JPS62157325A - メモリ−デイスク用金属基板の製造方法 - Google Patents

メモリ−デイスク用金属基板の製造方法

Info

Publication number
JPS62157325A
JPS62157325A JP29759585A JP29759585A JPS62157325A JP S62157325 A JPS62157325 A JP S62157325A JP 29759585 A JP29759585 A JP 29759585A JP 29759585 A JP29759585 A JP 29759585A JP S62157325 A JPS62157325 A JP S62157325A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface roughness
blank material
alloy
memory disk
die
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29759585A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuu Koo Toomasu
トーマス・ユー・コー
Atsushi Yamazaki
淳 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuarukoa Kk
Original Assignee
Fuarukoa Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuarukoa Kk filed Critical Fuarukoa Kk
Priority to JP29759585A priority Critical patent/JPS62157325A/ja
Priority to PCT/JP1987/000001 priority patent/WO1987004093A1/ja
Priority to GB8719744A priority patent/GB2194187B/en
Priority to DE19873790008 priority patent/DE3790008T1/de
Priority to US07/110,765 priority patent/US4825680A/en
Publication of JPS62157325A publication Critical patent/JPS62157325A/ja
Priority to KR870700761A priority patent/KR880700696A/ko
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、金属ブランク材から表面が超平滑なメモリー
ディスク用金属基板を製造する方法に関するものである
。なお、ここでいう金属ブランク材トは、アルミニウム
、アルミニウム合金、銅、銅合金、マグネシウム、マグ
ネシウム合金、チタン、チタン合金、オーステナイト系
ステンレス材料等まだはそれらの複合材からなる非磁性
の金属を有するものとする。
〔従来技術とその問題点〕
従来、種々の情報(文字、音声、映像等)を記憶再生す
るメモリーディスクは通常、表面を超精密に仕上げたド
−ナツ円板状の金属基板、例えばアルミニウム合金基板
(サブストレート)に磁性体を被覆した構造となってい
る。メモリーディスクは磁気ヘッドによる記憶、再生を
正確に行うためディスクの表面は高度の平坦性、平滑性
が要求されるが、メモリーディスクの表面状態は金属基
板の表面状態に左右されるため、金属基板には極めて高
い寸法精度(うねシ、そシ等の平坦性)と高品質の表面
状態(欠陥のない鏡面、平滑性)が要求される。
従来、このようなメモリーディスク用金属基板を製造す
る方法としては、金属例えばアルミ合金ブランク材を、
(a)天然ダイヤモンド゛バイトにより超精密切削する
方法、(b)砥石により両面を同時に研磨する方法、(
C)ラップ盤を用い砥粒および温水1/P w h不盃
也E吐Iy之商ネフ士汁 也じユ争七フユ!いずれも切
削あるいは研削による加工であるため、加工に時間がか
がシ、生産性が悪く、又多くの設備を必要とする等の問
題があった。
〔問題点の解決手段とその作用〕
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑み、プレ
スによる圧印加工を利用した極めて生産性が高く、その
品質も従来の製造方法と同程度以上にすぐれたメモリー
ディスク用金属基板の製造方法を提供するものである。
圧印加工は通常、硬貨の製造に用いられる技術で、加圧
面に凹凸模様を形成したダイスで材料を加圧して、材料
面に凹凸模様を形成するというのが一般的な使われ方で
あった。本発明はこのような凹凸模様の形成とは異なシ
、加圧面の平滑なダイスを用いて金属ブランク材に平滑
な面を圧印することで基板の両面を同時に、超精密に仕
上げる、メモリーディスク用金属基板の製造方法を提供
するものである。
すなわち本発明の製造方法は、第1図に示すように、金
属ブランク材6を、材料の広がり限度を規制するだめの
金型リング3及び芯金4の中で、又は第2図に示すよう
に金型リング3の中で加圧面の平滑な二つのダイス1と
2の間に挾み、圧印加工を行うことによシメモリーディ
スク用アルミ基板を製造するもので、その際金属ブラン
ク材6の表面粗度Rmaxを20μm以下とし、表面へ
の潤滑剤塗布量を1000mg/m2以下とするもので
ある。
本発明方法において、材料の広がり限度を規制する金型
中で、ブランク材を圧印加工する理由は、材料の流れを
規制することによシ、精密に仕上げたダイス表面を成形
品表面にたやすく転写することができ、その結果表面精
度(粗度)の優れた成形品を得ることができるからであ
る。さらにはこのように圧印加工することによって寸法
精度のよい外径及び内径を得ることができる。
又潤滑剤の塗布量を110007n/m2 以下とした
のは、潤滑剤の塗布量はビルドアップ(ダイス加圧面へ
の材料の付着)を抑制する点からは多い方が好ましいの
であるが、1000■/m2を越えると、ブランク材と
ダイス加圧面の間の潤滑剤の存在によシ、成形されたメ
モリーディスク用金属基板の表面粗度が悪くなるからで
ある。尚潤滑剤の種類は、不水溶性、水溶性いずれでも
よい。粘度の高い(比重大)潤滑剤は少な目に、粘度の
低い(比重小)潤滑剤は多い目に塗布するようにし、ブ
ランクの表面に1000■/ m2以下塗布する。
又使用する潤滑剤の性状は、動粘度(20℃cst)が
3以下で、油膜強度(四球式耐荷重試験αt200rp
m)が5 kl?ζ以上のものが好ましい。
動粘度が大きくなると、圧印加工後の金属基板の表面粗
度が劣化する傾向があり、油膜強度が小さくなるとビル
ドアップが発生しやすくなるからである。
また金属ブランク材の表面粗度を20μm以下にしたの
は、20μmを越えると、成形されたメモリーディスク
用金属ブランク材の表面粗度が悪くなルタケでなく、ビ
ルドアップも生じやすくなるためである。
ここでいう金属ブランク材は、Al、A1合金。
Cu、、 Ctt合金、Mg、M1合金、 Tt、Ti
合金、オーステナイト系ステンレス材料及びこれらの複
合材料を意味し、これらの適用が可能である。
例えば切削、研削の困難な純Al、 Cu等を高強度の
合金にクラッドシた合せ材料についても圧印加工により
容易に高精度の表面をうろことができる。
基板の表面層に純金属を使用するのが好ましい理由は、
材料欠陥がなく、後のNi メッキ又は陽極酸化処理等
で好ましい結果が得られるからである。更にA1合金上
に硬い材料例えばオーステナイト系ステンレスをクラッ
ドシた複合材の適用も可能である。
又メモリディスクは、最終的には、ドーナツ状の形状で
あるが、本発明方法における金属基板の製作は、ドーナ
ツ状のブランク材を第1図のととく圧印加工してもよい
し、円板状のブランク材を第2図のごとく圧印加工し、
その後内径を打抜いて、ド−ナツ状としてもよい。
又本発明法においては、ダイスの加圧面をブランクに転
写すると同時にブランクの表面をわずかに塑性加工する
ものであるため、ダイスの加圧面は超精密に仕上げたも
のが使用される。
本発明法によれば、金属ブランク材を圧印加工すること
によシ、従来の加工法と同等以上の表面精度(平滑性な
ど)を得ることが可能である。しかも1度に両面の加工
が可能である。
従って従来の切削、研削方法等に比し、大幅な工程の省
略が可能となシ、生産性のきわめて高いメモリーディス
ク用基板の製造が可能となる。
尚、本発明法により得られたメモリーディスク用金属基
板は、磁気的記録方式のみならず、光学的記録方式によ
るディスク用基板としても適用が可能である。
〔実施例〕
実施例は、第2図に示す圧印装置と円板状ブランク材を
用いて実施した。(なお予備的に同一外径(約65圏)
の円板状ブランクとド−ナツ状ブランク(内径15 r
rrm )  を圧印加工して比較したが、特性値に大
差ないため円板状ブランク材の結果を記載する。) まず、5086−0材(AA?−Ml 系合金、引張強
さσB = 27kg/mm2)、厚さ1.5mm ノ
&材カラ円形7’ランク材を作製した。ブランク材の外
径は、圧印装置のリングの内径65欄に対し、板厚減少
率が1、係となるようにした。
なお板厚減少率は次式にょシ求められる。
o−1 m =t 、  X100 ’ ただし、to:圧印前の板厚(−) t :圧印後の板厚(媚) この板厚減少率はブランク材がド−ナツ状の場合、リン
グ及び芯金と金属ブランク材の直径差によって定まるも
のである。っt−、b第1図に示すように、ブランク材
6の外径はリング3の内径よシやや小さく作られておシ
又ブランク材の内径は、芯金の外径よシやや大きく作ら
れておシ、これを圧印加工すると、金属ブランク材6の
面積が外方及び内方に広がり、板厚が減少するが、金属
ブランク材6の広がりはリン〆3及び芯金4によって規
制されるため、金属ブランク材6がリング3内の空隙及
び芯金4の外側の空隙を埋め尽くすまで広がると、それ
以上板厚は減少しなくなる。従って板厚減少率を調整す
るには、リング3の内径と芯金4の外径を一定とした場
合、金属ブランク材の外径と内径を変えればよいわけで
ある。ブランク材が円板状の場合は、同様に外径だけを
考慮すればよい。
まだ、ダイス加圧力は81 kg/n♂(ブランク材の
引張強さσゎの3倍)、 ブランク材の表面粗度Rma
xは1.50μm(5箇所平均)、ダイス加圧面は平滑
で、その表面粗度Rmaxは0.20μm(5箇所平均
)である。
て圧印加工を行った結果は第1表のとおりであった。
なお潤滑剤は、日本工作油(株)製G6311(動粘度
1.0゜20℃est 、油膜強度10に97m2)を
使用した。
第1表 成椴品の表面光沢は、比較例2〜5で若干のくもシが見
られる以外は良好であった。
なお、測定条件は次のとおシである。
加圧力Pは、圧印時の加圧力をブランク材の表面積で除
した値である。
うねりは、成形品のφ50mm  のラインにおいてし
、最大値と最小値の差として表示した。
そシは、測定長55圏で4箇所(45°間隔)の変動値
を記録し、測定開始点と終了点を結んだ基準線からの隔
シを求め、4箇所の平均値で表示した。
板厚差は10箇所の板厚を測定し、最大値と最小値の差
として表示した。
表面粗度は5箇所の平均値である。
表面光沢は目視によシ観察した結果である。
以上はすべて10枚を対象として行った。
ビルドアップ(ダイス加圧面への材料の付着)発生枚数
は、100枚連続成形毎に加圧面を観察し、ビルドアッ
プの発生状況を把握した。例えばビルドアップ発生枚数
2000とは、2000枚成形時にはビルドアップが発
生していないが、2100枚成形時にビルドアップが認
められたことを意味する。
以上の結果によれば、圧印加工によシダイス加圧面の表
面状態がブランク材に転写され、うねシ、そり、板厚差
の小さい成形品が得られることが明らかである。そして
潤滑剤塗布量は、これを多くするとビルドアップ発生ま
での枚数が多くなる利点はあるが、それが1000 m
l/m”を越えると成形品の表面粗度が悪くなるため、
メモリーディスク用アルミ基板の製造には1ooo m
yim2以下が適することが分かる。
次に、ブランク材表面粗度の変化による影響を調べるた
め、潤滑剤塗布量を507nf/m”一定とし、ブラン
ク材表面粗度を変化させた実験を行った。
その結果は第2表のとおシである。
第2表 成形品の表面光沢は、比較例8〜10で若干くもシがあ
る以外は良好であった。
この結果によれば、ブランク材の表面粗度を20μm以
下にすると、成形品の表面粗度が良好に保たれ、かつビ
ルドアップ発生までの枚数も多くなることがわかる。
次に、潤滑剤塗布量をc+ooVm2とし、ブランク材
表面粗度を17μmとし場合(実施例11)は、成形品
の表面粗度Rrmxは0.23μm、ビルドアップ発生
枚数は2100枚であった。
このほか成形品の表面粗度は、ダイス加圧面の表面粗度
によっても当然のことながら影響を受ける。潤滑剤塗布
量を50■/rrL2とし、ブランク材表面粗度を1,
5μmとして、上記と同様な試験が行った結果は第3表
のとおりである。
第3表 成形品の表面光沢は、参考例9と10で若干くもシがあ
る以外は良好であった。
この結果によれば、成形品の表面粗度がダイス加圧面の
影響をほとんどそのまま受けるので、ダイス加圧面の表
面粗度は要求される成形品の表面粗度によって定めれば
よい。
ところで、メモリーディスク用アルミ基板の品質を表す
指標である「うねシ」「そり」 「板厚差」は、上記の
結果によると、潤滑剤塗布量、ブランク材表面粗度、ダ
イス加圧面表面粗度によってはほとんど影響を受けない
ことが明らかである。別の試験によると、成形品の「う
ねシ」「そり」「板厚差」に影響を及ぼすのは、ダイス
の加圧力(1#/wn 2)と板厚減少率であることが
判明した。
まずダイス加圧力の影響であるが、板厚減少率を1係、
潤滑剤塗布量を50q/m”、ブランク材の表面粗度R
maxを1.50μm1ダイス加圧面の表面粗度Rma
xを0.20μmに設定して、ダイス加圧力を変化させ
たところ第4表のような結果が得られた。
なおσBはブランク材の引張強さく 27 kg/rr
rm2)で、ダイス加圧力をσ3 の倍数で表すと括弧
内のようになる。
なお成形品の表面粗度は、加圧力Pの変化には影響を受
けず、すべて0.21〜0.24μmの範囲にあった。
また表面状態もすべて良好であった。
この結果によれば、成形品のうねシ、そり、板厚差を小
さくするには、ダイス加圧力P (ki?/mm’ )
をアルミブランク材の引張強さσ8の5倍以下にするこ
とが望ましい。
次に板厚減少率の影響であるが、加圧力Pを81に9/
rran” (σ3の3倍)、潤滑剤塗布量を5Qy+
y/m”、ブランク材の表面粗度Rmaxを1.50μ
m、ダイス加圧面の表面粗度Rmaxを0.20μmに
設定して、板厚減少率を変化させたところ第5表のよう
な結果が得られなお成形品の表面状態は、板厚減少率6
.5%以上で若干くもシがある以外は良好であった。
この結果によれば、成形品のうねり、そシ、板厚差を小
さくするには、板厚減少率を4チ以下にすることが望ま
しい。
次に、1100−0材(純Al、引張強さ細=9kg/
man” )、厚さ1.5mmの板材から円形ブランク
材を製作し、上記と同じ条件で試験を行った結果は、以
下のとおりであった。
第6表(潤滑剤塗布量の影響) 第7表(ブランク材表面粗度の影響) 第8表(ダイス加圧面表面粗度の影響)第9表(ダイス
加圧力の影響) 第10表(板厚減少率の影響) 以上の結果から純アルミニウムの場合も、アルミニウム
合金の場合と同様の傾向があることが分かる。又本実施
例には、記載していないが、アルミニウム、及びアルミ
ニウム合金以外の前述の他の金属材料についても同様の
ことがいえる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、プレスによる圧印
加工によりメモリーディスク用金属基板を製造できるか
ら、従来の切削、研削加工による製造方法に比べ生産速
度が格段に向上する利点がある。また圧印加工の際、金
属ブランク材の表面粗度Rmaxを20μm以下とし、
表面への潤滑剤塗布量を100071111/m”以下
としたことによシ、表面特性、特に表面の平滑性のすぐ
れた(表面粗度のきわめて小さい)品質の良好なメモリ
ーディスク用金属基板を製造できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るメモリーディスク用金
属基板の製造方法を示す断面図である。 第2図は、本発明の実施例に使用した圧印加工装置の説
明図である。 1・・・上ダイス、2・・・下ダイス、3・・・金型(
リングλ4・・・金型゛(芯金)、5・・・芯金頭部が
嵌合する凹部、6・・・金属ブランク材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 表面粗度Rmaxを20μm以下とし、表面への潤滑剤
    塗布量を1000mg/m^2以下とした金属ブランク
    材を、材料の広がり限度を規制する金型の中で、加圧面
    の平滑な二つのダイスの間に挾み、圧印加工を行うこと
    を特徴とするメモリーディスク用金属基板の製造方法。
JP29759585A 1985-12-28 1985-12-28 メモリ−デイスク用金属基板の製造方法 Pending JPS62157325A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29759585A JPS62157325A (ja) 1985-12-28 1985-12-28 メモリ−デイスク用金属基板の製造方法
PCT/JP1987/000001 WO1987004093A1 (en) 1985-12-28 1987-01-05 Method of preparing metal base for memory disk
GB8719744A GB2194187B (en) 1985-12-28 1987-01-05 Method of manfacturing metal substrates for disk for memory storage media
DE19873790008 DE3790008T1 (ja) 1985-12-28 1987-01-05
US07/110,765 US4825680A (en) 1985-12-28 1987-01-05 Method of manufacturing metal substrates for disk for memory storage media
KR870700761A KR880700696A (ko) 1985-12-28 1987-08-25 메모리 디스크용 금속기판의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29759585A JPS62157325A (ja) 1985-12-28 1985-12-28 メモリ−デイスク用金属基板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62157325A true JPS62157325A (ja) 1987-07-13

Family

ID=17848590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29759585A Pending JPS62157325A (ja) 1985-12-28 1985-12-28 メモリ−デイスク用金属基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62157325A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6823581B2 (en) * 2000-11-22 2004-11-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Apparatus for assembling a head gimbal assembly

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6823581B2 (en) * 2000-11-22 2004-11-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Apparatus for assembling a head gimbal assembly
US7161766B2 (en) * 2000-11-22 2007-01-09 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Base plate structure, transfer system, and method and apparatus for assembling a head gimbal assembly

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101368057B1 (ko) 스퍼터 타깃 및 회전 축 단조에 의해 이를 성형하는 방법
US4825680A (en) Method of manufacturing metal substrates for disk for memory storage media
CN104109783B (zh) 磁盘用铝合金基板及其制造方法
US11423937B2 (en) Aluminum alloy substrate for magnetic disk, method for producing the same, and magnetic disk using aluminum alloy substrate for magnetic disk
US20200211595A1 (en) Substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, hard disk drive
JP2012012708A (ja) スパッタリングターゲット用金属ブランクの形成方法
JPS62157326A (ja) メモリデイスク用基板の製造方法
JPS62157327A (ja) メモリデイスク用基板の製造方法
US4087898A (en) Metallic rod product, and method for producing same
JPS62157325A (ja) メモリ−デイスク用金属基板の製造方法
JPH0319130A (ja) チタン製磁気ディスク基板の製造方法
JPS62158532A (ja) メモリ−デイスク用金属基板の製造方法
JP3846785B2 (ja) 閉塞鍛造方法、金型及び閉塞鍛造生産システム
JPH06226330A (ja) 自動コイリング用鋼線及びその製造方法
JP4524515B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板のプレス成形用金型の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JPS60102222A (ja) 冷延プロセス用セラミツク溶射ロ−ル
JPS63319143A (ja) 磁気ディスク基板用アルミニウム合金合わせ材
US236696A (en) Burnishing and ductilizing cylindrical bars
JPS63286224A (ja) メモリ−ディスク用アルミニウム基板の製造方法
JP7145731B2 (ja) 磁気ディスク用ブランク材及びその製造方法
JPS62151223A (ja) メモリ−デイスク用アルミ基板の製造方法
JPH0752030A (ja) 陽極酸化処理基盤及び研磨方法
JPH01140423A (ja) メモリーディスク用アルミ基板の製造方法
JPS63286225A (ja) 金属板の鏡面加工法
JPS60247824A (ja) デイスク基板の製造方法