JPS62163386A - Point-scribing device for laser diode - Google Patents

Point-scribing device for laser diode

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JPS62163386A
JPS62163386A JP61006020A JP602086A JPS62163386A JP S62163386 A JPS62163386 A JP S62163386A JP 61006020 A JP61006020 A JP 61006020A JP 602086 A JP602086 A JP 602086A JP S62163386 A JPS62163386 A JP S62163386A
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JP
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cutter
compound semiconductor
predetermined
prescribed
speed
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Japanese (ja)
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Inventor
Masanobu Yae
正信 八江
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DAITO SEIKI KOGYO KK
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DAITO SEIKI KOGYO KK
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Abstract

PURPOSE:To enable the accurate making of a boat-shaped, point-like cut which is short and enables the accurate setting of the direction of split, by providing a table supporting a flat-plate-shaped compound semiconductor for a laser diode and sliding horizontally and a cutter head having a cutter in the force end and moving vertically, and by other means. CONSTITUTION:A table 19 supporting a flat-plate-shaped compound semiconductor for a laser diode and sliding horizontally and a cutter head 20 having a cutter 21 in the fore end and moving vertically are provided. Moreover, the device is designed to have a function to lower the cutter 21 to a prescribed height above the compound semiconductor, a function to make the table 19 slide relatively to the cutter 21 by a prescribed distance at a prescribed scribing speed after the cutter 21 lowers to the prescribed height, and a function to lower the cutter 21 at a prescribed speed with the sliding of the table 19, to hold the cutter 21 at a prescribed depth in the compound semiconductor after the cutter 21 is lowered at the prescribed speed, and to make the cutter 21 rise at a prescribed speed after it is held at the prescribed depth in the compound semiconductor.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明のtie Illへ説明 〈産業上の利用分野) 本発明は、男間作業を行なうため、平板状のレーザーダ
イオード用化合物半導体に傷入れを行なうポイントスク
ライブ装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] 3. Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a point scribing device for making scratches on a flat compound semiconductor for laser diodes in order to carry out manual labor. .

(従来の技術) 従来、シリコンウェハーを所定サイズのチップに割る装
置が知られている。その装置では、シリコンウェハーの
表面に引目状に傷をつ()、当該升11状の(勘に沿っ
て割りチップに1−る、所謂フルスクライブ作業をする
ようになっている。
(Prior Art) Conventionally, an apparatus for cutting a silicon wafer into chips of a predetermined size is known. This device performs a so-called full scribing operation, in which the surface of a silicon wafer is scratched in the form of marks, and the chips are divided into 11 squares according to intuition.

一方、レーク“−ダイオードは250μ角程度の大きさ
であり、1 cm角、厚さ100μ程度の大きさを有す
る′1i板状の化合物半導体を襞間作業にJ、り割るこ
とにJ:って111られる。レーザーダイオードは割ら
れた男聞面からレーザーを介づるため、襞聞面の形状が
Fjに重要である。
On the other hand, the rake diode is approximately 250 μ square in size, and it is necessary to cut a plate-shaped compound semiconductor of approximately 1 cm square and 100 μ in thickness for interfold work. The shape of the fold surface is important for Fj because the laser diode transmits the laser from the broken penis surface.

(発明が解決しようとする問題点) 」−記従来の装置では、ワークの表面に引目状に傷をつ
ける構成となっている。従ってその構成を、男聞面を出
しつつ所定サイズに割ってレーリ゛グイA−ドを1!す
る見聞作業に採用すれば、つけられた傷に、J:って見
聞面が綺麗にでないといつ間fn点を残すことになる。
(Problems to be Solved by the Invention) - The conventional apparatus is configured to scratch the surface of the workpiece in a line-like manner. Therefore, we divided the configuration into a predetermined size while exposing the male side and made the ray guide A-code 1! If you use it for inspection work, you will end up leaving fn points on the scratches you make unless the inspection surface is clean.

又、上記装置−C−は、直線状の比較的長い傷をっりる
のに適しているが、短くしかし割れる方向を正確に定め
ることのでさる傷を精密につ【プることかできない。従
ってその構成を別間作業に採用しても、所定の見聞面を
的確にたりことができず、製品の歩留りが極端に恕くな
るという問題点を残づことになる。
Further, although the above device -C- is suitable for cutting relatively long linear scratches, it is not possible to precisely cut short scratches by precisely determining the direction of cracking. Therefore, even if this configuration is adopted for separate work, the problem remains that a predetermined viewing surface cannot be accurately obtained, and the yield of products is extremely low.

本R明は、上記問題点を解決しJ:うとづるものである
The present invention is intended to solve the above problems.

(問題点を解決するための手段) 平板状のレーザーダイオード用化合物半導体を載せ、水
5pにスライドするテーブルと:先端部にカッターを有
し、上1・に移4す」りるカッターヘッドと二カッター
を化合物半導体上所定高さまで下降させる機能と;カッ
ターが上記所定高ざまで下降した後に、所定のスクライ
ブスピードで所定距11111だ1ノデーブルをカッタ
ーに対し相対的にスライドさせる機能と;テーブルのス
ライドとともに、カッターを所定スクライブスピードで
下降さけ、カッターを所定スクライブスピードて゛下降
させた後にカッターを化合物半導体内の所定深さに保持
し、カッターを化合物半導体内の所定深さに保ト!すし
た後にカッターを所定スクライブスピードで」:冒させ
る機能とを右J°ることを特徴どするレーザーダイオー
ド用ポイントスクライブ装置である。
(Means for solving the problem) A table on which a flat compound semiconductor for a laser diode is placed and slid into water 5: A cutter head having a cutter at the tip and moving to the top 4. A function to lower the cutter to a predetermined height above the compound semiconductor; a function to slide the cutter relative to the cutter by a predetermined distance at a predetermined scribing speed after the cutter has descended to the predetermined height; Along with the slide, the cutter is lowered at a predetermined scribing speed, and after the cutter is lowered at a predetermined scribing speed, the cutter is held at a predetermined depth within the compound semiconductor, and the cutter is maintained at a predetermined depth within the compound semiconductor! This is a point scribing device for a laser diode, which is characterized by a function of moving the cutter at a predetermined scribing speed after scouring.

(作用) まずテーブルに、平板状のレーザーダイオード用化合物
半導体を載せる。次に、カッターヘッドに取付けられた
カッターを化合物半導体上所定高さまで下降させた後に
、所定のスクライブスピードで所定距離だけテーブルを
カッターに対し相対的にスライドさけ“る。 テーブル
のスライドとともに、カッターを所定スクライブスピー
ドで下降させ、次にカッターを化合物半導体内の所定深
さに保持し、続いてカッターを所定スクライブスピード
で上!?I′、させる。
(Function) First, a flat compound semiconductor for a laser diode is placed on a table. Next, after lowering the cutter attached to the cutter head to a predetermined height above the compound semiconductor, the table is slid relative to the cutter by a predetermined distance at a predetermined scribing speed.As the table slides, the cutter is The cutter is lowered at a predetermined scribing speed, the cutter is held at a predetermined depth within the compound semiconductor, and then the cutter is raised at a predetermined scribe speed.

これによって、化合物半導体上に、化合物半導体を直線
状に割って所定のり3開面を得るのに適した船形の傷が
形成される。
As a result, a ship-shaped flaw suitable for linearly dividing the compound semiconductor to obtain a predetermined three-way cut surface is formed on the compound semiconductor.

(実施例) 本光明によるポイントスクライブ装置の外観を示づ第2
図において、組状の架台11の下部にはCI” Uや七
−タドライバーを右するコントロールボックス12が設
けられでいる。架台11には装71木休13が載置され
、史に装四本(413を制御づ゛るための数値を人力し
又装置本体13をコントロールするためのキーボードボ
ックス14、スティックコントローラーボックス15及
びモニター16が載置されている。
(Example) The second example shows the appearance of the point scribing device according to Komei.
In the figure, a control box 12 is provided at the bottom of a set of pedestals 11 to control the CI'' U and a seven-point driver. A keyboard box 14, a stick controller box 15, and a monitor 16 for manually inputting numerical values to control the book (413) and for controlling the main body 13 of the apparatus are placed.

第3図に示づように、装置本体133の後部には支1・
tデープル17が固定されてJ3す、支持テーブル17
には作業者が覗く顕微鏡18が上1ζ・前後・左右に移
動可能の状態で支持さ机ている。顕微鏡18として【5
11り1えば5〜’I OOfnの双眼ズーム式実体!
A微鏡が用いられる。装置5°本体13の前部上面に(
はテーブル19が配置されてJ3す、デープル゛1℃)
の上方に顕微m18が配置されている。装置本体13の
後部にはカッターヘッド20の塁部が支持されており、
カッターヘッド20の先端部に取(4Jけられたカッタ
ー21がテーブル19の上方に配置されている。
As shown in FIG.
T-taple 17 is fixed to J3, support table 17
A microscope 18 through which the worker looks is supported on a desk so that it can be moved upwards, backwards and forwards, and left and right. As a microscope 18 [5
11ri1e5~'IOOfn's binocular zoom entity!
A microscope is used. 5 degrees on the front upper surface of the main body 13 (
The table 19 is placed at J3, and the table is 1°C.
A microscope m18 is placed above. A base portion of a cutter head 20 is supported at the rear of the device main body 13,
A cutter 21, which has been cut by 4J at the tip of the cutter head 20, is placed above the table 19.

装置本体13の内部構造の概略である第1図に示1よう
に、ベース25に載置されたデープル19はテーブルガ
イド26とそれにガイドされてX軸方向(矢印X方向)
に移動するX軸デープル27とを有し、X@テーブル2
7はX 411用パルスモータ28によって駆動制御さ
れるようになっている。X軸テーブル27にはデープル
ガイド29が載置されており、テーブルガイド29には
それにガイドされてY軸方向く矢印Y方向)に移動スる
Y軸デープル30が1■合し、Y軸テーブル30はY軸
用パルスモータ31によって駆動制御されるようになっ
ている。Y軸デープル30にはθ7’ −プル32が載
置されており、θデープル32は図示しないθ方向用パ
ルス七−りにJ:って縦軸(Z軸)回りθ方向に回転制
御されるJ:うになっている。又、0テーブル32の上
端面は水平に形成されている。なお図示しないが、θテ
ーブル32の−り端面には小孔が多数形成されており、
その小孔には0デープル32の内部を通じて減圧別横が
連結されている。即らθテーブル32の上端面はバキュ
ーム吸6を行なう薇能を有している。
As shown in FIG. 1, which is a schematic diagram of the internal structure of the device main body 13, the daple 19 placed on the base 25 is guided by the table guide 26 in the X-axis direction (arrow X direction).
It has an X-axis table 27 that moves to
7 is driven and controlled by a pulse motor 28 for X411. A daple guide 29 is placed on the X-axis table 27, and a Y-axis daple 30 that is guided by the table guide 29 and moves in the Y-axis direction (direction of arrow Y) is aligned with the Y-axis daple guide 29. The table 30 is driven and controlled by a Y-axis pulse motor 31. A θ7'-pull 32 is placed on the Y-axis daple 30, and the θ daple 32 is controlled to rotate around the vertical axis (Z-axis) in the θ direction by a θ direction pulse (not shown). J: The sea urchin is turning. Further, the upper end surface of the 0 table 32 is formed horizontally. Although not shown, a large number of small holes are formed on the curved end surface of the θ table 32.
A vacuum chamber is connected to the small hole through the inside of the zero double 32. That is, the upper end surface of the θ table 32 has the ability to perform vacuum suction 6.

一方、カッターヘッド20はθテーブル32の半径方向
に延在しており、カッターヘッド20に固定されたカッ
ター21はθテーブル32の上方に配置されている。カ
ッターヘッド20の基部はX方向と平行に延在する支持
@35の中間部に半径方向に突出づ−る姿勢で固定され
ている。支持軸35の両端部は、ベース25に下端が固
定された1対のサポータ36の上部に回動自在に支持さ
れている。一方のサポータ36からX方向に突出する支
持lll1l135の部分には、上下方向に延在するZ
軸出アーム37の上部側面が連結されており、Z軸出ア
ーム37がY方向に移動すればそれに応じて支持軸35
が回動するようになっている。Z軸出アーム37の下端
部はY方向に延在するボールねじ3Bに螺着しており、
ボールねじ38の回転によって7軸用アーム374J 
Y方向にスライドするJ:うになっている。ボールねじ
333の一端にt、17軸用パルスし一タ39の駆動軸
が連結されてa3す、これによってボールねじ38が回
転制御211されるようになっている。なお、このリン
ク機構によって、Z軸出アーム37のY方向の移!l1
IJ量とカッターヘッド20に取付けられたカッター2
1の先端部の7方向の移動ね1が1:1に対応するよう
になっている。
On the other hand, the cutter head 20 extends in the radial direction of the θ table 32, and the cutter 21 fixed to the cutter head 20 is arranged above the θ table 32. The base of the cutter head 20 is fixed to an intermediate portion of a support @35 extending parallel to the X direction in a radially protruding posture. Both ends of the support shaft 35 are rotatably supported on the upper portions of a pair of supporters 36 whose lower ends are fixed to the base 25. A portion of the support lll1l135 that protrudes from one supporter 36 in the X direction has a Z
The upper side surface of the axis arm 37 is connected, and when the Z axis arm 37 moves in the Y direction, the support shaft 35
is designed to rotate. The lower end of the Z-axis arm 37 is screwed onto a ball screw 3B extending in the Y direction.
The 7-axis arm 374J is rotated by the rotation of the ball screw 38.
Slide in the Y direction J: It is turned. The drive shaft of the 17-axis pulse generator 39 is connected to one end of the ball screw 333, a3, so that the rotation of the ball screw 38 is controlled 211. Note that this link mechanism allows the Z-axis arm 37 to move in the Y direction! l1
IJ amount and cutter 2 attached to cutter head 20
The seven directions of movement of the tip of the tip 1 correspond to each other in a 1:1 ratio.

第4図に示すように、カッターヘッド20は主としてカ
ッターヘッド本体40とカッターヘッド本体40から先
方に突出覆るアーム41とから形成されている。アーム
41の基部はカッターヘッド本体40内においてX方向
の軸回り回動自在にカッターヘッド本体40に支持され
てJ3す、図示しないスプリングによって常「4下方に
弾性的に(;J勢されている。アーム41に対づるスプ
リングの付勢力はばね調整つまみ42を手で回動させる
ことによって変更調節できるJ:うになっている。化合
物半導体のスクライビング作業においては、カッター2
1の先端で5〜350程度、より好ましくは約209の
前用となるようにスプリングの付勢力が設定される。概
ねY方向に突出するアーム41の先端部には概ね下方に
向けてカッタ=21が保持されている。カッター21は
アーム41の先端側部に設c)られた角度調整つまみ4
3を緩めることによってX方向の軸回りに回動可能とな
り、作f:fiが手で操作してカッター21の方向を変
更調節できるようになっている。又、アーム41の先端
側部に設【プられたカッター脱着つまみ44を緩めるこ
とによってカッター21の保持を解くことかでき、これ
によってカッター21の取替えができる。
As shown in FIG. 4, the cutter head 20 is mainly formed of a cutter head body 40 and an arm 41 that protrudes forward from the cutter head body 40 and covers it. The base of the arm 41 is supported by the cutter head body 40 so as to be rotatable around an axis in the X direction within the cutter head body 40, and is always elastically biased downward by a spring (not shown). The biasing force of the spring against the arm 41 can be changed and adjusted by manually rotating the spring adjustment knob 42.In the scribing work of compound semiconductors, the cutter 2
The biasing force of the spring is set so that the front end of the spring has a force of about 5 to 350, more preferably about 209. A cutter 21 is held at the distal end of the arm 41, which protrudes generally in the Y direction, and is directed generally downward. The cutter 21 has an angle adjustment knob 4 installed c) on the side of the tip of the arm 41.
By loosening 3, it becomes possible to rotate around the axis in the X direction, and the direction of the cutter 21 can be changed and adjusted by manually operating the cutter 21. In addition, the cutter 21 can be released from the hold by loosening a cutter removal knob 44 provided on the side of the tip end of the arm 41, thereby allowing the cutter 21 to be replaced.

カッター21としては、例えば3ポイント式のダイヤモ
ンドカッターが用いられる。カッター21は棒状かつ慨
ね円柱状の部材であり、下端部が161心の円鉗状に尖
っている。更に第5図に示ηJ:うに、カッター21の
下端は三角♀11状にはつられており、スクライブ作業
にはその3つのコーナー45の内のいずれか1つを使用
するJ:うになっている。
As the cutter 21, for example, a three-point diamond cutter is used. The cutter 21 is a rod-like and generally cylindrical member, and the lower end thereof is sharpened in the shape of a 161-center circular hook. Furthermore, as shown in FIG. .

次に作動を説明づる。Next, I will explain the operation.

最初に、スクライビング作業を行なうのに必鮫なデータ
の設定を行なう。第1図のX@テーブル27の移動スピ
ード(1)、移動ステップ幅(2)及びステップ回数(
3)を決め、Y軸テーブル30の移動スピード(4)、
移動ステップ幅(b)及びステップ回85[(6)を決
め、Y軸テーブル30のスクライブ時の移動良さ即ち(
Uの長さ(7)及びスクライブ時のスピード(8)を決
め、カッター21の上下スピード(9)、カッター21
の所定高さからの下降距頗即ち(セの深さく10)を決
める。決定されたこれらの値を第2図のキーボードボッ
クス14を用いて入力する。
First, set up the necessary data to perform the scribing work. The moving speed (1), moving step width (2), and number of steps (
3), and the moving speed of the Y-axis table 30 (4).
Determine the movement step width (b) and the step number 85 [(6), and determine the movement quality of the Y-axis table 30 during scribing, that is, (
Determine the length of U (7) and the speed when scribing (8), and set the vertical speed of the cutter 21 (9) and the cutter 21.
Determine the distance of descent from a predetermined height, that is, the depth of 10 cm. These determined values are input using the keyboard box 14 in FIG.

データの入力が済めば、顕微鏡18(第2図〉の接眼レ
ンズに描かれたクロスラインと(U入れ開始位置とを合
せる作業を行なう。ワークを第1図のOテーブル32上
に置きバキューム吸6によって固定する。ワークには例
えば250μ角のレーザーダイオードを作成1”るため
に予めパターンがつけられており、ワーク全体の大ぎさ
は例えば1cm角、厚さ100μである。スう′イック
コントローラーボックス15(第2図)に設りられたス
ティックを作i古が千て゛操作しスティックコントロー
ルによって、ワークを顕微vL18の視野内にいれる。
After inputting the data, align the cross line drawn on the eyepiece of the microscope 18 (Fig. 2) with the (U insertion start position). Place the workpiece on the O table 32 shown in Fig. 1 and apply vacuum suction. 6.The workpiece has a pattern in advance to create a 250μ square laser diode, for example, and the overall size of the workpiece is, for example, 1cm square and 100μ thick.Swik controller The stick installed in the box 15 (Fig. 2) is operated repeatedly, and the workpiece is brought into the field of view of the microscope VL18 using the stick control.

叉、θテーブル32をθ方向に回して、ワークの辺をX
方向とY方向に向ける。
Then, rotate the θ table 32 in the θ direction to align the side of the workpiece with
direction and Y direction.

ワークのセラi−が流めば、後述するh法と同様にして
(セ入れを1回だ1)行なう。入った傷を目印として顕
微鏡18を移動させるとともに顕微鏡18の接眼レンズ
を回し、(セをY方向のクロスラインに合致させるとと
b(、:傷の一端をクロスラインの交点に一致させる。
Once the work piece I- has flowed, it is carried out in the same way as the method h described later (one insertion is required). Using the scratch as a guide, move the microscope 18 and turn the eyepiece of the microscope 18 to align (C) with the cross line in the Y direction, and (b), align one end of the scratch with the intersection of the cross lines.

確認のため、X軸テーブル27を1移vノスjッグ幅(
2)だ(プ移動さV1再び(セ入れを1回(jなう。新
たに入った傷が顕微鏡18のり[1スライン上に来ると
ともにその傷の一端が交点に一致していれば顕微鏡18
のクロスラインと傷入れ開始位置とが一致したことにな
る。
For confirmation, move the X-axis table 27 once and adjust the width (
2) (move V1 again) (set once again (J Now. If the newly entered scratch is on the microscope 18 glue [1 line and one end of the scratch coincides with the intersection point, the microscope 18
This means that the cross line and the scratch starting position coincide.

なお、このクロスラインと傷入れ開始位置とを合せる作
業は、カッター21の角度と良さを変える度に行なう必
シンがある。
Note that the work of aligning this cross line with the scratching start position must be performed every time the angle and quality of the cutter 21 is changed.

次に、−F記入ツノデータに基づいてスクライブ作業を
自+JJ的に行なう。その基本的な(カのへ11置を第
6図に示づ一0第6図によjいて、Wはワーク、Sはワ
ークW(I)表面につけられた(bをあられしてJ5つ
、()内の数字は」−記人力データに対応している。
Next, a scribing operation is performed in a self+JJ manner based on the -F entry horn data. Its basic (11 positions are shown in Figure 6). According to Figure 6, W is the workpiece and S is the surface of the workpiece W (I). , The numbers in parentheses correspond to the ``-reporter ability data.''

例えば左−ヒ端の傷Sからつけるものとする。傷Sの長
さはデータ(7)により、具体的にはYIIIIll用
パルス[−夕31によるY軸デープル30の移動間によ
って決まる。1木のtb sがつけば、データ(2)に
基づいてワークWをX方向に1ステツプ移動さ「、続い
てデータ(7)の長さだけの傷Sをつける。ワークWの
X方向への移動スピードはデータ(1)により、具体的
にはX軸用パルスモー928によるX軸デープル27の
移動スピードによって決まる。
For example, it is assumed that the wound is made starting from the scratch S at the left end. The length of the scratch S is determined by the data (7), specifically, by the movement interval of the Y-axis daple 30 by the YIIIll pulse 31. When the tb s of 1 tree is attached, move the workpiece W one step in the X direction based on data (2), then make a scratch S equal to the length of data (7).Move the workpiece W in the X direction. The moving speed is determined by data (1), specifically, the moving speed of the X-axis daple 27 by the X-axis pulse mode 928.

データ(3)の回数だけX方向に所定本数の傷Sをつけ
れば、データ(5)に基づいてY方向に所定間隔を隔て
、次のC3をつけて行く。Y方向の移動スピードはデー
タ(4)に基づき、具体的にはY軸出パルスモータ31
によるY軸テーブル30の移動スピードによって決まる
。ここでも、データ(1)、(2)、(3)、(7)に
基づいて18 Sを所定間隔に所定本数つける。この動
作をデータ(6)に基づく回数だ【プ繰返「ば、1つの
ワークWでのスクライビングが終了する。
Once a predetermined number of scratches S are made in the X direction as many times as data (3), the next C3 is made at a predetermined interval in the Y direction based on data (5). The moving speed in the Y direction is based on data (4), specifically, the Y-axis output pulse motor 31
It is determined by the moving speed of the Y-axis table 30. Also here, a predetermined number of 18S is applied at predetermined intervals based on data (1), (2), (3), and (7). If this operation is repeated for the number of times based on data (6), scribing on one workpiece W is completed.

古傷Sは第7図に示すようにつりられる。第7図におい
て、■がカッター21の原点位置である。
The old wound S is hung as shown in Figure 7. In FIG. 7, ■ is the origin position of the cutter 21.

まずカッター21は■の位置まで下降づ”る。この上下
動はZ軸用パルス1−夕39によるボールねじ38の回
転によって行なわれる。次にワークWに対しカッター2
1をY方向に相対移動さゼる。
First, the cutter 21 descends to the position (■). This vertical movement is performed by the rotation of the ball screw 38 by the Z-axis pulse 1-39. Next, the cutter 21
1 in the Y direction.

この移動はY軸出パルス七−夕31ににるY輔テーブル
30のY方向の移動によって行なわれ、移動スピードC
よデータ(/I)に基づいている。又、この移動場は、
顕微鏡18の視野を確保するために設りられるオフセッ
トfjtに対応している。このAフレッ1〜は、カッタ
ー21によって顕微鏡18の7只野が遮られ、(婁Sの
状r思を剣1微8尭18で作業名が確認できなくなるの
を防ぐものである。
This movement is performed by moving the Y table 30 in the Y direction at the Y axis output pulse tanabata 31, and the movement speed C
Based on yo data (/I). Also, this moving place is
This corresponds to the offset fjt provided to ensure the field of view of the microscope 18. This A-fret 1~ is to prevent the seven fields of the microscope 18 from being blocked by the cutter 21, and from being unable to confirm the name of the work with the sword 1, 8, and 18.

■の位置からカッター21は更に下方に移動させられる
。その時の移動スピードはデータ(9)に基づくもので
あり、■から0間でのスピードよりらはるかに遅い。ワ
ークWの上端面J:りある所定の高さく例えば150μ
の高さ)である■の位置にカッター21が来れば、Y 
itテーブル30によってワークW /fi Y方向に
データ(8)のスピードで移動を開始する。その結果、
ワークWに対しカッター21は■の位置から■の位置に
相対的に移動することになる。その時のデータ(8)に
基づく移動スピードは、データ(4)よりもはるかに遅
い。■から■までのカッター21の下降距離はデータ(
10)に基づいている。
The cutter 21 is moved further downward from the position (2). The moving speed at that time is based on data (9), and is much slower than the speed between ■ and 0. Upper end surface J of workpiece W: A certain height, for example, 150μ
When the cutter 21 comes to the position ■, which is the height of
According to the IT table 30, the workpiece W/fi starts moving in the Y direction at the speed of data (8). the result,
The cutter 21 moves relative to the workpiece W from the position ■ to the position ■. The movement speed based on data (8) at that time is much slower than data (4). The descending distance of the cutter 21 from ■ to ■ is the data (
10).

■の位置にカッター21がt、11達するとカッター2
1は一定の深さの位置に保持されるので、それ以(Uは
ワークWには一定深さの(I Sがつりられる。
When the cutter 21 reaches the position t, 11, the cutter 2
1 is held at a constant depth, from then on (U is suspended from work W at a constant depth (IS).

カッター21が■の位置に到達してからデータ(7)に
基づく艮ざだけワークWが送られ工、■の位置にカッタ
ー21が相対的に来れば、次にカックー21 L;L上
方に移動さけられる。その時の移動スピードはデーり(
9)に基づく。データ(10)に基づく距離だけカッタ
ー21が上背して■のlff1置に来れば、ワークWの
Y方向の移動は停止する。それ以後はカッター21の上
y?のみが行なわれて、カッター21は■の位置に来る
。■の位置からデータ(4)に基づくスピードでワーク
Wが移動して、カッター21は相対的に■の位置に戻り
、更にカッター21は上方に移動して■の原点に戻る。
After the cutter 21 reaches the position ■, the workpiece W is fed by the cutting edge based on the data (7), and when the cutter 21 relatively comes to the position ■, the next time the cutter 21 moves upward L; I can be yelled at. The movement speed at that time is day (
Based on 9). When the cutter 21 turns upward by a distance based on data (10) and comes to the lff1 position of ■, the movement of the workpiece W in the Y direction stops. After that, cutter 21 upper y? After this, the cutter 21 comes to the position (■). The workpiece W moves from the position (2) at a speed based on the data (4), and the cutter 21 relatively returns to the position (2).The cutter 21 further moves upward and returns to the origin (2).

即ち、カッター21は傷Sに対してオフセットされた位
置に戻り、顕微鏡18の視野が確保される。
That is, the cutter 21 returns to a position offset from the scratch S, and the field of view of the microscope 18 is secured.

その結果19られるWSの形状は第8図に示すような船
形どイ≧る。別間作業の際には、この船形の先端部の延
長方向直線状にワークWは割れる。傷Sの良さは30〜
250μ程度、幅は7〜8μ程度、深さは14〜16μ
Pi1度である。実間作業が済んだ1個のレーザーダイ
オードの大きざは250μ角であり、そこにボンダーで
配線しモールドして製品ができあがる。
The shape of the WS obtained as a result is a ship shape as shown in FIG. During the separation work, the workpiece W is broken in a straight line in the extending direction of the tip of the boat shape. The quality of scratch S is 30~
Approximately 250μ, width approximately 7-8μ, depth 14-16μ
Pi is 1 degree. The size of one laser diode after actual work is 250μ square, and the product is completed by wiring with a bonder and molding.

なお、実際のスクライブ作業では、一度にワ−りWの仝
而に縦横に傷Sを入れてしまうので1.1なく、次のよ
うIll fi />う方がりf;LLい。まずワーク
Wの1辺の近傍のみに一列のlt;! Sを上記方法に
」、ってつける。III ’)、データ〈4)、(b)
、((5)を使用しない。次に、その+123に基づい
てワークWを7+1目111状に割り、リジ聞面を出づ
゛。この面がレーザーを発りる而となる。この見聞面に
保護膜をコーディングした後、各短冊状の「ワークWを
250μ角のチップ状に割るための傷Sをつ【ブる。こ
の場合の(t3sの良さtよ100へ・150μ程度で
あり、1128は短冊状ワークWの幅方向の中間部につ
りられる。即ち、短冊状ワークWのエツジ部にca +
b sがつけられないので、レーザーを発する勇聞面に
(bSが悪影響を及ばづ゛ことはない。又、この場合に
も、データ(4)、(5)、(6)を使用しない上記方
法にJ:って−列の傷Sをつける。晟(pに、ワークW
をチップ状に割り、ボンダーで配線し、モールドして製
品ができあがる。
In the actual scribing work, scratches S are made vertically and horizontally on the workpiece W at the same time, so instead of 1.1, the following scratches are made. First, there is a line of lt;! only near one side of the workpiece W. Add "S to the above method". III'), data〈4), (b)
, (do not use (5). Next, based on +123, divide the workpiece W into 7 + 1 grids and 111 pieces to get a rigid surface. This surface will emit the laser. This surface After coating the protective film on each strip, make a scratch S to break the workpiece W into chips of 250 μ square. 1128 is suspended at the middle part of the strip-shaped workpiece W in the width direction.In other words, ca + is attached to the edge part of the strip-shaped workpiece W.
Since bs cannot be attached, bs will not have a negative effect on the laser emitting side. Also, in this case, the above data (4), (5), and (6) are not used. Make a scratch S in the J: row in the method.
The product is cut into chips, wired with a bonder, and molded.

(別の実施例) (a)顕微vL18に代え、或は顕微鏡18とともにC
ODカメラを取付け、コンピュータの画像認識によって
、ワークWの位置決めを行1−.うようにすることもで
きる。
(Another embodiment) (a) C instead of the microscope vL18 or together with the microscope 18
An OD camera is installed, and the workpiece W is positioned in rows 1-. through computer image recognition. You can also make it look like this.

その場合に、2個のカメラを使用し、1つを低倍率、池
方を高倍率とする構成を採用してもよい。
In that case, a configuration may be adopted in which two cameras are used, one with low magnification and Ikegata with high magnification.

低倍率のカメラで全体的な位置決めを行ない、高倍率の
カメラで精密な位置決めを行なうことににって、作業を
迅速かつ正確に行えるようになる利点がある。
By using a low-magnification camera to perform overall positioning and a high-magnification camera to perform precise positioning, there is an advantage that work can be performed quickly and accurately.

(b)自動ローダ−を取付りて、ワークWのロード・ア
ンロードを自動で行えるようにすることもできる。
(b) It is also possible to install an automatic loader so that the work W can be loaded and unloaded automatically.

(発明の効果) 平板状のレーザーダイオード用化合物半導体を載せ、水
平にスライドするデープル19と;先端部にカッター2
1を有し、上下に移動するカッターヘッド20と;カッ
ター21を化合物半導体上所定高さまで下降させる機能
ど;カッター21が上記所定高さまで下降した後に、所
定のスクライブスピードで所定距離だけテーブル19を
カッター21にスJL、相対的にスライドさけるは能と
;テーブル1つのスライドとともに、カッター21を所
定スクライブスピードで下降させ、カッター21を所定
スクライブスピードで下降させた後にカッター21を化
合物半導体内の所定深さに保持し、カッター21を化合
物半導体内の所定深さに保)!1した後にカッター21
を所定スクライブスピードで上界ざぜる機能とを有する
ので、次の効果が1(11持できる。
(Effect of the invention) A daple 19 that carries a flat compound semiconductor for a laser diode and slides horizontally; a cutter 2 at the tip.
1, and has a cutter head 20 that moves up and down; a function that lowers the cutter 21 to a predetermined height above the compound semiconductor; and a function that lowers the cutter 21 to a predetermined height above the compound semiconductor; It is possible to avoid sliding relatively to the cutter 21; with one slide of the table, the cutter 21 is lowered at a predetermined scribing speed. depth and keep the cutter 21 at a predetermined depth inside the compound semiconductor)! cutter 21 after 1
Since it has the function of changing the upper bound at a predetermined scribing speed, the following effects can be achieved by 1 (11).

(a)短くしかも割れる方向を正確に定めることのでき
る船形のポイント的な傷Sが正確につけられることから
、レーiアダイA−ドを1りるための実間作業が迅速か
つ正確に行えるようになる。
(a) Since the point scratches S on the ship's shape are made accurately and are short and the direction of cracking can be determined accurately, the actual work for cutting the wire can be done quickly and accurately. become.

(b)従って、つ【ノられた傷Sによって勇聞面が綺麗
にでないという問題点が所間でさ、製品の歩留りが格段
に向上する。
(b) Therefore, the problem that the surface is not clean due to the scratches S is eliminated, and the yield of the product is significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明によるレーザーダイオード用ポイントス
クライブ装置こ?の内部構造の概略を示す斜視図、第2
図はその全体の概略を示す正面図、第3図は第2図のI
−I[1矢視図、第4図はカッターヘッド部の♀i ?
32図、第51勺はカッターの底面図、第6図はワーク
上の傷の位z1を示づ平面略図、第7図はカッターの1
す1跡を承り側面図、第8図は傷の詳細な形状を示す下
面図である。19・・・テーブル、20・・・カッター
ヘッド、21・・・カッター特許出願人 大部ね1礪工
業株式会社 代理人 弁理士 大食忠孝 ゛・ 1 第4図 第6図 t3)
FIG. 1 shows a point scribing device for a laser diode according to the present invention. A perspective view schematically showing the internal structure of the second
The figure is a front view showing the overall outline, and Figure 3 is I of Figure 2.
-I [1 arrow view, Figure 4 shows the cutter head part ♀i?
Figure 32, No. 51 is a bottom view of the cutter, Figure 6 is a schematic plan view showing the location of scratches z1 on the workpiece, and Figure 7 is the bottom view of the cutter.
8 is a side view showing the scratches, and FIG. 8 is a bottom view showing the detailed shape of the scratches. 19...Table, 20...Cutter head, 21...Cutter Patent applicant Obe Neiichi Kogyo Co., Ltd. Agent Patent attorney Tadaka Oshiki ゛・1 Figure 4 Figure 6 t3)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 平板状のレーザーダイオード用化合物半導体を載せ、水
平にスライドするテーブルと;先端部にカッターを有し
、上下に移動するカッターヘッドと;カッターを化合物
半導体上所定高ざまで下降させる機能と;カッターが上
記所定高さまで下降した後に、所定のスクライブスピー
ドで所定距離だけテーブルをカッターに対し相対的にス
ライドさせる機能と;テーブルのスライドとともに、カ
ッターを所定スクライブスピードで下降させ、カッター
を所定スクライブスピードで下降させた後にカッターを
化合物半導体内の所定深さに保持し、カッターを化合物
半導体内の所定深さに保持した後にカッターを所定スク
ライブスピードで上昇させる機能とを有することを特徴
とするレーザーダイオード用ポイントスクライブ装置。
A table on which a flat compound semiconductor for laser diode is placed and slides horizontally; A cutter head having a cutter at the tip and moving up and down; A function to lower the cutter to a predetermined height above the compound semiconductor; The function is to slide the table relative to the cutter by a predetermined distance at a predetermined scribe speed after descending to the above predetermined height; as the table slides, the cutter is lowered at a predetermined scribe speed, and the cutter is lowered at a predetermined scribe speed. A point for a laser diode characterized by having a function of holding a cutter at a predetermined depth within a compound semiconductor after scribing, and raising the cutter at a predetermined scribing speed after holding the cutter at a predetermined depth within the compound semiconductor. scribing device.
JP61006020A 1986-01-13 1986-01-13 Point-scribing device for laser diode Granted JPS62163386A (en)

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