JPS62132153A - マスク欠陥検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えばマスク上の欠陥を検査するマスク欠
陥検査装置に関するものである。

〔従来の技術〕

第２因は従来の投影露光によるマスク欠陥検査装ｔＨ′
ｆ：示す概略構成図である。図において、（１）は検査
されるマスク、（２）＃ーＪ左，右比較検査を行うため
の左側対物レンズ、（３）は同じ〈右側対物レンズ、（
４｝は左右像ｆ：１ｌ！ｌ察するためのビューヘッド、
（５）にｘ−Ｙステージ、（６）はマスク（１）をセッ
トする定めのマスクホルダーである。

次に両件について説明する。まず、検査されるマスク（
１）ｔ：マスクホルダー（６）にセットしてステージ（
！５）上に固定し、その下面より照明系（２４）でマス
ク（１）　’に照明する◇次いで、マスク（１）上の同
一パターンが完全に重なり合うように左右対物レンズ＋
２１　、　（３）の間隔やＸ−Ｙステージ（５）のθ回
転角を調整する。次にマスク（１）上の検査領域を指定
するりここまでは、ビューヘッド（４）から見える像を
肉眼で観察して操作する。かく（一て、検査を開始する
のであるが、左右対物レンズ（２）　、　（３）　ｅ通
過した光は、それぞれ左側検出器（２１）および右側検
出器（２２）　ｒこよリ検出され、この両者を欠陥検出
器（２６）で比較検査することにより、その不一致部分
を欠陥として検出する〇 〔発明が解決しようとする間頭点〕 従来のマスク欠陥検査装置は、以上のように構成されて
いるので、左、右側が完全に重なっていない場合は蛭似
欠１＜ｆｉと誤認さノ］、る。また、検査時間が長くな
って検査中に異物が付着するおそれがあるため、レティ
クルを検査する際には、確認露光を１゛ることか必要で
ある。そのため、時間、経費が力かシ、再生欠陥像も観
察しＶＣ＜いなどの問題があった。

この発明な上記のような開門点を解消するためになされ
友もので、検査時間を短縮でさると共に、欠陥も正確に
検出、観察できるマスク欠陥検査袋ＦＬヲ得ることを目
的とする、 〔問題点を解決するための手段〕 この発明に係るマスク欠陥検査装置は、比較検査の代わ
ジに計算機合成ホログラムにより発生した基準物体光と
、欠陥を含むマスクにより発生１゜た被測定物体光との
干渉によυ生じる干渉縞から前記欠陥を検査しようとす
るものである。

〔作　用〕

この発明における欠陥検査方法は、基準物体光と欠陥を
含むマスクからの被測定物体光と全重ね合わせることに
よシ、即時に欠陥が検出される。

また、欠陥が干渉縞として表れるため観察し易い。

さらにそのまま放置しておけば、欠陥が増加する経時変
化も観察できる。

〔発明の実施例〕

以下、この発明の一実施例を第１図の構成図について説
明する。図において％（３０）はマスク（１）からの被
測定物体光、（３１）は計算機合成ホログラム（７）（
以下これ’ｋｃＧＨという）からの基準物体光、（８）
は光源となるレーザー源、（９）はマスク（１）を照明
する物体照明光、ｔＩＩはＣＧＨ（７）を照明する再生
光、住υはレーザー源（８）からの光を照明光（９）と
再生光αＱの２つに分路するへニアミラー、α２．α３
は反射用ミラー、α４，０９はそれぞれ照明光（９）お
よび再生光（１（Ｉｔ−広げるためのビーム拡大鏡であ
る。

上記のように構成されたマスク欠陥検査装置において、
レーザー源（８）から出たレーザー光に、ハーフミラ−
αυにより２本の光路に分割され、その１本は反射用ミ
ラー（１３ｅ介しそしてビーム拡大鏡Ｃ１４）により広
げられてマスク（１）の物体照明光（９）となる０こう
して照明され几マスク（１）の被測定物体光（６０）は
直接観察点（３２）に届く。もう１本は、ミラーα２１
介しそしてビーム拡大鏡α９により広げられてＣＧＨ（
７）の再生光（１）となる。かくして再生されたＣＧＩ
Ｉ（力からの基準物体光（６１）は、マスク（１）　７
らの被測定物体光（３０）と干渉し合いながら、観察点
（３２）に届く。この結果、例えばマスク（１）に欠陥
がある場合、被測定物体光（６０）と基準物体光（６１
）とで干渉縞が表われる・この干渉縞を観察することに
よシ、マスクｔ１）上の欠陥を検出することができる。

また、この欠陥状態を放置し、まｆｃはマスク（１）上
に異物が付着した場合でも、これを経時的な干渉縞とし
て観察することができる。さらに、ＣＧＨ（７）ｔ−挿
入するだけでマスクの欠陥が検出できるため、その検査
時間が非常に短かくなる。

なお、上記実施例ではマスク欠陥検査装置の場合につい
て説明したが、異物検査装置や他の欠陥検査装置であっ
てもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明の実施例によれば、マスク等の
欠陥検査をホログラムにょシ行っ念ので、擬似欠陥の発
生が無く、精度の高い検査が行える。

また、検査時間が短縮されると共に、欠陥が増加する経
時変化も観察できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例によるマスク欠陥検査装置
を示す概略構成図、第２図は従来のマスク欠陥検査装置
を示す概略構成勇である。 図中、（１）はマスク、（２）は左側対物レンズ、（３
）は右側対物レンズ、（４）はビューヘッド、（５）は
Ｘ−Ｙステージ、（６）はマスクホルダー、（７）は計
算機合成ホログラム、（８）はレーザー源、（９）は物
体照明光、０Ｑはホログラム再生光、αυはハーフミラ
−１Ｈ。 ０階は反射用ミラー、（１４）、（Ｌ５Ｊハヒーム拡大
鏡、（２１）は左側検出器、（２２）は右側検出器、（
２６）は比較欠陥検出器、（３０）は被測定物体光、（
３１）は基準物体光、（３２）は観察点である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分金示１゜ 代理人　弁理士　　佐　藤　正　年 第２図 ２４：艷、ｅｌｌＱ先

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）マスクの欠陥を検査するマスク欠陥検査装置にお
   いて、ホログラムを用いたことを特徴とするマスク欠陥
   検査装置。
2. （２）検査基準となる基準物体光を計算機合成ホログラ
   ムにより発生させることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載のマスク欠陥検査装置。
3. （３）検査するマスクを基準物体光に重ねて干渉縞とし
   て欠陥を観察することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載のマスク欠陥検査装置。