JPS62161787A

JPS62161787A - 新規スピロアセタ−ル誘導体及びその用途

Info

Publication number: JPS62161787A
Application number: JP61241182A
Authority: JP
Inventors: リチャード・ヴィクター・ネルソン; ジョン・ファーガス・スティーヴン
Original assignee: ICI Americas Inc
Current assignee: Zeneca Inc
Priority date: 1985-10-11
Filing date: 1986-10-09
Publication date: 1987-07-17
Anticipated expiration: 2010-12-13
Also published as: CA1287054C; EP0219331A2; AU593025B2; EP0219331A3; AU6369486A; JPH07116196B2; US4690963A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、化学線に露出されたときの分解に耐える高分
子組成物に関する。殊に本発明は、アルデヒドの環式ア
セタールまたはケトンの環式アセタールであって、ポリ
アルキルピペリジン部分を含むもの、の有効量で安定化
されたポリプロピレンのような樹脂に関する。本発明は
光分解を抑制するように働く合成樹脂用添加剤として有
用な新規な化合物群に関する。

多くの合成有機重合体は１日光に曝されたときに急激に
劣化する。かかる急激な劣化を抑制するために、これら
の樹脂を有害な光に対して安定化させる多くの添加剤が
開発されてきている。これらの添加剤の例としては、ヒ
ドロキクベンゾフェノン類、ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール類、オルガノニッケル錯体類、及び４−位置で置換
されたヒンダードアミン（例えば２．２．６．６−チト
ラアルキルピペリジン）を含む多くの化合物がある。し
かし、こｈらの化合物のいずれも多様な形態及び応用に
おける重合体の安定化要件を充分に満足しないので、一
層満足すべき新規物買に対する需要が依然として残って
いる。

本発明の重合体組成物は、安定化されるヘキ樹脂に付表
の式■のヒンダードピペリドン化合物の有効量を配合す
ることによって作られる。これらの化合物は１代表「梅
漬式の表」中の式１の構造のものから選択される。式１
において、ｎは１〜１５の値を有−ｆる。ｎが１である
とき、ｐ及びｑは１またはゼロでありうるものであり、
　ｎｂ″−１よりも太きいとき、ｐは１であるが、ｑは
１またはゼロでありうる。

Ｒ１は水素及び１〜５炭素原子のアルキル基。

好ましくは水素及びメチル、特に水素から選択される。

Ｒ２は水素、オキシル、ヒドロキフル、メチレン結合し
た直鎖または分岐鎖の、１〜１８個の炭素原子を有する
アルキル基（例：メチル、エチル。

オクチル、オクタデシル、２−エチルヘキシル）。

２〜１８個の炭素原子を有するアルカノイル基（例ニア
セチル、プロパノイル、ブタノイル、インペンタノイル
、ステアロイル）、５〜ａ炭素原子のアルケニル基、６
〜６個の炭素原子を存するアルケノイル基（例ニアクリ
ロイル、メタクリロイル、クロトニル、２．り一ジメチ
ルクロトニル）、６〜６個の炭素原子を有するアルキニ
ル基（例：プロパルギル、２−ブチニル）、クアノメチ
ル基。

２．３−エポキシプロビル基、未置換または置換された
７〜１５炭素原子のアルアルキル基Ｃ例：　３゜５−ジ
−ｔ−７’チル−４−ヒドロキシベンジル、５−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル、ローｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルベンジル）、−ＣＨ２ＣＨ（Ｏ
Ｒ５）−Ｒ６の基、及び式％式％〔ここにＺは一０Ｒ７及び−Ｎ（Ｒ８）（Ｒ９）から選
択され１ｍは１またはゼロであり、ｍがゼロであ６とき
、Ｚ＆！−Ｃ（０）−ＯＲＩＯ及び−Ａ−Ｃ（０）−Ｒ
”でありうる〕の基、から選択され。

Ｒ３及びＲ４は同一または相異なり、１〜１８炭素原子
のアルキル基（例えばＲ２）、水素及び式Ｕの基から選
択され。

Ｒ５は水素、Ｒ２のそれのような１〜１８炭素原子の脂
肪族基、ベンジル及びフェネチルのような芳香脂肪族基
、及びＲ２のそれのような２〜１８炭素原子の脂肪族ア
フル基から選択され。

Ｒ６は、水素　Ｒ２のそれのような１〜１６炭素原子の
アルキル基、及びフェニルから選択され、Ｒ７は、１〜
１８炭素原子のアルキル基、５〜１２炭素原子の７クロ
アルキル基（例ニジクロペンチル、シクロヘキシル、シ
クロオクチル、及びククａドデシルン、アリル、ベンジ
ル、及び式ｌｌの基（ＲＩ及びＲ２）は前記の通り）か
ら選択され。

Ｒ８及びＲ９は同一または相異なり、水素、１〜８個の
炭素原子を有するアルキル基（例：メチル。

エチル、ヘキシル）、５〜１２個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基（例：Ｒ７についてのもの）。

６〜１０個の炭素原子を有するアリール基（例：４−メ
チル−フェニル、２−メチルフェニル、４−ブチルフェ
ニル）、及び７〜１５個の炭素原子を有するアルキル基
（例：ベンジル、ｏ−、ｍ＋。

ｐ−アルキル置換ベンジル類、フェネチル）から選択さ
れ、そしてＲ８及びＲ９はそれらが結合されている窒素
原子と一緒に５〜７頁ｆＲＣ例：ピロリジン、ピペリジ
ン、ホモピペリジン）を形成してもよく。

ＲＩＯは１〜１８炭素原子の未置換アルキル基。

フェニル及びベンジルから選択され、好ましくはＣ３−
２アルキルであり。

Ａは１〜１２炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキレン基
、フェニレン及び基−ＮＨ−Ｒ”−ＮＨ−（ここにＲ１
２は２〜１８炭素原子の直鎖または分岐鎖のアルキレン
基、５〜１８個の炭素原子を有するシクロアルキレン基
、６〜１８個の炭素原子を有するアリーレン基、及び７
〜１８個の炭素原子を有するアルアルキレン基から選択
される）から選択され、そしてＨｌｌは式ｍの基から選
択され。

Ｘは、−〇−または−ＮＲＩ３−であり、ここにＲ１３
は水素または１〜８炭素原子のアルキル基（例：メチル
、エチル、ブチルまたはオクチル）であり。

Ｙは、２〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖
の二価のアルキレン基であり、そのアルキレンの中間に
は一〇−、−Ｓ−または−Ｎ　Ｒ１３−が介在してもよ
い。またＹは６〜１２炭素原子の７クロアルキレン基（
例ニジクロヘキサニル、７クロオクタニル）、ジアルカ
ニルシクロアルカン（例ニジメタノシクロヘキサン、ジ
エタノクク口ヘキサン、シンクロへキサニルメタン、ジ
シクロへキサニルエタン、ジメタノシクロヘキクルメタ
ン、ジエタノシクシクロヘキフルメタン、ジエタノシク
ロヘキンルエタン、２．２−シンクロヘキサニルプロパ
ン）、フェニレン基、　及び８〜１５個の炭素原子を有
するアルアルキレン基（例ニジメタノベンゼン、４．４
’−イソプロピリデンジフェニル）から選択されうる。

式Ｉで表わされる化合物及びオリゴマーは、約５２０〜
１０．００［１の分子量範囲であってよい。

式■の化合物は、単段階法または多段階法で製造できる
。そのような方法における第１工程は。

（ｎが１であり、ｐ及びｑがゼロであり、そしてＸが一
〇−である場合）、ジオールＲ３０ＣＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）Ｃｏ２Ｒ’及び式■
の４−オキソポリアルキルピペリジンから、アセタール
製造の技術分野において一般的に知られている適当な酸
触媒及び適当な溶媒を用いて誘導されろアセタールの製
造である。適当な酸触媒の例は数多くあり、しかし本発
明に何らの限定？与えることなく、ｐ−）ルエンスルフ
オン酸、及びメタンスルフォン酸を挙げることができる
。

また適当な溶媒の例は、シクロヘキサン及びベンゼンで
ある。この反応のためにはＲ３及びＲ４は１〜１８炭素
原子のいずれのアルキル基であってもよいが、それらが
同一でありかつエチルまたはメチルであるのが好ましい
。

これらのジオールはそれぞれジエチルタルタレート及び
ジメチルタルタレートとしても公知であり、商業的に入
手できる。

対応するアセタール誘導体を形成するための２、２．６
．６−テトラアルキル−４−ピペリドンとジヒドロキシ
化合物との反応は周知であり、米国特許第５７９０５２
５号、　第４００７１５８号、　第４１０５６２６号、
及び欧州特許第２２９９号明細書に記載されるものと類
似の方法を用いることができる。特に興味のある出発成
分は、２．２，６．６−テトラメチル−４−ピペリドン
である。このケトンの製造法は多くの文献及び米国特許
第４１０５６２６号明細書第９欄に記載されている。特
定的には。

この化合物はアンモニアとアセトンとの反応によその他
の式■のポリアルキルピペリジン−４−オンはアンモニ
アと、メチルエチルケトンのような脂肪族ケトンとの反
応により製造できる。この操作は、Ｗ、トラウベ（Ｔｒ
ａｕｂｅ　）によって「ケム・ヘル（Ｃｈｅｍ、Ｂｅｒ
、）　Ｊ　４１．７７７（１９０８）に記載□されてい
る。

２−位置及び６−位置にその他のアルキル置換基を有す
る式■の化合物は、「ヘルフ、チム、アク　ト　’（Ｈ
ｅｌｖ、Ｃｈｉｍ、Ａｃｔ、　　）　Ｊ　　！＋０，１
１４（１９４７）及び「モンタツシュ、ケム（ＭＯｎｔ
ａｓｈ、Ｃｈｅｍ）」８８．４６４（１９５７）に概記
されている操作による二工程法及びそれにより得られる
ピリミジンの加水分解により製造できる。

アセタール化反応は一般的には、水非混和性溶媒の還流
状態の溶液中で約８０℃において酸触媒の存在下に実施
する。良好な溶媒は、１．２−ジクロルエタン及びクロ
ロベンゼン、ならびに、その他の有用な溶媒である。普
通用いられる酸触媒はメタンスルラオン酸、ハルトルエ
ンスルフォン酸。

及び有用と考えられるその他のものである。生成するア
セタールは、普通は溶剤抽出により単離され、濃縮後に
蒸留または結晶化により精製されつる。

ジエチルスピロアセタールまたはジメチルスピロアセタ
ールは製造法の第２工程のための出発原料として使用で
きる。一層高い分子量の単量体エステル及びアミド類は
、ジエチルスピロアセタールと（それを溶液状とし、ま
たは溶液状としないでそのまま）、一層高分子量の単官
能性アルコール、アミンまたはそれらの混合物とを、リ
チウムアミ□ドまたはチタンテトライソプロポキシドの
ような塩基性触媒を用いて反応させることにより。

製造できる。ｎが１より大きく約１５までσ）値。

好ましくは２〜１０の値であるオリゴマー及び高分子（
重合体）は、二官能性アルコール、アミンまたはそれら
の混合物を用いて類似の条件下で形成されつる。

生ＦｉＸ、物は溶媒溶液から分離させ、一般的には結晶
（ヒまたはその他の適当な操作で精製される。

アセタール類を本発明の化合物に転化するために用いら
４る４−ヒドロキシポリアルキルピペリジン及び４−ア
ミノポリアルキルピペリジン類ハ。

ドイツ特許第２３５２６５８号及び米国特許第５６８４
７６５号明細書において公知である。一般的に、そのよ
うな４−ヒドロキシ化合物は、ラネーニッケル上での触
媒式水素化による還元により対応する４−オキソピペリ
ジンから製造され、また４−アミン化合物はアンモニア
もしくは対象と−ｆ石）特定グ）第１アミンを用いての
還元アミン化により合成される。

アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア／ｌ／　
７　／ｌ／キル基及ヒ２．３−エポキシプロピル基のい
ずれかの導入は、最初に作られたポリ１丘換ピペリジン
の遊離Ｎ−Ｈ含有アセタールと、適当なハライドとの反
応により達成でき、適当なハライドの例としては、沃化
メチル、臭化エチル、臭化プロピル、塩化ドデシル、塩
化オクタデシル、臭化アリル、塩化メタアリル、塩化ブ
テニル、臭化プロパギル、塩化ベンジル、臭化フェネチ
ル、及びエピクロルヒドリン等がある。発生されるハロ
ゲン化水素は反応混合物に炭酸塩または水酸化物のよう
な無機塩基の添加により、またはトリエチルアミンのよ
うな有機アミンを添加することにより捕捉することがで
きる。

アルカノイル基またはアルケノイル基の導入は。

適当な酸ハライド（あるいは所望ならば酸無水物）を用
いて、親のＮ−Ｈ化会物をアシル化することにより行な
うことができる。酸ハライドを用いる場合に１発生する
ハロゲン化水素は、前述のようにして捕捉できる。その
ような酸ハライド及び酸無水物の例は、塩化アセチル、
塩化プロニル、塩化ヘキサノイル、塩化ドデカノイル、
塩化オクタデカノイル、無水酢酸、無水プロピオン酸で
ある。

同様にオキサリルクロリドモノエステルは、オキサリル
クロリドモノメチルエステル及びオキサリルクロリドモ
ノエチルエステルのような試薬を用いて導入できる。

Ｒ２が基−ＣＨ２ＣＨ（ＯＲ５）−Ｒ６である化合物に
ついては、置換基は親のＮ−Ｈ化会物と対応するアルキ
レンオキシド（例：エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、スチレンオキ７ド）とヲ反応させることにより導
入できる、得られるヒドロキシ化合物は適当な酸ハライ
ドを用いて当業界で一般的に知られている方法により、
アシル化することができ、そして水酸化ナトリウムを用
いてアルコシトを生じさせ、それを所望のアルキルハラ
イドまたはアルアルキルハライドで処理することにより
アルキル化できる。

Ｒ２が基−（ＯＨ２）　ｒｒ、−ＣＯＺであり、ｍがゼ
ロであるとぎは、適宜な基は、親のＮ−Ｈ化会物とクロ
ロホーメイトとを反応させることにより付けろことがで
きる。クロロホーメイトの例は、メタルクロロホーメイ
ト、エチルクロロホーメイト、アクリルクロロホーメイ
ト、ヘキシルクロロホーメイト、デシルクロロホーメイ
ト、オクタデシルクロロホーメイト、及びフェニルクロ
ロホーメイト等である。

対応する尿素化合物類の製造のためには、親のＮ−Ｈ化
会物を適当なカルバミルハライドで処理できる。そのよ
うなカルバミルハライドの例としては、メチルカルバミ
ルクロリド、エチルカルバミルクロリド、ブチルカルバ
ミルクロリド、フェニルカルバミルクロリド、ジメチル
カルバミルクロリド、ジエチルカルバミルクロリド、ジ
ヘキフルカルバミルクロリド、ヒロリジニルカルハミル
クロリド、ピペリジンカルバミルクロリド及びホモピペ
リジンカルバミルクロリド等がある。別法と１７で、尿
素化合物は、親のＮ−Ｈ（ヒ会物を適当なイソシアネー
トで処理することにより製造することもできる、Ｒ２がオキフル基である式１のｆど合物は、対応するＮ
−Ｈ化会物を、タングステン酸ナトリウムのような触媒
の存在下で過酸化水素のような過酸化物で酸化すること
により、またはメタクロロペルオキシ安息香酸のような
ベルカルモノ竣で酢化することにより得ることができる
。

Ｒが−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯＺであり１ｍが１であるとき
ｌｃ’＆ま適宜な基は、親のＮ−Ｈ化合物と、クロロ酢
酸エステル（例：クロロ酢酸メチル、クロロ酢酸エチル
、クロロ酢酸ベンジル、クロロ酢酸７クロヘキフル、ク
ロロ酢酸アリル、りｃＩＩ：Ｉ酢酸フェニル）とを反応
させることにより付着できる。

本発明の化合物は１合成有機重合体のための効果的な光
安定剤である。

以下の実施例は本発明の説明のためのものであり、本発
明がこれに限定されるものではない。

実施例　１ボン酸、ジエチル１エステル１００ｍ／ｆ７１１．２−ジクロロエタン中のジエチル
タルタレート（１５，ＯＰ；７２．８ｍモル〕とトリア
セトンアミンハイドレート（１２，６５’；７２．８ｍ
モル）との混合物に対して、別の５０ｄの１，２−ジク
ロロエタン溶剤中のメタンスルフォン酸（１３，９５！
ｉ’：１４５ｍモル）を添加した。混合物を還流状態に
まで加熱し１発生される水を共沸的に除去すると共に上
記＃（１３，９５５’）をさらに少量づつ添加し、なか
ら９６時間保持した。、次いで混合物を周囲温度にまで
冷却し、酸を種水酸化す）　＋１ウム水溶液で中和して
から、水で洗浄した。

乾燥及び濃縮化により、１８．９？（７５％）の橙色粘
稠液体を得た。トリアセトンアミンの除去による精製お
よび分子蒸留（１４０℃及び０゜２５Ｊ１３１ＨＰ）　
　により、９．２９？１７％）の目的勧賞を淡黄色物質
の形で得た。

実施例　２穏かな窒素流の下で還流状態にある。７０−のリグロイ
ン中の実施例１の生成物（４，２，！ｌ；１２．３ｍモ
ル）と２．２．６．６−テトラメチルビペリジン−４−
オール（４，０５１；２６．０ｍモル）との混合物に対
して、触媒としてリチウムアミド（５０ｍ９）を添加し
、た。この混合物を還流状態に維持し、その際にディー
ン・スターク・トラップから捕集醪媒を間欠的に取り出
しかつ同量の新しい溶媒を補充した。１７時間後、この
反応混合物を冷却し、触媒を酢酸（９０Ｉｎ９）で中和
し、追加のりグロインで稀釈し一過した。減圧下ので濃
縮により黄色の粘稠液体が得られ、このものから未反応
アルコールを除去したところ１重量６．２７Ｐ（９０％
）であった。この生成物は式Ｃ３１Ｈ５５Ｎ３０６を有
するものであった。

実施例　６実施例１の化合物（４，８５ｔ：　１４．０ｍモル）及
ヒ２．２−ジメチルー１，３−プロパン゛ジオール（１
，４６５Ｆｉ１４．０ｍモル）の混合物を穏かな窒素流
の下で１２０℃に加熱した。次いで触媒の１１チウムア
ミド＜５Ｅ３ｎ９）を添加した。圧力を約６０ｙａｘＨ
Ｐにまで低減し１発生するエタノールを捕集した。１２
０℃で１５分後に温度を１５０℃までと昇し、さらに２
時間保持した。次いで混合物を冷却し、塩化メチレンに
溶解し、触媒を酢酸（１００■）で中和した。この有機
溶液なブライン及び水で洗浄した。これを単離したとこ
ろ４．４？（８８％）の黄褐色発泡体を得た。

実施例　４実施例１の化合物（３，４５部）及び１，６−ヘキサン
ジアミン（１，１８部）の混合物をリチウムアミドの存
在下に１５０℃に加熱し、１８時間保持した。粗反応混
合物を冷却し、塩ｆヒメチレンに浴解し、水で洗浄した
。この有機溶液Ｉ’ｌｌ酸ナトリラムとで乾燥し１．そ
して濃縮した。生成物はＮＭＲ分析により所望の生成物
であることが確認された。

本発明のスピロアセタール肪導体は、空気及び電磁輻射
（光＃！りの存在下で劣化を受ける＆成型合体のための
光安定剤として殊に有用である。ここで用語「重合体」
とは下記に例示σ）如きものを包含するものである。

ポリオレフィン：例えば低密度及び高密度ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジェン、ポ
リイソプレン等のホモ重合体；及びエチレン・プロピレ
ン共重合体、エチレン・ブチレン共重合体、エチレン・
酢酸ビニル共重合体、スチレン・ブタジェン共重合体、
アクリロニトリル・スチレン・ブタジェン共重合体等の
如き、オレフィンと他のエチレン不飽和単竜体との共重
合体。

ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン：例文ば塩化ビ
ニル及び塩化ビニリデンの各々のホモ重合体；塩イヒピ
ニル・塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニルと塩化ビニ
１１テンσ）各々と酢酸ビニルまたはその他のエチレン
不飽和単量体との共重合体。

ポリアセタール：例えばポリオキノメチレン及びポリオ
キシエチレン、ポリエステル：例えばポリエチレンテレフタレート。

ポリアミド：例えば６−ナイロン、６．６−ナイロン及
び６．１０−ナイロン。

ポリウレタン： α、β−不飽和酸から誘導される１合体：ポリアクリレ
ート及びポリメタクリレート：ポリアクリル酸アミド及
びポリアクリロニドニル：　ならびにアクリル酸及び１種またはそれ以上のアクリル酸訪導体
とメラミン・ホルムアルデヒド拉］脂との共重合体。

合成重合体は種々の形態または形状１例えば。

フィラメント、繊維、ヤーン、フィルム、シート。

その他の成形物品、及びラテックスや発泡体から作られ
たその他の成形物品における優れた性質に鑑み、広範囲
に使用されてきている。しかし、これらの重合体は、就
中、低い光及び熱安定性のような若干の欠点を有する。

例示すれば、ポリオレフィン類及びポリウレタンエラス
トマー類は１日光または紫外線のような光に曝されたと
きに著しい劣化をしばしは受は易く、またポリ塩化ビニ
リデン及びポリ塩化ビニル類は、光及び熱の作用により
、塩化水素の脱離を伴なって変色でることがしばしばあ
る。ポリアミド類も、しばしば光劣化？受は易い。その
ような劣化に対して会成重合体類を安定化させる目的の
ために、多くの安定剤が従来から提案されてきており１
例えばポリオレフィン類についてシエ、ベンゾトリアゾ
ール、及びベンゾフェノン１ヒ会吻類；ポリウレタン類
についてはフェノール化合物及びベンゾフェノン化合物
類；そしてポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンにつ
いては塩基性珪酸鉛、三珪酸鉛、マレイン酸鉛のような
鉛塩、及びジブチルオずラウレート、ジブチルすずマレ
エートのような有機才ず化合物類が提案されてきている
。

樹脂には１式Ｉの化合物の有効量を配合すべきである。

その量はプラスチックの種類及びプラスチックが曝され
ることになる輻射線量によって左右されろ。一般的には
重合体の約ｏ、ｏｉ〜５１口重量％の量が有効である。

好ましくは式Ｉの化合物は、０．０５〜１亀量％の崇度
で使用できる、式ｌの光安定剤以外に、充填剤及び別の
安定剤。

例えば酸化防止剤、難燃化安定剤、滑り防止剤。

静電防止剤、補充的光安定剤、顔料、染料、滑剤等が使
用さｉ５ろ。

適当な酸化防止剤としては、２，６−ジーｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、４．４′−ビス（２，６−ジーｔ−ブ
チルフェノール）、４．４’−ビス（２，６−ジイソブ
ロビルフエノール）、２，４．６−トＩＩ　−ｔ　−ブ
チルフェノール、　２．２’−チオビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、オクタチンルー２Ｃ５’
、５’−ジーｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル〕
グロビオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（６，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキジフェニル）プロピ
オネート、１，３．５−トリス１’、５’−ジ−ｔ−ブ
チル−４′−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１．３．５−トリスＣ（３’。

５’−シーｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネートコインシアヌレ−）、１，３．５−）リス
（（５’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベ
ンジル）−２，４，６−シメチルベンジル〕−Ｓ−トリ
アジン−２，４，６−（Ｉ　Ｈ、５Ｈ、５Ｈ）−）リオ
ン等のヒンダードフェノール−タイプのもの；及びチオ
ジプロピオン酸エステル類（例えばジラウリルチオジグ
ロピオネート及びジステレオチジブロピオネート等〕；
ヒドロカルビルホスファイト類（例えばトリフェニルホ
スファイト、トリノニルホスファイト、ジドデシルペン
タエリスリチルジホスファイト、ジフェニルデフルホス
ファイト、トリス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル
）ホスファイト、ビス（２，４−ジーｔ−７”チルフェ
ニル）ペンタエリスリチルジホスファイト等）；及びそ
ｉらの組合せがある。

適当な補充釣元安定剤の例としては、下記のものがある
：ベンゾｌ−１１アゾール類、例えば２−（２’−ヒドロ
キシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
、２−（２’−ヒドロキシ−５’　、　５’−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキ／−５′−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキ’／−３１’、５
’−シーｔ−アミルフェニル）ペンツトリアゾール；ヒドロキシベンゾフェノン類１例えば２−セドロキシー
４−オクチロキシベンゾフェノン、２．２’−ジヒドロ
キノー４．４′−ジメトキシベンゾフェノ／；ヒンダードフェノールエステル類：　例、ｔハｎ　−ヘ
キサデフルー６．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエート、２’、４’−ジ−ｔ−ブチルフェノール
−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト；金属錯体類２例えば２．２′−チオビス（４−ｔ−オク
チルフェノール）のニッケルブチルアミン錯体、ビス（
４−ｔ−オクチルフェノール）スルフオンノニッケル錯
体、ニッケルジブチルチオカルバミン酸、４−ヒドロキ
シ−３，５−ジーｔ−プ、チルヘンジルホスフォン酸モ
ノアルキルエステル（ここにアルキルはメチル、エチル
、プロピル。

ブチル等）のニッケル塩、２−ヒドロキク−４−メチル
フェニルウンデシルケトンオキシムのニッケル錯体。

補充釣元安定剤の適当な酸化防止剤の説明的な例は、米
国特許第５４８８２９０号及び同第６４９６１５４号明
細書の第５及び４欄に記載されている。

光安定剤としての本発明の化合物の効果を例示するため
に前記実施例１〜４の生成物のそれぞれを市販のポリプ
ロピレン樹脂、ｆなわちヘラクルー　Ｘ　（Ｈｅｒａｃ
ｕｌｅｓ　）社製の［ＰＲＯ−ＦＡＸＪ６５０１（商標
）ポリプロピレン樹脂に配合した。これらの光安定剤は
、全体の樹脂組成の０．２５重量％の票度で溶剤ブレン
ド法（塩化メチレン）によりポリプロピレンと配合でき
、また主酸化防止剤として、ステアリル−β−３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ７フエニルプロビオネー
トを０．２％の濃度で用いた。次いでこの樹脂を２００
℃において押゛出し、１８８℃においてろ、０００　ｐ
Ｓｉ　（約４２２Ｊ／ｃｍ２）の圧力で圧縮成形して、
厚さ５ミル（０，１２７Ｕ）のフィルムとした。各供試
フィルム及び対照フィルムな、アトラス（Ａｔ１ａｓ　
）ウェザ−Ｏ−メーター中でクセノンアークに露出した
。この露光は、赤外線カルボニル吸収が０．５だけ増加
するまで続けた。このような赤外線吸収の増加は、破損
点に至ったと考えることができるものである。破損点に
至る時間は、安定剤を含まない対照試料の約８〜１０倍
であると考えられる。

この明細書において言及されている化学式１〜■は、下
記の「構造式の表」に示されているものである。

構造式の表メー′−へ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）式 I の化合物：但し式 I においてｎは１〜１５の値であり、ｎが１で
あるとき、ｐ及びｑは１またはゼロであり、ｎが１より
も大であるとき、ｐは１であるがｑは１またはゼロであ
り、Ｒ＾１は水素及び１〜５炭素原子のアルキル基から選択
され、Ｒ＾２は水素、オキシル、ヒドロキシル、１〜１８個の
炭素原子を有するメチレン結合アルキル基、２〜１８個
の炭素原子を有するアルカノイル基、３〜４炭素原子の
アルケニル基、３〜６個の炭素原子を有するアルケノイ
ル基、３〜６個の炭素原子を有するアルキニル基、シア
ノメチル基、２，３−エポキシプロピル基、７〜１５炭
素原子のアルアルキル基、 −ＣＨ＿２ＣＨ（ＯＲ＾５）−ＯＲ＾６の基、及び式▲
数式、化学式、表等があります▼ 〔ここにＺは−ＯＲ＾７及び−Ｎ（Ｒ＾８）（Ｒ＾９）
から選択され、ｍは１またはゼロであり、ｍがゼロであ
るとき、Ｚは−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ＾１＾０及び−ＡＣ（Ｏ
）−Ｒ＾１＾１でありうる〕の基、から選択され、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一または相異なり、Ｒ＾２のよう
な１〜１８炭素原子のアルキル基、水素及び式IIの基か
ら選択され。Ｒ＾５は水素、Ｒ＾２のような１〜１８炭素原子の脂肪
族基、及びＲ＾２のような２〜１８炭素原子の脂肪族ア
シル基から選択され、Ｒ＾６は水素、Ｒ＾２のような１〜１６炭素原子のアル
キル基、及びフェニルから選択され、Ｒ＾７は１〜１８炭素原子のアルキル基、５〜１２炭素
原子のシクロアルキル基、アリル、ベンジル、フェニル
及び式IIの基（Ｒ＾１及びＲ＾２は前記の通り）から選
択され、Ｒ＾８及びＲ＾９は、同一または相異なり、水素、１〜
８個の炭素原子を有するアルキル基、Ｒ＾７のような５
〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、６〜１
０個の炭素原子を有するアリール基、及び７〜１５個の
炭素原子を有するアルアルキル基から選択され、そして
Ｒ＾８及びＲ＾９はそれらが結合されている窒素原子と
一緒に５〜７員環を形成することがあり、Ｒ＾１＾０は１〜１８炭素原子の未置換アルキル基、フ
ェニル及びベンジルから選択され、Ａは１〜１２炭素原子のアルキレン基、フェニレン、及
び基−ＮＨ−Ｒ＾１＾２−ＮＨ−（ここにＲ＾１＾２は
２〜１８炭素原子の直鎖または分岐鎖のアルキレン基、
５〜１８個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、６
〜１８個の炭素原子を有するアクーレン基、及び７〜１
８個の炭素原子を有するアルアルキレン基から選される
）、から選択され、そしてＲ＾１＾１は式IIIの基から
選択され、Ｘは−Ｏ−または−ＮＲ＾１＾３−であり、ここにＲ＾
１＾３は水素、または１〜８炭素原子のアルキル基から
選択され、Ｙは２〜２０個の炭素原子を有する二価のアルキレン基
（そのアルキレン中間には−Ｏ−、−Ｓ一または−ＮＲ
＾１＾３−が介在してよい）、６〜１２炭素原子のシク
ロアルキレン基、ジアルカニルシクロアルカン、フェニ
レン基及び８〜１５個の炭素原子を有するアルアルキレ
ン基、から選択される。
（２）Ｒ＾１が水素であり、Ｘが−Ｏ−である特許請求
の範囲第１項に記載の化合物。
（３）ｎの値が１であり、ｐ及びｑがゼロである特許請
求第２項に記載の化合物。
（４）Ｒ＾３及びＲ＾４がエチルである特許請求の範囲
第５項に記載の化合物。
（５）Ｒ＾３及びＲ＾４が２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピヘリジニル基である特許請求の範囲第３項に
記載の化合物。
（６）ｎが２〜１５の間の値であり、そしてｐ及びｑが
１である特許請求の範囲第２項に記載の化合物。
（７）ｎが３〜６の間の値である特許請求の範囲第６項
に記載の化合物。
（８）Ｙが２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基で
ある特許請求の範囲第７項に記載の化合物。
（９）光によつて誘起される劣化に対して安定化された
合成重合体組成物であつて、通常、光による劣化を受け
る有機重合体と、特許請求の範囲の式 I の化合物０．
０１〜５重量％と、からなることを特徴とする上記組成
物。
（１０）有機重合体がポリオレフィンのホモ重合体また
は共重合体である特許請求の範囲第９項に記載の組成物
。
（１１）有機重合体がポリプロピレンのホモ重合体また
は共重合体である特許請求の範囲第１０項に記載の組成
物。
（１２）酒石酸のジメチルエステルまたはジエチルエス
テルとポリアルキル化４−ピペリドンとを還流溶媒中で
、酸触媒の存在下に約１００℃より低い温度に加熱する
ことからなる特許請求の範囲第４項に記載の化合物を製
造する方法。