embodiment of a tray for receiving a plurality of semiconductors; FIG. 6 is a perspective view showing two of the trays shown in FIG. 4 placed on a carrier; FIG. 6 is a partially cutaway perspective view of a storage shelf module for multiple trays shown in FIG. 4; FIG. 7 is a perspective view of the carrier for the two trays of FIG. 4; 1...Outer box, 2...Control station, 3.4...Glass door, 5...Heating chamber, 6
... Atmospheric temperature chamber, 7... Central area, 8...
・Heating device, 9...Cooling device, 10...
Tray, 11...Wall, 12...Brick, 13...Slot. The following is a margin procedure amendment (formula dated April 7, 1986)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、それぞれが加熱されることになる複数の物品用の配
置部を有する複数のコンテナを受入れるための加熱室を
含んで成る加熱炉であって、前記室が遮熱層の形状をし
た壁を有し、前記遮熱層には、加熱されることになる物
品用の前記配置部が完全に加熱室の外にある第1位置と
、前記配置部が完全に加熱室内にある第2位置との間で
前記複数のコンテナのそれぞれが独立して通過すること
ができる複数の孔が間隔をあけて配置されており、前記
室が、それぞれのコンテナが第1位置あるいは第2位置
にある時に作動可能な、前記複数の孔を閉鎖する手段を
有する加熱炉。 2、前記加熱炉が第2室を有し、該第2室が遮熱層中の
複数の孔を経て前記加熱室に相互連通しており、前記炉
の作動時に前記第2室は加熱炉とは異なる温度に保たれ
ている特許請求の範囲第1項記載の加熱炉。 3、加熱されることになる複数の物品用の複数の配置部
が半導体の形状をした加熱されることになる物品に接続
のための電気コネクタを有する複数のトレーである特許
請求の範囲第1項又は第2項に記載の加熱炉。 4、前記第2室に類似した第3室が設けられ、該第3室
も又遮熱層中の複数の孔を経て加熱室に相互連通してお
り、第3室から加熱室へ移動可能である複数のコンテナ
と組合さるように、他の複数のコンテナが第2室から加
熱室へ移動可能である特許請求の範囲第1項から第3項
迄の何れか1項に記載の加熱炉。 5、複数の孔を閉鎖する手段が、前記コンテナが前記第
1位置あるいは前記第2位置の何れかにある時に、それ
ぞれの孔を閉鎖する複数のコンテナのそれぞれの向合っ
た端部分である特許請求の範囲第1項から第4項迄の何
れか1項に記載の加熱炉。 6、複数の孔を閉鎖する手段が、前記コンテナが前記第
2位置にある時に、それぞれの孔を閉鎖する複数のコン
テナのそれぞれの端部分と、前記コンテナが第1位置に
ある時にそれぞれの孔を閉鎖する遮熱層上のフラップで
ある特許請求の範囲第1項から第5項迄の何れか1項に
記載の加熱炉。 7、室の複数の壁が、複数のコンテナがそれを通って通
過することができる複数の孔の輪郭を規定するために相
互に合さった複数のれんがから作られている特許請求の
範囲第1項から第6項迄の何れか1項に記載の加熱炉。 8、電気的連結が複数のコンテナのそれぞれに独立して
設けられ、前記電気的連結が複数のコンテナの位置に無
関係に保たれている特許請求の範囲第1項から第7項迄
の何れか1項に記載の加熱炉。
[Claims] 1. A heating furnace comprising a heating chamber for receiving a plurality of containers, each having an arrangement for a plurality of articles to be heated, the chamber comprising a heat barrier layer. and a first position in which the arrangement for the article to be heated is completely outside the heating chamber, and a first position in which the arrangement for the article to be heated is completely inside the heating chamber. a plurality of spaced holes through which each of the plurality of containers can pass independently between the chamber and a second position located at the first position; A heating furnace having means for closing said plurality of holes operable when in the second position. 2. The heating furnace has a second chamber, the second chamber is in communication with the heating chamber through a plurality of holes in the heat barrier layer, and when the furnace is operated, the second chamber is in communication with the heating chamber. The heating furnace according to claim 1, wherein the heating furnace is maintained at a temperature different from that of the heating furnace. 3. The plurality of locations for the plurality of articles to be heated are plurality of trays having electrical connectors for connection to the plurality of semiconductor-shaped articles to be heated. The heating furnace according to item 1 or 2. 4. A third chamber similar to the second chamber is provided, and the third chamber also communicates with the heating chamber through a plurality of holes in the heat shielding layer, and is movable from the third chamber to the heating chamber. The heating furnace according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of other containers can be moved from the second chamber to the heating chamber so as to be combined with the plurality of containers. . 5. A patent in which the means for closing the plurality of holes are respective opposite end portions of the plurality of containers that close the respective holes when the container is in either the first position or the second position. A heating furnace according to any one of claims 1 to 4. 6. means for closing a plurality of apertures is provided at each end portion of the plurality of containers for closing a respective aperture when the container is in the second position; and a means for closing a respective aperture when the container is in the first position; The heating furnace according to any one of claims 1 to 5, which is a flap on a heat shielding layer that closes the heating furnace. 7. The walls of the chamber are made of bricks interlocked to define holes through which the containers can pass. The heating furnace according to any one of items 6 to 6. 8. Any one of claims 1 to 7, wherein an electrical connection is provided independently to each of the plurality of containers, and the electrical connection is maintained regardless of the position of the plurality of containers. The heating furnace according to item 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016147536A1 (en) * 2015-03-16 2016-09-22 セイコーエプソン株式会社 Electronic component transport device and electronic component inspection device

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WO2016147536A1 (en) * 2015-03-16 2016-09-22 セイコーエプソン株式会社 Electronic component transport device and electronic component inspection device
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