JPS62132168U - - Google Patents

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JPS62132168U
JPS62132168U JP1898886U JP1898886U JPS62132168U JP S62132168 U JPS62132168 U JP S62132168U JP 1898886 U JP1898886 U JP 1898886U JP 1898886 U JP1898886 U JP 1898886U JP S62132168 U JPS62132168 U JP S62132168U
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JP
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retort
gas
supply pipe
gas supply
surface treatment
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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
図面のうち第1図〜第3図は本考案の実施例を
示すもので、第1図は機械部品の表面にタングス
テンカーバイト層を析出させるのに用いる低温C
VD装置の概略全体構成図、第2図はレトルトの
縦断面図、第3図は第2図―線断面図、第4
図は従来の金属表面処理炉の要部縦断面図、第5
図は第4図の処理炉で処理された機械部品の要部
拡大縦断面図である。 1…レトルト、2…ガス供給管、2a…2の螺
旋状部分、8…カバープレート、11…ガス排出
管、15…誘導コイル、16…断熱容器、17…
レトルト本体、21…ガス噴出口。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ガス供給管からレトルト内へ気相反応原料ガス
    を導入して金属部品の表面を処理する金属表面処
    理炉において、 上記レトルト内の底部近くまで導入したガス供
    給管をレトルト内周に沿つて螺旋状に立ち上げ、
    このガス供給管の螺旋状部分の内周部にレトルト
    内中心方向に向けて複数のガス噴出口を開口し、
    上記レトルトの上部にガス排出口を設けたことを
    特徴とする金属表面処理炉。
JP1898886U 1986-02-13 1986-02-13 Pending JPS62132168U (ja)

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JP1898886U JPS62132168U (ja) 1986-02-13 1986-02-13

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JPS62132168U true JPS62132168U (ja) 1987-08-20

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JP1898886U Pending JPS62132168U (ja) 1986-02-13 1986-02-13

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