JPS62165795A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPS62165795A
JPS62165795A JP61006417A JP641786A JPS62165795A JP S62165795 A JPS62165795 A JP S62165795A JP 61006417 A JP61006417 A JP 61006417A JP 641786 A JP641786 A JP 641786A JP S62165795 A JPS62165795 A JP S62165795A
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signal
voltage
precharge
gate
circuit
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JP61006417A
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Nobuaki Nakai
中井 信明
Akinori Matsuo
章則 松尾
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Hitachi Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To attain high speed reading and the decision of depth of write by providing two sense amplifies of static type and dynamic type as sense amplifiers receiving a read voltage of a memory array. CONSTITUTION:A precharge MOSFET Q16 is provided to apply read operation of dynamic system to a common data line CD of a memory array M-ARY, an inverting operation mode signal uh and a precharge signal phip are fed to the gate and the FET Q16 is turned on by the signal phip only at the read by the dynamic system to precharge a data line CD. On the other hand, a reference voltage Vr from a connecting point between MOSFETs Q24 and Q23 is fed to a gate of a MOSFET Q18 and in reading the MOSFETs Q17, Q18 at the static mode, an OR signal between the precharge signal phip an the operating mode signal uh is fed to the gate of the precharge MOSFET Q24.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
FAMO3(フローティングゲート・アバランシェイン
ジェクション・絶縁ゲート電界効果トランジスタ)を記
憶素子(メモリセル)とするEFROM (エレクトリ
カリ・プログラマブル・リード・オンリー・メモリ)装
置に利用して有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, for example,
The present invention relates to a technology that is effective when used in an EFROM (Electrically Programmable Read Only Memory) device that uses FAMO3 (Floating Gate Avalanche Injection Insulated Gate Field Effect Transistor) as a storage element (memory cell).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

FAMO3(フローティング・アバランシェインジェク
ションMOS F ET)のような半導体素子を記憶素
子(メモリセル)とするEFROM装置が公知である(
例えば、特開昭54−152933号公報参照)。FA
MO3)ランジスタは、その書き込み動作によって、ゲ
ートに結合されるワード線の選択レベルに対して高いし
きい値電圧又は低いしきい値電圧を持つようにされる。
An EFROM device that uses a semiconductor element such as FAMO3 (floating avalanche injection MOS FET) as a memory element (memory cell) is known (
For example, see Japanese Unexamined Patent Publication No. 152933/1983). F.A.
The MO3) transistor is made to have a high or low threshold voltage with respect to the selection level of the word line coupled to its gate by its write operation.

すなわち、FAMO3)ランジスタは、その書き込みに
よって低いしきい値電圧から高いしきい値電圧を持つよ
うにされる。
That is, the FAMO3) transistor is changed from a low threshold voltage to a high threshold voltage by writing.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

FAMO3トランジスタのコントロールゲートが結合さ
れたワード線の選択レベルは、動作電源電圧Vccの上
昇とともに上昇する。このことを利用して書き込み量を
判定することができる。すなわち、スタティック型のセ
ンスアンプを用いた場合には、第2図に示すようにその
判定レベルVrが電源電圧Vccの上昇に追従して増大
するため、電源電圧Vccを上昇させてワード線の電位
が上記高いしきい値電圧を越えるとFAMOSトランジ
スタがオフ状態からオン状AHに切り替わることによる
読み出しレベルの逆転から間接的に判定することができ
る。これにより上記]”AMO3I・ランジスタがオフ
状態からオン状態に切り替わる電源電圧Vcc (la
x)からFAMOSトランジスタの書き込み情報量を判
定することができる。しかしながら、スタティック型の
センスアンプを用いた場合は、判定レベルVrに対して
、その読み出しハイレベルHとロウレベルLの相互間で
の信号変化量が大きくなるため、その分動作速度が遅く
なってしまう。
The selection level of the word line to which the control gate of the FAMO3 transistor is connected increases as the operating power supply voltage Vcc rises. This fact can be used to determine the amount of writing. That is, when a static type sense amplifier is used, as shown in FIG. 2, the determination level Vr increases as the power supply voltage Vcc rises, so the potential of the word line is increased by increasing the power supply voltage Vcc. This can be indirectly determined from the reversal of the read level due to the FAMOS transistor switching from the off state to the on state AH when AH exceeds the above-mentioned high threshold voltage. As a result, the power supply voltage Vcc (la
The amount of information written in the FAMOS transistor can be determined from x). However, when a static sense amplifier is used, the amount of signal change between the read high level H and low level L becomes large with respect to the judgment level Vr, so the operating speed becomes slower. .

そこで、読み出し動作の高速化のためにダイナミック型
のセンスアンプを用いることが考えられるが、この場合
には上記書き込みHの識別が不可能になってしまう。な
ぜなら、ダイナミック型のセンスアンプは、第3図に示
すように、プリチャージレベルを選択されたFAMOS
トランジスタの電流と、例えば低いしきい値電圧にされ
たFAMOSトランジスタの約半分のコンダクタンスに
されたグミ−FAMO3)ランジスタの電流によってデ
ィスチャージさせて、その差電圧を増幅するものである
。このため、第4図に示したように動作電圧を高くした
場合、高いしきい値電圧を持つようにされたFAMOS
トランジスタのオン状態によって読み出しハイレベルH
も低下するが、上記電圧上昇分に従ってダミーFAMO
3)ランジスタの電流も増加するため、上記スタティッ
ク型のセンスアンプを用いたように、動作電圧VCCの
上昇によりハイレベルの読み出しレベルがロウレベルと
判定されることがない。これによって、ダイナミック型
センスアンプを用いると、高速動作化が図られる反面、
書き込み情報量(書き込み深さ)の測定ができなくなっ
てしまうため、信頼性の点で問題が生じる。
Therefore, it is conceivable to use a dynamic sense amplifier to speed up the read operation, but in this case, it becomes impossible to identify the write H. This is because, as shown in Figure 3, the dynamic sense amplifier has a precharge level selected by the FAMOS.
The voltage difference is amplified by discharging the current of the transistor and the current of the Gummy-FAMO3) transistor, which has a conductance that is about half that of a FAMOS transistor, which has a low threshold voltage, for example. For this reason, when the operating voltage is increased as shown in Figure 4, the FAMOS has a high threshold voltage.
Read high level H depending on the on state of the transistor
However, the dummy FAMO decreases according to the above voltage increase.
3) Since the current in the transistor also increases, a high level read level is not determined to be a low level due to an increase in the operating voltage VCC, unlike when the static type sense amplifier is used. As a result, when using a dynamic sense amplifier, high-speed operation can be achieved, but on the other hand,
Since the amount of written information (writing depth) cannot be measured, a problem arises in terms of reliability.

この発明の目的は、動作の高速化と信頼性の向上を図っ
た半導体記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that operates faster and has improved reliability.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、上記メモリアレイの読み出し電圧を受けるセ
ンスアンプとして、所定の動作モード制御信号に従って
相補的に実質的な増幅動作が制御されるスタティック型
とダイナミック型の2つのセンスアンプ設けるものであ
る。
That is, two sense amplifiers, a static type and a dynamic type, whose substantial amplification operations are controlled in a complementary manner according to a predetermined operation mode control signal, are provided as sense amplifiers that receive the read voltage of the memory array.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、通常の読み出し動作のときには
、ダイナミック型のセンスアンプを動作状態にして高速
読み出しを行うことができ、データリテンション評価に
おていは、スタティック型のセンスアンプを動作させて
その書き込み深さを判定することができる。
According to the above-mentioned means, during a normal read operation, the dynamic type sense amplifier can be activated to perform high-speed reading, and in data retention evaluation, the static type sense amplifier can be activated and the readout can be performed at high speed. Writing depth can be determined.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明をEPROM装置に適用した場合
のメモリアレイ部の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of a memory array section when the present invention is applied to an EPROM device.

同図の各回路素子は、特に制限されないが、公知のCM
O3(相補型MO3)集積回路の製造技術によって、1
個の単結晶シリコンのような半導体基板上において形成
される。
Although not particularly limited, each circuit element in the figure may be a known CM.
With O3 (complementary MO3) integrated circuit manufacturing technology, 1
formed on a semiconductor substrate such as single crystal silicon.

特に制限されないが、集積回路は、単結晶P型シリコン
からなる半導体基)反に形成される。NチャンネルM 
OS F E Tは、かかる半導体Ts 板表面に形成
されたソース領域、ドレイン領域及びソース領域とドレ
イン領域との間の半導体基板表面に薄い厚さのゲート絶
縁膜を介して形成されたポリシリコンからなるようなゲ
ート電橋から構成される。PチャンネルMO3FETは
、上記半導体基板表面に形成されたN型ウェル領域に形
成される。
Although not particularly limited, the integrated circuit is formed on a semiconductor substrate made of single-crystal P-type silicon. N channel M
The OS FET is made of polysilicon formed on the surface of the semiconductor substrate with a source region and a drain region formed on the surface of the semiconductor Ts plate, and a thin gate insulating film formed on the surface of the semiconductor substrate between the source region and the drain region. It consists of a gate electric bridge that looks like this. The P-channel MO3FET is formed in an N-type well region formed on the surface of the semiconductor substrate.

これによって、半導体基板は、その上に形成された複数
のNチャンネルMOS F ETの共通の基板ゲートを
構成する。N型ウェル領域は、その上に形成されたPチ
ャンネルMOS F ETの基板ケートを構成する。P
チャンネルMOS F ETの基板ゲートすなわちN型
ウェル領域は、第1図の電源端子Vccに結合される。
Thereby, the semiconductor substrate constitutes a common substrate gate for a plurality of N-channel MOS FETs formed thereon. The N-type well region constitutes a substrate cage for the P-channel MOS FET formed thereon. P
The substrate gate of the channel MOS FET, ie, the N-type well region, is coupled to the power supply terminal Vcc of FIG.

特に制限されないが、この実施例のEFROM装置は、
図示しない外部端子から供給されるX。
Although not particularly limited, the EFROM device of this embodiment includes:
X supplied from an external terminal (not shown).

Yアドレス信号(図示せず)を受けるアドレスバッファ
を通して形成された相補アドレス信号がアドレスデコー
ダDCRに供給される。同図では、アドレスバッファと
アドレスデコーダとが同じ回路ブロックXADB −D
CR,YADB −DCRとしてそれぞれ示されている
。特に制服されないが、上記アドレスバッファXADB
、YADBは、内部チップ選択信号ceにより活性化さ
れ、外部端子からのアドレス信号を取り込み、外部端子
から供給されたアドレス信号と同相の内部アドレス信号
と逆相のアドレス信号とからなる相補アドレス信号を形
成する。
A complementary address signal formed through an address buffer receiving a Y address signal (not shown) is supplied to an address decoder DCR. In the figure, the address buffer and address decoder are in the same circuit block XADB-D.
CR, YADB-DCR, respectively. Although not particularly uniform, the above address buffer XADB
, YADB is activated by an internal chip selection signal ce, takes in an address signal from an external terminal, and generates a complementary address signal consisting of an internal address signal in phase with the address signal supplied from the external terminal and an address signal in opposite phase. Form.

アドレスデコーダDCR(X)は、その相補アドレス信
号に従ったメモリアレイM−ARYのワードbiwの選
択信号を形成する。
Address decoder DCR(X) forms a selection signal for word biw of memory array M-ARY according to its complementary address signal.

アドレスデコーダDCR(Y)は、その相補アドレス信
号に従ったメモリアレイM−ARYのデータ線りの選択
信号を形成する。
Address decoder DCR(Y) forms a selection signal for the data line of memory array M-ARY according to its complementary address signal.

上記メモリアし・イM−ARYは、代表として示されて
いる複数のFAMO3)う′ンジスタ(不揮発性メモリ
素子・・MOS F ETQ 1〜Q6)と、ワード線
Wl、W2及びデータ線D1〜()nとにより構成され
ている。メモリアレイM−ARYにおいて、同じ行に配
置されたFAMO3!−ランジスタQ1〜Q3 (Q4
〜Q6)のコントロールゲートは、それぞれ対応するワ
ード線Wl(V/2)に接続され、同じ列に配置された
FAMOSトランジスタQl、Q4〜Q3.Q6のドレ
インは、それぞれ対応するデータ線D1〜Dnに接続さ
れている。上記FAMOSトランジスタの共通ソース線
C3は、特に制限されないが、接地されている。
The above-mentioned memory array M-ARY includes a plurality of representative FAMO3) registers (non-volatile memory elements, MOS FETQ1 to Q6), word lines Wl, W2, and data lines D1 to D1. )n. In memory array M-ARY, FAMO3! arranged in the same row! - transistors Q1 to Q3 (Q4
~Q6) are connected to the corresponding word lines Wl (V/2), respectively, and the FAMOS transistors Ql, Q4~Q3 . The drains of Q6 are connected to corresponding data lines D1 to Dn, respectively. The common source line C3 of the FAMOS transistors is grounded, although not particularly limited thereto.

上記各データ線D1〜Dnは、上記アドレスデコーダD
CR(Y)によって形成された選択信号を受けるカラム
(列)選択スイッチio S F ETQ7〜Q9を介
して、共通データ&;I CDに接続される。共通デー
タ線CDには、外部端子I10から入力される書込み信
号を受ける書込み用のデータ入力回路DIBの出力端子
が接続される0以上の各MOS F ETは、Nチャン
ネルMOS F ETにより構成されている。
Each of the data lines D1 to Dn is connected to the address decoder D.
It is connected to the common data &;ICD through column selection switches ioSFETQ7-Q9 which receive the selection signal formed by CR(Y). Each of the 0 or more MOS FETs connected to the common data line CD is an output terminal of a data input circuit DIB for writing that receives a write signal input from an external terminal I10, and each of the MOS FETs is composed of an N-channel MOS FET. There is.

上記共通データill CDには、次の2つのセンスア
ンプが設けられる。その1つは、データフテンション評
価のために用いられるスタティック型のセンスアンプで
あり、次の各回路素子により構成される。また、上記共
通データ線CDには、後述するタイナミッタ方式による
読み出し動作を実現するため、プリチャージM OS 
F E T Q 16が設けられる。このM OS F
 E T Q 16のゲートには、反転の動作モートイ
3号uhとプリチャージ信号φpの論理積信号(uh・
φp)が供給される。これにより、後述するようなダイ
ナ捉・7り方式による読み出し動作の時にのみ、上記プ
リチャージMO3FETQ16は、上記プリチャージ信
号φpに従ってオン状態となり、共通データ線CDのプ
リチャージ動作を行う。
The following two sense amplifiers are provided for the common data ill CD. One of them is a static sense amplifier used for data tension evaluation, and is composed of the following circuit elements. In addition, the common data line CD is equipped with a precharge MOS in order to realize a read operation using a tie-limiter method, which will be described later.
FET Q 16 is provided. This MOS F
The gate of E T Q 16 is connected to an AND signal (uh・
φp) is supplied. As a result, the precharge MO3FET Q16 is turned on in accordance with the precharge signal φp only during a read operation using the dyna capture/seven resetting method as described later, and performs a precharge operation on the common data line CD.

上記共通データ線CDには、動作モード信号Uhによっ
て制御されるNチャンネル型のスイッチMO3FETQ
25を介してぞのソースが接続されたNナヤンネル型の
増幅MO3FETQI Lが設けられる。この増幅MO
3FETQ11のドレインとt源電圧端子Vccとの間
には、Pラーヤンネル型の負raTMos FETQl
 2が設けられる。上記負7tijMO3FE’r”Q
12ば、読み出し動作のために共通データ′#ACDに
ブリヂャージ電流を流すような動作を行う。
The common data line CD has an N-channel switch MO3FETQ controlled by the operation mode signal Uh.
An N-channel type amplifying MO3FET QIL is provided, the sources of which are connected via 25. This amplification MO
Between the drain of the 3FETQ11 and the t source voltage terminal Vcc, there is a P-ray channel type negative raTMos FETQl.
2 is provided. The above negative 7tijMO3FE'r"Q
Step 12: An operation is performed in which a bridge current is applied to the common data '#ACD for a read operation.

上記増幅MO3FETQIIの感度を高くするため、上
記スイッチMO5FETQ25を介した共通データ線C
Dの電圧は、Nチャンネル型の駆動MO3FETQ13
と1ンナヤンネル型のX (a MO3FETQL4と
からなる反転増幅回路の人力である駆動MOS F’ 
E’l’Q l 3のゲートに供給される。この反転増
幅回路の田力電圧は、上記増幅MO3FETQ11のゲ
ートに供給される。ざらに、センスアンプの非動作M間
での無駄な′瞥a流消費を防止するため、上記増幅MO
3FETQI 1のゲートと回路の接地電位点との間に
は、NチャンネルMO3FETQI 5が設けられる。
In order to increase the sensitivity of the amplification MO3FETQII, the common data line C is connected via the switch MO5FETQ25.
The voltage of D is the N-channel drive MO3FETQ13.
The drive MOS F' which is the human power of the inverting amplifier circuit consisting of
Supplied to the gate of E'l'Q l 3. The voltage of this inverting amplifier circuit is supplied to the gate of the amplifying MO3FETQ11. In general, in order to prevent wasteful consumption of current between non-operating M of the sense amplifier, the amplification MO
An N-channel MO3FET QI 5 is provided between the gate of the 3FET QI 1 and the ground potential point of the circuit.

このMO3FETQI 5と上記PチャンネルMO3F
ETQ14のゲートは、共通にセンスアンプの動作タイ
ミング制御信号πが供給される。
This MO3FETQI 5 and the above P channel MO3F
The gates of the ETQ14 are commonly supplied with the sense amplifier operation timing control signal π.

データリテンション評価モードにおいて、センスアンプ
動作タイミング信号SCはロウレベルにされ、MO3F
ETQI 4はオン状態に、MO3FETQ15はオフ
状態にされる。そして、アドレスデコーダX−DCR,
Y−DCRによって選択されたメモリセルは、書込みデ
ータに従って、ワード線選択レベルに対して高いしきい
値電圧か夕は低いしきい値電圧を持つものである。
In the data retention evaluation mode, the sense amplifier operation timing signal SC is set to low level, and the MO3F
ETQI 4 is turned on and MO3FETQ15 is turned off. and address decoder X-DCR,
The memory cell selected by Y-DCR has a threshold voltage higher or lower than the word line selection level, depending on the write data.

、】択されたメモリセルがワード線選択レベルにかかわ
らずにオフ状態にされている場合、共通データ線CDは
、MO3FETQI 2とQllからの電流供給によっ
て比較的ハイレベルにされる。
, ] If the selected memory cell is turned off regardless of the word line selection level, the common data line CD is brought to a relatively high level by the current supplied from MO3FETs QI2 and Qll.

一方、選択されたメモリセルがワード線選択レベルによ
ってオン状態にされている場合、共通データ線CDは比
較的ロウレベルにされる。
On the other hand, when the selected memory cell is turned on by the word line selection level, the common data line CD is set to a relatively low level.

なお、上記増幅用のMO3FETQI 1は、ゲート接
地型ソース入力の増幅動作を行い、その出力信号を上記
制御信号uhによって制御されるNチャンネル型のスイ
ッチMO3FETQ26を介して次の差動増幅回路に伝
えられる。
The MO3FETQI 1 for amplification performs an amplification operation of the gate-grounded source input, and transmits its output signal to the next differential amplifier circuit via the N-channel switch MO3FETQ26 controlled by the control signal uh. It will be done.

通常の読み出し動作のために用いられる他の1つは、ダ
イナミック型のセンスアンプであり、次の各回路素子に
より構成される。
The other one used for normal read operations is a dynamic sense amplifier, which is composed of the following circuit elements.

共通データ線CDの信号は、上記りJ作モートイ8号u
hの反転信号uhによって制御されるNチャンネル型の
スイッチMOS F’ ET’Q 22を介して差動M
O5FETQI 7のゲート電橋に供給される。この差
動MO5FETQ17と対をなず差動MO3FETQI
 8のゲートには、直列形態にされたダミーFAMO3
F−ランシスタQdlとQd2及びダミーのカラムスイ
ッチMO3FETQ23と、プリチャージMO5FET
Q24から構成される基準電圧発生回路に結合される。
The signal on the common data line CD is
The differential M
Supplied to the gate bridge of O5FETQI7. Differential MO3FETQI is not paired with this differential MO5FETQ17.
The dummy FAMO3 connected in series is connected to the gate of No.8.
F-run transistors Qdl and Qd2, dummy column switch MO3FETQ23, and precharge MO5FET
It is coupled to a reference voltage generation circuit composed of Q24.

すなわら、上記M OS F E T Q 18のゲー
l−には、M OS l” E TQ24とQ23の接
続点から得られる基準電圧■rが供給される。この実施
例では、上記差動MO3FETQI 7.Ql 8をス
タティックモードでの読み出し動作の時に、スタティッ
ク型の差動増幅動作を行わせるようにするため、上記プ
リチャージMO3FETQ24のゲートには、プリチャ
ージ信号φpと上記動作モード信号uhの論理和信号(
uh+φp)が供給される。
That is, the gate l- of the MOS FET Q18 is supplied with the reference voltage r obtained from the connection point of the MOS FETQ24 and Q23.In this embodiment, the differential voltage In order to cause MO3FETQI 7.Ql 8 to perform a static differential amplification operation during a read operation in static mode, the gate of the precharge MO3FET Q24 is connected to the precharge signal φp and the operation mode signal uh. OR signal (
uh+φp) is supplied.

上記差動MO3FETQI 7とQl8の共通ソースと
回路の接地電位点との間には、その動作タイミングを制
御するパワースイッチMOS F ETQ19が設けら
れる。このパワースイッチMO3FETQ19のゲート
には、センスアンプ動作タイミング信号sacが供給さ
れる。
A power switch MOS FET Q19 is provided between the common source of the differential MO3FETs QI7 and Ql8 and the ground potential point of the circuit to control the operation timing thereof. A sense amplifier operation timing signal sac is supplied to the gate of this power switch MO3FETQ19.

また、上記差動MO3FETQ17とQl 8(7)ド
レインには、特に制限されないが、電流ミラー形態にさ
れたPチャンネルMO3I”ETQ2oとQ21がアク
ティブ負荷回路として設けられるものである。
In addition, the drains of the differential MO3FETs Q17 and Ql8(7) are provided with P-channel MO3I"ETs Q2o and Q21 in a current mirror configuration as active load circuits, although this is not particularly limited.

この差動増幅回路の出力信号は、データ出力回路DOB
を介して上記外部端子I10から送出される。
The output signal of this differential amplifier circuit is the data output circuit DOB.
The signal is sent from the external terminal I10 via the external terminal I10.

制御回路C0NTは、外部端子CE、OE、PGM及び
vppに供給されるチップイネーブル信号。
The control circuit C0NT is a chip enable signal supplied to external terminals CE, OE, PGM, and vpp.

アウトプットイネーブル信号、プログラム信号及び書込
み用高電圧と、特に制限されないが、内部で作成したA
TD (アドレス信号変化検出)信号に応じて、内部制
御信号ce、7丁9丁フ、sac、uh、uh及びφp
等のタイミング信号、及びアドレスデコーダに選択的に
供給する読み出し用低電圧Vcc/書き込み用高電圧v
pp等を形成する。例えば、チップイネーブル信号CE
がロウレベルで、アウトプットイネーブル信号OEがハ
イレベルで、プログラム信号PGMがロウレベルなら、
書き込みモードとされ、上記内部信号7丁はロウレベル
にCOはハイレベルにされる。そして、アドレスデコー
ダ回路XDCR,YDCR及びデータ入力回路DIBに
は、ぞの高電圧Vl)IJが供給される。
Output enable signal, program signal, high voltage for writing, and internally generated A
In response to the TD (address signal change detection) signal, internal control signals ce, 7-9-f, sac, uh, uh and φp are activated.
timing signals such as, and low voltage for reading Vcc/high voltage for writing selectively supplied to the address decoder.
Form pp etc. For example, chip enable signal CE
is low level, output enable signal OE is high level, and program signal PGM is low level, then
The write mode is set, and the seven internal signals are set to low level and CO is set to high level. The high voltage Vl)IJ is supplied to the address decoder circuits XDCR, YDCR and the data input circuit DIB.

また、チップイネーブル信号CEがロウレベルで、アウ
トプットイネーブル信号OEがロウレベルで、プログラ
ム信号PGMがハイレベルでVl)pが書込み用高電圧
なら、ベリファイモードとされ、上記内部信号7丁とC
8はハイレベルにされる。
Also, if the chip enable signal CE is low level, the output enable signal OE is low level, the program signal PGM is high level, and Vl)p is a high voltage for writing, the verify mode is entered, and the above internal signals 7 and C
8 is set to high level.

このベリファイモードでは、各回路XDCR,YDCR
及びDrBには、その動作電圧が上記高電圧Vl’lp
から電源電圧VCCのように切り換えられて供給される
In this verify mode, each circuit XDCR, YDCR
and DrB, whose operating voltage is the above-mentioned high voltage Vl'lp.
It is switched and supplied like the power supply voltage VCC from .

さらに、チップイネーブル信号CBがロウレベルで、ア
ウトプットイネーフ゛ルイ言号OEがロウレベルで、プ
ログラム信号PGMがハイレベルでVppが読み出し用
低電圧(■ccと同じレベル)なら、読み出しモードと
され、上記内部信号マτとc。
Furthermore, if the chip enable signal CB is at low level, the output enable word OE is at low level, the program signal PGM is at high level, and Vpp is a low voltage for reading (same level as cc), the read mode is set, and the above-mentioned internal Signal ma τ and c.

はハイレベルにされる。is raised to a high level.

また、制御回路C0NTは、itt源電圧Vccが約6
■以上の高い電圧か否かを識別する電圧検出回路を含み
、上記電源電圧Vccが上記電圧より低い場合には、上
記反転のu h信号をハイレベルに非反転のuh倍信号
ロウレベルにし、高い場合には上記反転のujx(8号
をロウレベルに、非反転のUh信号をハイレベルにする
とともに、上記信号〒7をロウレベルにする。
In addition, the control circuit C0NT has an itt source voltage Vcc of about 6
(2) includes a voltage detection circuit that identifies whether or not the voltage is higher than the above, and when the power supply voltage Vcc is lower than the voltage, the inverted uh signal is set to high level and the non-inverted uh times signal is set to low level; In this case, the inverted ujx (No. 8) is set to low level, the non-inverted Uh signal is set to high level, and the signal 〒7 is set to low level.

通常の読み出し動作においては、電源電圧Vccが上述
のような高い電圧にされる事はないから、上記反転のu
h倍信号ハイレベルによってMO3FETQ22がオン
状態に、非反転のuh倍信号ロウレベルによってMO3
FETQ25及びQ2Gがオフ状態にされる。また、上
記信号7丁がハイレベルにされるため、上記スタティッ
ク型のセンスアンプは非動作状態に置かれる。
In a normal read operation, the power supply voltage Vcc is not set to a high voltage as mentioned above, so the above-mentioned inverted u
The high level of the h-fold signal turns MO3FETQ22 on, and the low level of the non-inverted uh-fold signal turns MO3FETQ22 on.
FET Q25 and Q2G are turned off. Further, since the seven signals are set to high level, the static type sense amplifier is placed in a non-operating state.

この状態においては、メモリセルの読み出しに先立って
、プリチャージ信号φpに従って共通データ線CDと基
準電圧発生回路にプリチャージがなされる。そして、選
択されたFAMO3)ランジスタがオフ状態なら、共通
データ線の電位はハイレベルにとどまり、オン状態なら
ロウレベルにディスチャージされる。これに同期して、
上記基準電圧発生回路の基準電圧Vrは、ダミーFAM
O3)ランジスタQdl、 Qd2によりディスチャー
ジがなされる。上記2つの電位差は差動MO3FETQ
17、C18の増幅動作により増幅され、データ出力回
路DOBに伝えられる。
In this state, the common data line CD and the reference voltage generation circuit are precharged in accordance with the precharge signal φp prior to reading out the memory cell. If the selected FAMO3) transistor is in an off state, the potential of the common data line remains at a high level, and if it is in an on state, it is discharged to a low level. In sync with this,
The reference voltage Vr of the reference voltage generation circuit is set to a dummy FAM.
O3) Discharge is performed by transistors Qdl and Qd2. The above two potential difference is the differential MO3FETQ
17 and C18, and is transmitted to the data output circuit DOB.

上記FAMoSトランジスタの書き込み量の評価を行う
とき、電源電圧Vccは、約6v以上のような高い電圧
にされる。これに応じて、上記反転のuh倍信号ロウレ
ベルに、非反転のuh倍信号ハイレベルにされる。これ
によってスイッチMO3FETQ22がオフ状態に、ス
イッチMO3FETQ25とC26がオン状態にされる
。また、上記反転の11 h <7’E号のロウレベル
によって、共通データ線CDに設けられたプリチャージ
MO3FETQ16はオフ状態にされる。これに対して
、基準電圧発生回路のプリチャージMOS F ETQ
24は、上記非反転のu h信号のハイレベルによって
オン状態のままにされる。これにより、基準電圧Vrは
、上記MO3FETQ24とM OS FETQ23な
いしグミ−FAMO3トランジスタのコンダクタンス比
に従った電圧にされる。
When evaluating the write amount of the FAMoS transistor, the power supply voltage Vcc is set to a high voltage of about 6 V or more. In response, the inverted uh times signal is set to low level and the non-inverted uh times signal is set to high level. As a result, the switch MO3FETQ22 is turned off, and the switches MO3FETQ25 and C26 are turned on. Moreover, the precharge MO3FET Q16 provided on the common data line CD is turned off by the above-mentioned inverted low level of 11 h <7'E. On the other hand, the precharge MOS FETQ of the reference voltage generation circuit
24 is kept on by the high level of the non-inverted uh signal. Thereby, the reference voltage Vr is set to a voltage according to the conductance ratio of the MO3FETQ24 and the MOS FETQ23 or Gummy-FAMO3 transistor.

したがって、共通データ′aCDの電位は、上記ぞMO
3FETQI L負荷MO3FETQI 3と選択され
たFAMOSトランジスタのコンダクタンス比に従って
レベルにされ、それが増幅されて上記差動増幅回路に伝
えられる。この場合、上記共通データ線CDの電位は、
上記電Bt圧Vccの上昇に伴いワード線の選択レベル
の上昇により、書き込み動作によって高いしきい値電圧
を持つようにされたFAMOSトランジスタをオフ状態
にさせる。これにより共通データ線CDの電位は上記高
くされた電′a電圧Vccの供給によってロウレベルに
低下する。このような電源電圧Vccの上昇に伴い、上
記差動増幅回路の出力が逆転したときの電源電圧VCC
から1. F AMOS )ランジスタの書き込み深さ
、言い換えるならば、高くされたしきい値電圧を判定す
ることができる。
Therefore, the potential of the common data 'aCD is MO
The level is set according to the conductance ratio of the 3FETQI L load MO3FETQI 3 and the selected FAMOS transistor, and the level is amplified and transmitted to the differential amplifier circuit. In this case, the potential of the common data line CD is
As the voltage Bt voltage Vcc rises, the selection level of the word line rises, thereby turning off the FAMOS transistor which has been made to have a high threshold voltage by the write operation. As a result, the potential of the common data line CD is lowered to a low level by the supply of the increased voltage 'a' Vcc. With such an increase in the power supply voltage Vcc, the power supply voltage VCC when the output of the differential amplifier circuit is reversed.
From 1. The writing depth of the F AMOS ) transistor, in other words the increased threshold voltage, can be determined.

上記した実施例から得られる作用効果は、以下の通りで
ある。すなわち、 (1)スタティック方式のセンスアンプとダイナミック
方式のセンスアンプを設けて、通常の読み出し動作の時
に、ダイナミック方式でのセンス動作を行わせることに
よって高速読み出しが可能になり、書き込み評価のとき
にはスタティック方式のセンス動作によって書き込み量
を判定することができるという効果が得られる。
The effects obtained from the above embodiments are as follows. In other words, (1) High-speed reading is possible by providing a static sense amplifier and a dynamic sense amplifier to perform a dynamic sensing operation during normal read operations, and using static sense amplifiers during write evaluation. The effect is that the amount of writing can be determined by the sense operation of the method.

(2)差動増幅回路の基準電圧発生回路のプリチャージ
MOS F ETをスタティック方式のセンス動作の時
に定常的にオン状態にして負荷MO9FETとして動作
させることにより、ダイナミック方式とスタティック方
式の再動作に利用できる。これによって、上記2つの機
能を持たせつつ、回路の筒素化を図ることができるとい
う効果が得られる。
(2) By keeping the precharge MOS FET of the reference voltage generation circuit of the differential amplifier circuit in the on state during static sensing operation and operating it as a load MO9FET, it is possible to re-operate the dynamic and static sensing methods. Available. This provides the effect that the circuit can be made into a cylindrical element while providing the above two functions.

(3)電源電圧Vccの電圧レベルを検出して、上記ス
タティック方式とダイナミック方式のセンス動作を切り
換えることによって、外部端子数を増加させることなく
、自動的に通常読み出しと、書き込み評価を行うことが
できるという効果が得られる。
(3) By detecting the voltage level of the power supply voltage Vcc and switching between the static and dynamic sensing operations described above, normal reading and writing evaluation can be performed automatically without increasing the number of external terminals. You can get the effect that you can.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図におい
て、増幅MO3FETQIIの出力信号をCMOSイン
バータ回路に供給して、そのロジックスレッショルド電
圧を利用して、ハイレベル/ロウレベルの判定を行うも
のとてもよい。この場合には、上記CMOSインバータ
回路の出力信号を前記信号uhに従ってって選択的に上
記データ出力回路DOBに伝えるようにすればよい。ま
た、上記センス方式のコめ換えは、外部端子から供給さ
れる制御信号の組み合わせから形成するもの、あるいは
独立した制御用端子を設けるものとしてもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, in FIG. 1, it is preferable to supply the output signal of the amplified MO3FET QII to the CMOS inverter circuit and use its logic threshold voltage to determine high level/low level. In this case, the output signal of the CMOS inverter circuit may be selectively transmitted to the data output circuit DOB according to the signal uh. Further, the above-mentioned sense type replacement may be formed from a combination of control signals supplied from external terminals, or may be formed by providing an independent control terminal.

さらに、複数ピントからなる記憶データを並列的に書込
み/読み出すEPROM装置にあっては、上記第1図の
メモリアレイM−ARYとセンスアンプ及びデータ出カ
バソファ及びデータ人力(ツファ等を複数個設けること
によって構成できる。
Furthermore, in an EPROM device that writes/reads memory data consisting of multiple points in parallel, it is necessary to provide the memory array M-ARY shown in FIG. It can be configured by

以上の説明では主として本願発明者によってなされた発
明をその背景となった技術分野であるEPROM装置に
適用した場合について説明したが、それに限定されるも
のではなく、その記憶情報に従った比較的高いしきい値
電圧又は低いしきい値電圧を持つようにされた記憶素子
を用いたもの、例えばマスクROM、MNOS (メタ
ル・ナイトライド・オキサイド・セミコンダクタ)のよ
うな記憶素子を用いたE E P P、 OM等の半導
体記憶装置にも同様に利用でき、これらの記憶回路は、
1チツプのマイクロコンピュータ等のディジタル集積回
路に内蔵されるものであってもよい。
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application was mainly applied to an EPROM device, which is the background technical field, but the invention is not limited to this, and the relatively high E E P P using a memory element that has a threshold voltage or a low threshold voltage, such as a mask ROM or a memory element such as MNOS (Metal Nitride Oxide Semiconductor) , OM, and other semiconductor memory devices, and these memory circuits are
It may be built into a digital integrated circuit such as a one-chip microcomputer.

〔発明の効尿〕[Efficacy of invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果−’c’ a単に説明すれば、下記の通
りである。すなわち、スタティック方式とダイナミック
方式の2つのセンスアンプを設けて、ダイナミック方式
により通常読み出しの高速化を実現でき、スタティック
方式により占き込み量の評価を行うことができる。
Effects obtained by typical inventions disclosed in the present application -'c' a A simple explanation will be as follows. That is, by providing two sense amplifiers of a static type and a dynamic type, the dynamic type can realize high-speed normal readout, and the static type can evaluate the amount of prediction.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明が適用されたEPROM装置の一実
施例を示す回路図、 第2図は、スタティック方式によるセンス動作を説明す
るための電圧特性図、 第3図は、通常動作電圧のもとでのダイナミック方式に
よるセンスアンプの動作を説明するための動作波形図 第4図は、高電圧動作のもとてのダイナミック方式によ
るセンスアンプの動作を説明するための動作波形図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of an EPROM device to which the present invention is applied, FIG. 2 is a voltage characteristic diagram for explaining sensing operation using the static method, and FIG. 3 is a diagram of normal operating voltage. An operation waveform diagram for explaining the operation of the sense amplifier according to the original dynamic method. FIG. 4 is an operation waveform diagram for explaining the operation of the sense amplifier according to the original dynamic method of high voltage operation.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、記憶情報に従ってゲートに結合されるワード線の選
択レベルに対して高いしきい値電圧又は低いしきい値電
圧を持つようにされた記憶素子がマトリックス配置され
て構成されたメモリアレイと、上記メモリアレイの読み
出し電圧を受け、所定の動作モード制御信号に従って相
補的に実質的な増幅動作が制御されるスタティック型と
ダイナミック型の2つのセンスアンプを含むことを特徴
とする半導体記憶装置。 2、上記メモリアレイを構成する記憶素子は、FAMO
Sトランジスタであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A memory element configured in a matrix arrangement, which has a threshold voltage higher or lower than a selected level of a word line coupled to a gate according to stored information. and two sense amplifiers, a static type and a dynamic type, whose substantial amplification operations are complementarily controlled in accordance with a predetermined operation mode control signal in response to the read voltage of the memory array. Semiconductor storage device. 2. The memory elements constituting the memory array are FAMO
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is an S transistor.
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