JPS62159119A - Liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel

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JPS62159119A
JPS62159119A JP61000937A JP93786A JPS62159119A JP S62159119 A JPS62159119 A JP S62159119A JP 61000937 A JP61000937 A JP 61000937A JP 93786 A JP93786 A JP 93786A JP S62159119 A JPS62159119 A JP S62159119A
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crystal display
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thickness
display panel
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清治 田沼
Yoshiaki Koike
小池 善朗
Yasushi Okawa
泰史 大川
Kenichi Oki
沖 賢一
Atsushi Inoue
淳 井上
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To realize gradational display by forming a liquid crystal display element by using different kinds of materials or materials in different shapes partially to constitute respective picture elements. CONSTITUTION:Picture elements are divided into plural areas (two areas B and C in this case), which are different in light transmissivity to an applied voltage. Namely, the light transmissivity of the area B varies with V1-V2 as shown by a and the transmissivity of the area C varies with V1'-V2' as shown by broken line 2 so that their variation start voltages are different. Consequently, the light transmissivity-applied voltage characteristic of the whole picture elements is gentle as shown by a solid line 3. For the purpose, the thickness of a liquid crystal layer constituting the respective picture elements, the film thickness of an oriented film, and the film thickness of a color filter are varied stepwise. Then, a dielectric layer is interposed locally between the oriented film and an constituting each picture element and a transparent electrode, and the oriented film constituting each picture element is formed varying in pre-tilt angle stepwise.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は電圧−透過率特性をなだらかにすることにより
多階調表示を実現した液晶表示パネルの構成に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] The present invention relates to the structure of a liquid crystal display panel that achieves multi-gradation display by smoothing voltage-transmittance characteristics.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は多階調表示を実現した液晶表示パネルの素子構
成に関する。
The present invention relates to an element configuration of a liquid crystal display panel that realizes multi-gradation display.

情報処理装置の進歩と共に各種の画像処理装置が開発さ
れており、端末機器として情報処理の高速化に貢献して
いる。
Various image processing devices have been developed along with advances in information processing devices, and are contributing to speeding up information processing as terminal devices.

こ\で、画像処理装置として陰極線管(CRT)、プラ
ズマディスプレイパネルなどと共に液晶表示パネルがあ
るが、液晶表示パネルについて言えば、表示対象が数字
や英文字のみを表示するセグメント型からグラフインク
表示が可能なドントマトリソクス型へと進歩しており、
また液晶テレビの実用化も進んでいる。
Here, along with cathode ray tubes (CRTs) and plasma display panels, there are liquid crystal display panels as image processing devices.As for liquid crystal display panels, they range from segment types that display only numbers and alphabetic characters to graphic ink displays. It has progressed to a don-to-matrix type that allows for
Furthermore, the practical use of LCD televisions is progressing.

このように大容量化とカラー化へと用途が進むに従って
階調表示が必要となり、これが実現できる表示法が要望
されている。
As usage progresses toward larger capacity and color, gradation display becomes necessary, and a display method that can achieve this is desired.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

液晶表示パネルには単純マトリックス形とアクティブマ
トリックス形とがあるが、後者は多数ある画素をそれぞ
れ独立に駆動させることができ、そのため原理的に大容
量表示が可能である。
There are two types of liquid crystal display panels: a simple matrix type and an active matrix type. The latter allows a large number of pixels to be driven independently, and is therefore theoretically capable of large-capacity display.

また、同種の液晶を使用する場合にはコントラストが高
く、視野角が広いと云う特徴がある。
Furthermore, when using the same type of liquid crystal, the contrast is high and the viewing angle is wide.

次に液晶表示の方法として振れネマティック効果(Tw
isted Nematic Effect)を用いた
TN表示法と動的散乱モード(Dynamic Sca
ttering Mode)を用いたDSM表示法など
があるが、この二つの方法ともそのままでは多階調表示
は困難である。
Next, as a method for liquid crystal display, the deflection nematic effect (Tw
The TN display method using the static nematic effect and the dynamic scattering mode
There is a DSM display method using a tttering mode), but it is difficult to display multiple gradations using these two methods as they are.

すなわち、TN表示は二枚の直交した偏向板の間に液晶
を置き、電界により液晶の捩れを制御することにより表
示を行うもので、電界がOFFのときには捩れたままの
状態を保ち、一方電界がONのときには液晶分子が電界
の方向に向きを変えることにより入射光が偏向板を通過
するのを阻止される現象を利用するものであるが、液晶
の配向が始まる闇値電圧と配向が完了する電圧との差が
僅かなため多階調表示は困難である。
In other words, in a TN display, a liquid crystal is placed between two orthogonal polarizing plates, and the display is performed by controlling the twist of the liquid crystal using an electric field.When the electric field is off, the liquid crystal remains twisted, but when the electric field is on, the liquid crystal remains twisted. This method takes advantage of the phenomenon in which the incident light is blocked from passing through the polarizing plate by changing the direction of the liquid crystal molecules in the direction of the electric field. Multi-gradation display is difficult because the difference between the two is small.

またr)SM表示は液晶中を不純物イオンが電界によっ
て移動する際に起こる液晶分子との衝突によって光散乱
が生じるのを利用するもので、原理的には電圧により光
散乱の程度を制御できる筈であるが、実際には成る闇値
以上の電圧値で始めてイオンの移動が起こり、その後に
急激にイオン電流が増すために階調表示は困難である。
r) SM display utilizes the light scattering caused by collisions with liquid crystal molecules that occur when impurity ions move through the liquid crystal due to an electric field, and in principle, the degree of light scattering should be able to be controlled by voltage. However, in reality, ion movement occurs only at a voltage value higher than the dark value, and then the ion current increases rapidly, making it difficult to display gradations.

以上記したように従来の表示技術では多階調表示は困難
であり、これを可能とするために液晶組成の面と液晶パ
ネル構成の面がら研究が進められている。
As described above, it is difficult to display multiple gradations using conventional display technology, and in order to make this possible, research is being conducted in terms of liquid crystal composition and liquid crystal panel configuration.

すなわち、コレステリッターネマティック相転移形液晶
を用いる場合、従来は成る闇値電圧以上で急速に相転移
を生じ、光透過率の鋭い立ち上がり或いは立ち下がりを
示す液晶組成物が使用されているが、これを緩やかに変
化するような液晶組成物が研究されている。
In other words, when using a cholesteritter nematic phase transition type liquid crystal, a liquid crystal composition that rapidly undergoes a phase transition above the dark value voltage and exhibits a sharp rise or fall in light transmittance is conventionally used. Liquid crystal compositions that change slowly are being studied.

然し、何れの面についても充分な多階調表示は実現され
ていない。
However, sufficient multi-gradation display has not been achieved on any surface.

〔発明が解決しようとする問題点] 液晶カラーテレビなどを実用化するには階調表示を行い
得ることが必要条件であり、これを液晶組成の面のみで
なく、液晶パネルの面からも解決することが必要で、印
加電圧に対し光透過率が緩やi化するような素子構成を
実用化することが課題である。
[Problems to be solved by the invention] In order to put liquid crystal color televisions into practical use, it is necessary to be able to perform gradation display, and this can be solved not only from the perspective of the liquid crystal composition but also from the perspective of the liquid crystal panel. The challenge is to put into practical use an element configuration in which the light transmittance gradually changes to i with respect to the applied voltage.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の問題は液晶表示素子の各画素を構成する材料、形
状或いは材料の種類を部分的に変えて形成することを特
徴とする液晶表示パネルにより解決することができる。
The above problem can be solved by a liquid crystal display panel in which each pixel of the liquid crystal display element is formed by partially changing the material, shape, or type of material.

〔作用〕[Effect]

本発明はTN液晶を用い、アクティブマトリックス形の
液晶表示装置を構成する各画素を構成する材料、形状或
いは材料の種類を部分的に変えて形成することにより多
階調表示を実現するものである。
The present invention realizes multi-gradation display by using TN liquid crystal and forming each pixel of an active matrix liquid crystal display device by partially changing the material, shape, or type of material. .

ここで、ガラス基板上に液晶層を挟んで対向してパター
ン形成され、画素を形成している表示電極と透明電極は
それぞれデータバスラインとスキャンパスラインとに回
路接続されており、この二つのパスラインに印加される
電圧パルスが同3IIH。
Here, the display electrodes and transparent electrodes forming pixels, which are patterned to face each other on a glass substrate with a liquid crystal layer in between, are connected to the data bus line and the scan path line, respectively. The voltage pulse applied to the pass line is 3IIH.

た画素の光透過率が変化し、液晶表示が行われている。The light transmittance of each pixel changes and a liquid crystal display is performed.

第2図はこれらの画素に印加電圧を加えた場合の光透過
率特性を示すもので、従来は各画素の表示電極と透明電
極との間にV1〜■2の信号電圧が加わり、画素はこの
電圧値に対応する光透過率を示していた。
Figure 2 shows the light transmittance characteristics when an applied voltage is applied to these pixels. Conventionally, a signal voltage of V1 to ■2 is applied between the display electrode and the transparent electrode of each pixel, and the pixel is The light transmittance corresponding to this voltage value was shown.

然し、第2図に示すように印加電圧−光透過率特性が急
峻なために多階調表示が難しい。
However, as shown in FIG. 2, the applied voltage-light transmittance characteristic is steep, making multi-gradation display difficult.

そこで本発明は各画素において印加電圧に対する光透過
率の変化が同図に示すように画素の全領域(この場合A
で示した)に互って一定であるのを改め、第1図に示す
ように複数の領域(この場合B、Cの三領域)に分け、
この領域毎に印加電圧に対する光透過率が異なるよう構
成することにより光透過率−印加電圧特性を緩やかにす
るものである。
Therefore, in the present invention, the change in light transmittance with respect to the applied voltage in each pixel is as shown in the same figure.
(as shown in Figure 1), and divide it into multiple regions (in this case, three regions B and C) as shown in Figure 1.
By configuring each region to have a different light transmittance with respect to the applied voltage, the light transmittance-applied voltage characteristic is made gentler.

すなわち、B領域の光透過率が実線1のようにV、〜■
2に互って変化し、一方C領域の透過率が破線2に示す
ようにV、〜■2′と変化開始電圧がずれるよう形成す
ると画素全体としての光透過率−印加電圧特性は実線3
で示すように緩やかなものとなる。
That is, the light transmittance of region B is V, ~■ as shown by solid line 1.
2, and on the other hand, if the transmittance of the C region is formed so that the change start voltage is shifted from V, to 2' as shown by the broken line 2, the light transmittance-applied voltage characteristic of the entire pixel will be as shown by the solid line 3.
As shown in , it is gradual.

本発明はかかる方法により多階調表示を実現するもので
、これを実現するには次のような方法が考えられる。
The present invention realizes multi-gradation display using such a method, and the following methods can be considered to realize this.

■ 各画素を構成する液晶層の茸さを階段状に変化させ
る。
■ Change the thickness of the liquid crystal layer that makes up each pixel in a stepwise manner.

■ 各画素を構成する配向膜の膜厚を階段状に変化させ
る。
(2) The thickness of the alignment film constituting each pixel is changed stepwise.

■ 各画素を構成するカラーフィルタの膜厚を階段状に
変化させる。
■ The thickness of the color filter that makes up each pixel is changed stepwise.

■ 各画素を構成する配向膜と透明電極との間に部分的
に誘電体層を介在させて形成する。
(2) A dielectric layer is partially interposed between the alignment film and the transparent electrode that constitute each pixel.

■ 各画素を構成する配向膜を階段状にプレチルト角を
変えて形成する。
■ The alignment film that constitutes each pixel is formed in a stepwise manner with different pretilt angles.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1 (液晶層の厚さを変えた場合) 液晶表示素子を形成する200 X150 +nの二枚
のガラス基板上に従来と同様な方法により、それぞれ大
きさが200μm角の表示電極パターンと透明電極パタ
ーンとを形成した。
Example 1 (Changing the thickness of the liquid crystal layer) A display electrode pattern of 200 μm square and a transparent pattern were formed on two glass substrates of 200 x 150 +n to form a liquid crystal display element using a method similar to the conventional method. An electrode pattern was formed.

そして各々の表示電極パターンと透明電極パターンとを
対向させて画素が形成されるが、この例の場合、画素の
数は640 x400個である。
Pixels are formed by making each display electrode pattern and transparent electrode pattern face each other, and in this example, the number of pixels is 640 x 400.

第3図は本発明の詳細な説明する単位画素の断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a unit pixel for explaining the present invention in detail.

まず第1のガラス基板4上にある単位画素の形成予定領
域を複数個(この場合は2個)に分割し、この領域に厚
さが5μmのポリイミド層5をパターン形成した。
First, a region on the first glass substrate 4 where a unit pixel was to be formed was divided into a plurality of regions (in this case, two regions), and a polyimide layer 5 having a thickness of 5 μm was patterned in this region.

この方法は第1のガラス基板4の上にスピンコード法に
よりポリイミド層5を全面に互って被覆した後、写真食
刻技術(ホトリソグラフィ)を用いてレジストを選択的
に被覆し、プラズマエツチングを行うことにより、各画
素の1/2の領域にポリイミド層5をパターン形成した
In this method, polyimide layers 5 are coated over the entire surface of the first glass substrate 4 using a spin code method, and then resist is selectively coated using photolithography, and then plasma etching is performed. By doing this, the polyimide layer 5 was patterned in a half area of each pixel.

次に従来と同様に第1のガラス基板4と第2のガラス基
板6の上にインジウム・錫合金膜(略称ITO膜)7を
スパッタ法により約400人の厚さに、またポリイミド
からなる配向膜8をスピンコード法により約800人の
厚さに形成した後、プラズマエツチングを行って電極パ
ターンを形成した。
Next, in the same manner as before, an indium-tin alloy film (abbreviated as ITO film) 7 is sputtered onto the first glass substrate 4 and the second glass substrate 6 to a thickness of approximately 400 mm, and an oriented film made of polyimide is applied. After forming the film 8 to a thickness of approximately 800 mm using a spin code method, plasma etching was performed to form an electrode pattern.

そして、第1のガラス基板4と第2のガラス基板6を正
確に位置合わせし、セパレータにより10μmの間隔を
保って対向せしめ、この間にTN液晶を封入することに
より、液晶表示パネルが形成される。
Then, a liquid crystal display panel is formed by accurately aligning the first glass substrate 4 and the second glass substrate 6, making them face each other with a gap of 10 μm maintained through a separator, and sealing TN liquid crystal between them. .

この場合、各画素の172の領域は液晶層9の厚さが5
μmであり、他の172の領域は10μmとなる。
In this case, the thickness of the liquid crystal layer 9 in 172 areas of each pixel is 5
μm, and the other 172 regions are 10 μm.

第8図は印加電圧に対する光透過量の関係を示すもので
、電圧を加えない場合の光透過量を100%としてとっ
である。
FIG. 8 shows the relationship between the amount of light transmission and the applied voltage, and the amount of light transmission when no voltage is applied is taken as 100%.

この図において、破線10は画素の液晶層9の間隔が5
μmの場合の透過率特性、また一点破線1)は間隔が1
0μmの場合、12は第3図に対応する特性であり、緩
やかな傾斜の特性となっていることが判る。
In this figure, a broken line 10 indicates an interval of 5 between the liquid crystal layers 9 of pixels.
Transmittance characteristics in the case of μm, and the dot-dashed line 1) has an interval of 1
In the case of 0 μm, the characteristic 12 corresponds to that shown in FIG. 3, and it can be seen that the characteristic has a gentle slope.

実施例2 (配向膜の■り厚を変えた場合) 第4図は液晶層の厚さは変えず(この例の場合は10μ
1Yl)、配向膜8の厚さを変えることにより、電界強
度を変えた実施例である。
Example 2 (When the thickness of the alignment film was changed) Figure 4 shows the thickness of the liquid crystal layer unchanged (in this example, it was 10 μm).
1Yl), this is an example in which the electric field strength was changed by changing the thickness of the alignment film 8.

すなわち、第2のガラス基板6の上で画素の172の領
域に厚さが約3μmのポリイミド層5を形成しておく。
That is, on the second glass substrate 6, a polyimide layer 5 having a thickness of about 3 μm is formed in the region 172 of the pixel.

次に実施例1と同様に第1のガラス基板4を含めてIT
OTlO2向膜8と層形成してパターンを形成するが、
第1のガラス基板4の配向膜8だけは3μmの厚さに形
成した後、先にパターン形成しであるポリイミド層5に
対向する部分のみプラズマエツチングにより約800人
の厚さにまでエツチングし、図に示す構造の画素を形成
した。
Next, as in Example 1, the IT including the first glass substrate 4 is
A pattern is formed by forming a layer with the OTlO2-directing film 8.
Only the alignment film 8 of the first glass substrate 4 was formed to a thickness of 3 μm, and only the portion facing the polyimide layer 5, which had been patterned first, was etched to a thickness of approximately 800 μm by plasma etching. A pixel with the structure shown in the figure was formed.

この場合、TN液晶の誘電率は約10.ポリイミドの8
′f、電率が3であることから計算して第4図の左半分
に係る電圧は右半分の1/2となり、その結果第9図の
実線13に示すような印加電圧−光透過量用特性が実現
された。
In this case, the dielectric constant of the TN liquid crystal is approximately 10. Polyimide 8
'f, the electric rate is 3, so the voltage on the left half of Figure 4 is 1/2 of the right half, and as a result, the applied voltage - amount of light transmission is as shown by the solid line 13 in Figure 9. characteristics have been realized.

なお、破線14は第4図で左半分の領域の示す特性、ま
た一点破線15は右半分の領域が示す特性を示している
In FIG. 4, the broken line 14 indicates the characteristic shown in the left half region, and the dotted line 15 indicates the characteristic shown in the right half region.

実施例3 (カラーフィルタの膜厚を変えた場合)カラーフィルタ
は各々の画素について赤、青。
Example 3 (When the thickness of the color filter is changed) The color filter is red and blue for each pixel.

緑の何れかのフィルタを設け、これによりカラー表示を
実現するものであり、ゼラチン或いはポリビニルアルコ
ール(略称PVA)に色素を混入して作られている。
A green filter is provided to achieve color display, and it is made by mixing a dye into gelatin or polyvinyl alcohol (abbreviated as PVA).

第5図はこの実施例の断面図で、第2のガラス基板6の
上に色素を混ぜたゼラチンをスピンコードした後、プラ
ズマエツチング法により画素の172の領域にカラーフ
ィルタJ’ff1)6を約5μmの厚さに形成し、第1
のガラス基板4を含め、この上にITOTlO2び配向
膜8を層形成した。
FIG. 5 is a cross-sectional view of this embodiment, in which gelatin mixed with a dye is spin-coded onto the second glass substrate 6, and then a color filter J'ff1) 6 is applied to the 172 area of the pixel using a plasma etching method. The first layer is formed to a thickness of about 5 μm.
Including the glass substrate 4, ITOTlO2 and an alignment film 8 were formed thereon.

なお、第1のガラス基板4はITOTlO2成が終わっ
た後に左半分の領域1こカラーフィルタ層17を4μm
の厚さに形成した後、この上にポリイミドからなる配向
膜8の形成を行う。
Note that after the ITOTlO2 formation is completed, the color filter layer 17 in the left half area of the first glass substrate 4 is 4 μm thick.
After forming the alignment film 8 to a thickness of , an alignment film 8 made of polyimide is formed thereon.

なお、液晶層9の厚さは10μmである。Note that the thickness of the liquid crystal layer 9 is 10 μm.

このようにして液晶表示パネルを形成した。A liquid crystal display panel was thus formed.

この場合、液晶の誘電率は約10、またカラーフィルタ
の誘電率は約5であることから第5図において、左半分
の液晶層9に加わる電圧は右半分の液晶層9に加わる電
圧の1/2となり第9図と同様な印加電圧−光透過量特
性が実現された。
In this case, since the dielectric constant of the liquid crystal is about 10 and the dielectric constant of the color filter is about 5, in FIG. /2, and the applied voltage-light transmission amount characteristic similar to that shown in FIG. 9 was realized.

実施例4 (誘電体層を介在させた場合) 第6図はこの実施例であって、第1のガラス基板4と第
2のガラス基板6の上に実施例1と同様にITOTlO
2成した後、第1のガラス基板4には五酸化タンタル(
Ta205)をスパッタ法を用いて3ttmの厚さに形
成し、これを写真食刻法を用いてプラズマエツチングし
、各画素の半分の領域のみに誘電体層18を形成した。
Example 4 (When a dielectric layer is interposed) FIG.
After forming the second glass substrate 4, tantalum pentoxide (
Ta205) was formed to a thickness of 3 ttm using a sputtering method, and then plasma etched using a photolithography method to form a dielectric layer 18 only in half of each pixel.

次にこの上にスピンコード法により配向膜8の厚さが従
来と同様に厚さが約800人となるようにポリイミド層
を塗布し、パターン形成を行った。
Next, a polyimide layer was applied thereon by a spin code method so that the thickness of the alignment film 8 was approximately 800 nm, as in the conventional method, and a pattern was formed.

この場合は誘電体層18のない左半分の領域の配向膜8
の厚さは厚くなる。
In this case, the alignment film 8 in the left half region where there is no dielectric layer 18
becomes thicker.

次に、かかる第1および第2のガラス基板4゜6を10
μmの間隔を隔てて対向させ、この間にTN液晶を封入
して液晶表示パネルが形成された。
Next, the first and second glass substrates 4°6 were
A liquid crystal display panel was formed by facing each other with an interval of μm and sealing a TN liquid crystal between them.

ここで、Ta205の誘電率は25.ポリイミドは約3
また液晶は約10であることから画素に■の電圧が印加
された場合は左半分の領域には0.5■が、また右半分
の領域には0.9■の電圧が印加されることになり、先
に第9図で説明したと同様な印加電圧−光透過量特性が
実現された。
Here, the dielectric constant of Ta205 is 25. Polyimide is about 3
Also, since the liquid crystal is approximately 10, if a voltage of ■ is applied to a pixel, a voltage of 0.5 ■ will be applied to the left half area, and a voltage of 0.9 ■ will be applied to the right half area. Thus, the applied voltage-light transmission amount characteristic similar to that previously explained in FIG. 9 was realized.

実施例5 (プレチルト角を変えた場合) 第7図は本発明を実施した単位画素の断面図であって、
右半分の領域は従来と同様にITOTlO2向膜8が形
成さている。
Example 5 (Case where the pretilt angle is changed) FIG. 7 is a cross-sectional view of a unit pixel implementing the present invention,
In the right half region, an ITOTlO2 directed film 8 is formed as in the conventional case.

すなわち、約800人の厚さにポリイミドからなる配向
膜8をパターン形成した後、ラビング処理により0.5
〜2度のプレチルト角が実現されている。
That is, after patterning the alignment film 8 made of polyimide to a thickness of approximately 800 mm, a rubbing process is performed to form a pattern of 0.5 mm.
A pretilt angle of ~2 degrees has been achieved.

一方、左半分の領域は右半分の領域をレジスト膜で被覆
した状態で酸化硅素(St O)を約1000人の厚さ
まで斜方蒸着を行うことにより、約35度までのプレチ
ルト角をもつ配向膜19を形成した。
On the other hand, the left half region is oriented with a pretilt angle of up to about 35 degrees by performing oblique evaporation of silicon oxide (StO) to a thickness of about 1,000 degrees while the right half region is covered with a resist film. A film 19 was formed.

かかる第1のガラス基板4と第2のガラス基板6とを1
0μmの間隔を置いて対向し、この間にTN液晶を封入
して液晶表示パネルを作った。
The first glass substrate 4 and the second glass substrate 6 are combined into one
They faced each other with an interval of 0 μm, and a TN liquid crystal was sealed between them to produce a liquid crystal display panel.

第10図の実線22はこのようにして作った液晶表示パ
ネルについての印加電圧−光透過量特性であって、プレ
チルト角が〜35度の破線21.プレチルト角〜1度の
一点破線20に較べて墨かに傾斜は緩やかな特性が実現
されている。
The solid line 22 in FIG. 10 is the applied voltage-light transmission amount characteristic of the liquid crystal display panel made in this way, and the broken line 21. is the pretilt angle of ~35 degrees. Compared to the dot-dashed line 20 where the pretilt angle is ~1 degree, a characteristic is realized in which the inclination is gentler.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上記したように本発明は印加電圧−光透過量特性をな
だらかにするごとにより多階調表示を実現するものであ
り、本発明の実施により16以上の階調表示が可能とな
る。
As described above, the present invention realizes multi-gradation display by smoothing the applied voltage-light transmission amount characteristic, and by implementing the present invention, it becomes possible to display 16 or more gradations.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理を示す光透過率−印加電圧特性、 第2図は従来の光透過率−印加電圧特性、第3図は実施
例1を説明する画素の断面図、第4図は実施例2を説明
する画素の断面図、第5図は実施例3を説明する画素の
断面図、第6図は実施例4を説明する画素の断面図、第
7図は実施例5を説明する画素の断面図、第8図〜第1
0図は実施例の特性図、 である。 図において、 4は第1のガラス基板、5はポリイミド層、6は第2の
ガラス基板、7は[TO膜、8.19は配向膜、   
 9は液晶層、16、17はカラーフィルタ層、 である。 多/ 図
Figure 1 is a light transmittance-applied voltage characteristic showing the principle of the present invention, Figure 2 is a conventional light transmittance-applied voltage characteristic, Figure 3 is a cross-sectional view of a pixel explaining Example 1, and Figure 4 is a cross-sectional view of a pixel explaining Example 1. 5 is a cross-sectional view of a pixel explaining Example 2, FIG. 5 is a cross-sectional view of a pixel explaining Example 3, FIG. 6 is a cross-sectional view of a pixel explaining Example 4, and FIG. Cross-sectional views of pixels to be explained, Figures 8 to 1
Figure 0 is a characteristic diagram of the example. In the figure, 4 is a first glass substrate, 5 is a polyimide layer, 6 is a second glass substrate, 7 is a [TO film, 8.19 is an alignment film,
9 is a liquid crystal layer, and 16 and 17 are color filter layers. Many/Figures

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液晶表示素子の各画素を構成する材料の厚さ、形
状、或いは材料の種類の何れか一つを各画素内において
部分的に変えて形成することを特徴とする液晶表示パネ
ル。
(1) A liquid crystal display panel characterized in that each pixel of the liquid crystal display element is formed by partially changing any one of the thickness, shape, or type of material within each pixel.
(2)液晶表示素子の各画素を構成する液晶層の厚さを
階段状に変化させて形成することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の液晶表示パネル。
(2) The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the thickness of the liquid crystal layer constituting each pixel of the liquid crystal display element is changed stepwise.
(3)液晶表示素子の各画素を構成する配向膜の膜厚を
階段状に変化させて形成することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の液晶表示パネル。
(3) The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the thickness of the alignment film constituting each pixel of the liquid crystal display element is changed stepwise.
(4)液晶表示素子の各画素を構成するカラーフィルタ
の膜厚を階段状に変化させて形成することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の液晶表示パネル。
(4) The liquid crystal display panel according to claim 1, characterized in that the thickness of the color filter constituting each pixel of the liquid crystal display element is changed stepwise.
(5)液晶表示素子の各画素を構成する配向膜と透明電
極との間に誘電体層を介在させて形成することを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の液晶表示パネル。
(5) A liquid crystal display panel according to claim 1, characterized in that a dielectric layer is interposed between an alignment film and a transparent electrode constituting each pixel of the liquid crystal display element.
(6)液晶表示素子の各画素を構成する配向膜を階段状
にプレチルト角を変化させて形成することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の液晶表示パネル。
(6) The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the alignment film constituting each pixel of the liquid crystal display element is formed by changing the pretilt angle in a stepwise manner.
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