JPS62129034A - Ｘ線走査装置及びｘ線フラックスの制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は帰遠制御されたフラックス等分化（Ｎｕｘ　ｅ
ｑｕａｌｉｚｅｄ）Ｘ−線像を発生する装置及びその方
法であって、主として医学用ラジオグラフィに適用され
るものに関する。

Ｘ−線像映システム（ｉｍａｇｉｎｇ　ｓｙｓｔｅｍ）
の動的応答領域（ｄｙｎａｍｉｃ　ｒｅｓｐｏｎｓｅ　
ｒａｎｇｅ）は往々にして像映されるべき対象物のＸ−
線減衰領域（Ｘ−ｒａｙ　ａｔｔｃｎ−ｕａｔｉｏｎ　
ｒａｎｇｅ）より小さい。この状況は在来のＸ−線ラジ
オグラフィシステムでしばしば遭遇される。

在来システムは、Ｘ−線像を得るための検出器−記録器
として使用されるフィルムカセットと幅広の、かつ、空
間的に一様なビームを有するＸ−線線源からなる。この
システムは約９０年前のＸ−線発見以来普及している。

医学用Ｘ−線フィルムは、典型的な場合非常に高いコン
トラスト強調係数（ｃｏｎｔｒａｓｔｅｎｎｈａｎｃｅ
ｍｅｎｔ　ｒａｃｔｏｒ）を有する。こ係数はしばしば
コントラスト勾配若しくはガンマと呼ばれ、非常に狭い
寛容度（ｌａｔｔｉｔｕｄｅ）　　（すなわち露光範囲
）を示す結果となる。この高コントラスト強１週係数は
、Ｘ−線フィルムにとって必要な特徴である。そ“の理
由は、もしもコントラスト強調係数か低ければ、典型的
な検出すべき解剖学的対象物は非常に低いＸ−線コント
ラストを有する結果、それらのＸ−線フィルム上の像は
医師か診るには希薄すぎるからである。

大抵のＸ−線検査、例えば胸部検査においては、典型的
な患者は、非常に大きな解剖学的厚み変動を有し、従っ
て非常に大きなＸ−線減衰変動を示す。

すなわち解剖学的諸部分は所により非常にＸ−線に対し
て不透明であるが、他の部分はＸ−線に対し非常に透明
である。その結果、これらの検査を示すＸ−線フィルム
はＸ−線フィルムの露光範囲の狭さのために、全体的画
像の一部分にのみ適当な露光がなされて、はとんどの部
分は露光過度又は露光不足となる。露光過度又は露光不
足領域の双方に対するコントラスト強調係数は適当な露
光のされた領域の係数よりはるかに低い。それゆえ、Ｘ
−線フィルムの露光過剰及び露光不足領域においてはＸ
−線情報の著しい損失（及び診断価値の低下）がある。

例えば典型的なＰＡ胸部フィルムにおいては、通常、肺
睨野（Ｉｕｎｇ　Ｈｅ１ｄ）が最適に露光されるように
され、縦隔洞及び横隔膜下の領域は露光不足にされる。

露光不足領域に位置した腫よう及び他の異常を検出する
確率は、露光か最適にされる肺視野における検出確率よ
り著しく低い。このＸ−線フィルムの非一様露光性は、
患者の大きな厚み変動に主として起因し、在来のＸ−線
ラジオグラフィシステムの主要な欠点である。Ｘ−線フ
ィルムの像の質及び診断価値は、もしも患者におけるこ
うした厚み変動によって起こされる非一様露光効果が低
減されれば、著しく改善される。

ベントン他（ＳＰＩＦプロン−ティング、第　２３３巻
１７Ｂ−１８２ページ（１９８０））　；ブレウェス他
（（Ａ）ラジオロジー誌、第１４２巻、７ｆ１ｉ５−７
８８ページ（１９８２）、及び（Ｂ）ダイアグノスチッ
ク　イメージング誌、１９８５年１０月号、８５−９８
ページ）その他は、胸部フィルムにおける小結節の検出
が、露光非一様性が低減されるある種の補償装置によっ
て著しく改良できることを示した。これらの補償手段は
すべてＸ−線フィルムにおけるフラックスが多少とも等
分化されるようにＸ−線フラックスを空間的に変調する
ことを含んでいる。この過程はしばしばフラッラックス
等分化法（ｆ’ｌｕｘ　ｅｑｕａｌｉｚａｔｉｏｎ　ｍ
ｅｔｈｏｄ）と呼ばれる。

あらゆる種類の患者に対してフラックス等分化を与える
ためには、フラックス等分化に帰還制御が追加されなけ
ればならない。フラックス等分化はある程度の空間的減
衰情報が、検査中の特定の患者について得られた後に、
与えられる。ここで重要なこととして帰還制御されたフ
ラックス等分化過程の遂行において、露光時間の延長に
起因する患者の動きによる像ボケ、補償不整合による誤
記録に因る偽情報（ａｒｔｉｒａｃｔｓ）　、患者被爆
の増大、Ｘ−線管ターゲットにかかる過大負荷、散乱Ｘ
−線の増大、及び使用者若しくは患者にとっての不便、
等の新たな問題を発生してはならない、と言うことを指
摘しておく。

帰還制御されたフラックス等分化の先行技術は・多々あ
る。Ｘ−線マスクを使用する先行技術の例としては米国
特許第３，７５５，８７２号（ニドホルム他）、及び米
国特詐第４，４９７．ＯＧ２号（ミストレッタ他）があ
る。光学的マスクを使用する先行技術の例は米国特許第
４，３２２．［ｉ１９号（ネルソン他）がある。

Ｘ−線走査ペンンルビームを発生するためのラスタＸ−
線ターゲットを使用する先行技術には米国特許第　２，
８３７．８５７号（フレイブ他）がある。Ｘ−線走査ビ
ームを発生するため機械的に運動する走査開口を使用す
る先行技術の例はブレウェス他（メジカル　フィジック
ス誌、第１０巻、８５５−６８３ベージ（１９８３））
かある。走査ファンビームを使用する先行技術の例は米
国特許第４，４３３，４３０号（フレッツエル）おびプ
レウェス他（ラジオグラフィ誌、１４２巻、　７Ｇ５−
７６８ページ（１９８２））がある。

本発明に最も関連した先行技術は、Ｘ−線ファンビーム
を使用する帰還制御されたフラックス等分化Ｘ−線ラジ
オグラフィシステムである。この先行技術の例は、上記
のごとく米国特許第４．４３３，４３０号及びブレウェ
ス他による記事（ラジオロジー誌、第　１４２巻、　７
６５−７Ｇ８ページ（１９ｇ２））である。

ｘ−線の走査ペンシルビームを使用するシステムよりも
これらのシステムか優れる利点は、（ａ）Ｘ−線のさら
にに効果的な使用を通して、発熱負荷（ｈｅａｔ　ｌｏ
ａｄｉｎｇ）か１０ないし２０倍低下し、Ｘ−線管の寿
命か増大すること（なぜならば発熱負荷は走査開口（ｓ
ｃａｎｎｉｎｎｇ　ａｐｅｒｔｕｒｅ＞の面積に対する
、映像視野（ｉｍａｇｅｄ　ｆｉｅｌｄ）の面積の比に
比例し、走査ファンビームに使用される開口は走査ペン
シルビームに使用される開口よりも普通１０ないし２０
倍大きいからである）　、（ｂ）像映過程を完了するに
必要な時間がより短いために、患者の動きの問題がより
小さいこと、（Ｃ）走査ペンシルビームシステムは重複
する走査線間の間隔及びＸ〜線ススポット照射点）の大
きさ及びプロフィルを正確に制御しなければならないた
め、走査上の偽情報（ｓｃａｎｎｉｎｎｇａｒｔ　ｉ　
ｒａｃｔｓ）か少ないこと、（ｄ）発熱が低いことによ
りＸ−線管の冷却時間か短い結果、患者処理率が高く、
検査間の待ち時間がより短いこと、である。

走査ファンビームシステムはまた、Ｘ−線若しくは光学
的マスクを使用するシステムよりも多くの利点を有する
。それらの利点とは、（ａ）　Ｘ−線若しくは光学マス
クを作製し、またその後に整合（ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉ
ｏｎ＞するのに急ぐ必要かないこと、（ｂ）患者の減衰
情報（ａｔｔｅｎｕａｔｉｏｎ　ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏ
ｎ）を得る過程と最終的な像映過程との間の時間遅延か
はるかに小さいために、患者不整合の問題がはるかに小
さいこと、（Ｃ）散乱Ｘ−線の減少がはるかに小さいこ
とである。

しかし、ファンビームシステムの主な欠点はフレッツェ
ルおよびプレウェスにより指摘されたところによればフ
ラックス等分化は走査方向にのみ適用され、走査と直交
する方向には適用されないことである。すなわち帰還信
号はＸ−線源若しくは作動周期（ｄｕｔｙ　ｃｙｃｌｅ
）を制御するのに使用され、ファンビーム全体にわたる
一様なＸ−線強度を与えるようにされる。この−次元帰
還制御フラックス等分化法は保全体に対する補償を与え
ることはできず、また走査上の偽情報を与えやすい。実
際、ブレウェス他は上記記事において走査ベンビームシ
ステムはこの欠点を克服する唯一の方法であると結論し
ている。フレッツエルにより示唆された本システムは２
個のファンビームををする。１個のファンビームは患者
減衰情報を得るための監視用ビームとして使用され、第
２のファンビームは映像に使用される。しかし、同一の
Ｘ−線源が両方のファンビームに使用され、かつ線源強
度変調が監視用ファンビームにも影響するので、システ
ムの帰還制御がいかに適切に機能するのかは明確でない
。また、フレッツエルのシステムは各像映ビームが異な
る変調を必要とするので、１個より多い像映ビームを支
持することかできないことも明白である。

Ｘ−線ファンビーム型の帰還制御されたフラックス等分
化像映法に関する。に記及び他の問題は、走査Ｘ−線フ
ァンビームフランクス等分化システムである本発明によ
って、克服できる。本発明は、ファンビームについて（
走査方向と直交する方向に）患者減衰を補償することの
必要性に応じて、ファンビームについて１夏数地点にて
Ｘ−線強度が変調できるようにされた動的帰還制御され
たフラックス変調列装蓋と連動する。本フラックス等分
化システムは、はとんどの場合ファンビーム源と像映装
置との間に配置され、患者の後方に配置された検出器列
であって、ファンビームに沿った複数地点にて患者を等
化したＸ−線強度を検出しかつそれらの地点で検出され
たＸ−線強度を表す出力信号を発生するための検出器例
と、Ｘ−線源及び患者の間に配置されたＸ−線フラック
ス変調器列と、制御信号に応答してファンビーム沿いの
複数地点にてＸ−線ファンビームの強度を変調するため
のＸ−線フラックス変調器列と、その検出器信号を処理
してから適当な制御信号を上記フラックス変調器列に印
加して検出器によりほぼ等分化された、かつ予定のブラ
ックスレベルか検出されるまでファンビーム沿いの複数
地点にてＸ−線フラックスを増加又は減少せしめる帰還
制御回路と、を含む。

本発明の好ましい実施例では、ファンビームを横断する
複数地点にて、露光中に走査方向に移動可能なンヤッタ
でファンビームの局所的幅を変、凋することにより、フ
ラックス変調が達成される。

すなわちファンビームの幅は、患者減衰が非常に高い“
厚い”患者領域に対して非常に幅か広く、ファンビーム
の幅は患者減衰が非常に低い“薄い″患者領域に対して
非常に狭い。

フラックス変調のこの方法は、二つの独特の利点を有す
る。その第一の利点は、Ｘ−線スペクトルか“薄い”患
者領域に対して実質上変化しないことである。これはニ
ドホルム他及びミストレッタ他の場合と異なる。彼らの
Ｘ−線マスクは、”厚い”患者領域には薄い吸収体が使
用され、“薄い”患者領域には厚い吸収体が使用される
ように患者減衰を補償するＸ−線吸収体で作製される。

このようにしてＸ−線スペクトルの軟成分が、“増強像
コントラストを与えるために軟成分が最も必要とされる
“厚い”患者領域から実質的に除去される（すなわちＸ
−線ビームが硬化される）。第二の利点は、“薄い“患
者領域に対する効果的な露光時間がより狭くされたファ
ンビーム幅によって非常に短くされることである。それ
ゆえ、患者の動きが最も面倒な問題となる“薄い”患者
領域における患者の動きの問題か低減される。フレイブ
他及びブレウェス他の走査ペンシルビーム装置では局所
的ビーム幅変調は許されない。その理由はペンシルビー
ム開口の寸法は一定に保たれなければならないからであ
る。したがって、このＩＩＩ点により　“薄い″患者領
域においてベンンルビーム装置より１０ないし２０倍短
い露光時間にて本ファンビーム装置を作動することが可
能となる。

本発明は上に議論した他の帰還制御式フラックス等分化
システムに比しても、ファンビーム帰還制御式フラック
ス等分化システムのすべての利点を保持している。走査
ペンシルビームシステムよりもＸ−線の利用度に関して
さらに効果的であると同時により速い実時間システムで
あり、また走査上の偽情報を受けにくい。それゆえ、こ
の発明は患者の動きの問題に左右されにくく、またＸ−
線管に対する加熱負荷が少なくてすむ。さらに、本発明
はニドホルム他及びミストレッタ他のＸ−線マスクシス
テムよりもはるかに良い散乱Ｘ−線除去ができる。

本発明の別の実施例では、Ｘ−線の利用かさらに改迫さ
れると共にＸ−線管に対する加熱負荷がさらに低減され
るように、数本の平行な走査ファンビームが使用される
。この実施例の設計変更では、第一の走査ファンビーム
が監視用先行（ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）ビームとして使用
され、その追打＜ｔｒａ口ｉＢ）ファンビームはフラッ
クス等分化像映ファンビームである。この監視用ファン
ビームは低い被爆率でＸ−線減衰データを集めるときの
み使用される。退行像映ファンビームは、監視用ファン
ビームにより集められたデータに基づいて帰還コンピュ
ータから変調信号を得る。監視用ファンビーム及び像映
ファンビームは構造上同一で、相互に空間的に整合され
、ファンビーム間には短い露光時間遅延があるので、不
整合の問題及び患者の動きの問題は取るに皐らない。こ
の方法ではまた、監視用ビームがフラックス変調器を必
要とせず、またすべての退行像映ビームが検出器列を必
要としないから、より少ない成分を使用するので、従っ
て、製造費が少なくてよい。

従って、本発明は、Ｘ−線ラジオグラフィシステムにお
いて、Ｘ−線像記録装置に対する、実質的に実時間帰還
制御されたフラックス等分化を与えることを目「白とす
る。

本発明の他の［１的は、Ｘ−線ラジオグラフィシステム
において、実質的にＸ−線スペクトルを変えずにフラッ
クス等分化を与えることである。

本発明の別の目的は、Ｘ−線ラジオグラフィシステムに
おいて、患者の“より薄い”領域により短い露光時間の
フラックス等分化を与えることである。

本発明の他の目的は、Ｘ−線ラジオグラフィシステムに
おいて、患者から散乱されるＸ−線をより多く除去した
フラックス等分化を与えることである。

本発明のさらに別の目的は、Ｘ−線ラジオグラフィシス
テムにおいて、Ｘ−線管に対する加熱負荷か最小限に増
加したフラックス等分化を与えることである。

本発明のさらに別の目的は、Ｘ−線ラジオグラフィシス
テムにおいて、患者の動きの問題、走査上の偽情報、及
び患者の不便を低減したフラックス等分化を与えること
である。

本発明のこれらの特徴及び利点は、添付の図面と併せて
以下の明細書を精読すればさらに明確となろう。各図面
では同様の構造部には同様の文字を用いている。

ここでさらに第１図、第２図、及び第３図を参照すると
、Ｘ−線源（１０）が幅広Ｘ−線ビーム（５）を発生し
、このビームは、Ｘ−線ビーム（５）を患者（１８）に
照射する幅広のファンビーム（７）に変換するための、
水平なスロット形状の開口（１４）の第一コリメータ（
１２）に当たる。患者の後方には開口（１４）に整合さ
れた、対応する水平スロット形状の開口（２２）付き第
２コリメータ（２０）がある。このコリメータ（２０）
は実質的に患者により散乱されたＸ−線（１９）が像映
パネル（２４）に到達するのを遮断する。

開口（２２）に整合されて、特定の用途に応じてＸ−線
検出器又は写真光学的（ｐｈｏｔｏ−ｏｐｔ　ｉｃ）検
出器のいずれでよい個別的検出器（２８）の列（２Ｂ）
がある。検出器列（２６）及びコリメータ（２０）の間
にはＸ−線像映パネル（２４）が配置されている。この
パネルはＸ−線フィルム・カセット又は記憶燐カセット
（ｓｔｏｒａｇｅｐｈｏｓｐｈｏｒ　ｃａｓｓｅｔｔｅ
）又はゼロックスカセット又は他のパネル形状の像映記
録装置で良く、その場合は検出器（２８）及びＸ−線検
出器であり、あるいはフィルム又はテレビジョンカメラ
その他の像ピックアップ装置に光学的に結合されたＸ−
線像強調装置でよい。後者の場合は検出器は写真光学的
検出器でよい。

コリメータ（１２，２０）は検出器列（２６）と同様に
、破線（３２）により示されるように共に駆動装置（３
４）に機械的に結合される。これら３個の素子を別の符
号化された駆動器で同期駆動することも同様に可能であ
る。そのような走査装置は当業者に良く知られているの
で、ここにはさらに詳述しない。

列（２６）の検出器（２８）の出力はループ帰還回路（
３０）に印加される。この帰還回路の出力が第１コリメ
ータ（１２）の開口上に配置されたフラックス変調器（
１６）を制御する。この帰還制御回路（３０）は検出器
（２８）からの出力信号に応答して、フラックス変調器
（１６）によって、開口を通過するＸ−線フラックスを
自動的に低減する。その結果Ｘ−線ビームに沿って検出
器（２８）の入力端におけるＸ−線フラックスレベルを
実質的に等分にかつ一定に維持する。

しかも、このフラックス制御は、コリメータ（１２，２
０）及び検出器列（２６）は患者（１８）の体を走査す
る際、連続的に変化する動的過程である。

「等分化フラックスレベル」という用語が、患者から出
るＸ−線フラックスはどこの点でも等分であることを意
味する、と解してはならないことを了解されたい。さも
ないと、医師にはなんの診断情報も利用できない。この
用語は、各検出′ｒｉ（若しくは一部の検出器）によっ
て捜索される領域に対応した領域を有する一連の仮想的
な「窓」の平均的フラックスがファンビームにわたり等
分であるということである。そのような各仮想的窓内で
、Ｘ−線フラックスはＸ−線像情報に応じて変化する。

さらに第６図を参照すると、フラックス変調器の一形式
の一部か例示されている。第２図に見られるように、フ
ラックス変調器（１８）は線源（１０）から来るＸ−線
ビーム（５〉にわたって配列された一部の個別セル（１
７）から成り立っている。各セル（１７）は好ましくは
、列（２６）の１個以上の検出器（２８）に当たるＸ−
線ビームの一部に相対応する。特定のセル（１７）が対
応の検出器（２８）に当たるＸ−線フラックスの量を制
御するためには、ファンビームが患者上を走査する際に
ファンビームの局所的幅を減少することにより、Ｘ−線
ビーム（５）の断面積を減少する必要がある。

かくして、第６図に示すように、各セルはＸ−線ビーム
（５）の断面積を限定すべく開口（１４）の入力端を横
断的に運動するシャッタ（３６）を含む。このシャッタ
（３６）は、Ｘ−線に不透明な材料である鉛又はタング
ステンその他の金属等で作られ、帰還回路（３０）から
デジタル又はアナログ形式の制御信号を受信するサーボ
電動機により作動される。各セル（１７）には、対応の
検出器（２８）の出力信号に対応する帰還回路（３０）
の制御の下で作動する、それ自身の独立なシャッタ（３
６）とサーボ電動機（３６）が与えられていることを了
解されたい。

特定の検出器（２８）に到達するＸ−線フラックスが予
定の標準値を超えて増大すると、検出器の出力は大きさ
を増し、その増大が回路（３０）を通して、その特定の
検出器（２８）と整合された対応のフラックス変調セル
（１７）のサーボ電動機（３８）に帰還される。検出器
出力信号のこの増大は、シャッタ素子（３Ｇ）の対応の
再配置を起こすように変換されて、Ｘ−線ビーム中の特
定位置の開口（１４）を狭める。従ってこれにより、Ｘ
−線フラックスの量は、対応の検出器（２８）の出力が
所望のフラックスレベルを表わす予定の規準レベルに達
するまで減少する。

この代わりとして、サーボ電動機（３８）は走査周波数
よりも高い周波数でビーム（５）の通路にシャッタ（３
６）を侵入又は離脱させて、所望の期間または回数だけ
ビームを通過させることができる（走査周波数とは、像
視野を覆う開口数を全走査時間で除したものである）。

これにより実際、ビームの作動周期を制御し、従って患
者及び対応の検出器（２８）の双方により受信される正
味のフラックス量が制御されることとなる。この場合、
ビームが作動する作動周期又は期間は、所望のフラック
スレベルか検出されるまで上記のように対応の検出器出
力の制御の下にある。すなわち、検出器の出力の増加は
、対応の検出器（２８）の出力が予定の規準レベルに等
しくなるまでセル（１７）のビーム作動期間若しくは作
動周期を増大する。

ここでさらに第７図を参照すると、別の形式の変調器の
セルが示されている。このシステムではＸ−線ビーム（
５）の通路中に配置されるシャッタブレード（３６）の
代わりに、各シャッタブレードに代わる複数のフィンガ
（４０）が開口（１４）にまたがって個別に置換的に挿
入されている。これらフィンガは、コンピュータ印字器
に使用されるドツトマトリックスプリントヘッドに類似
の電気機械装置（４２）から突出する。各フィンガは第
６図を参照して上述したように、対応の検出器（２８）
の出力信号に応答して期間回路（３０）によりデジタル
又はアナログで個別に呼び出しできる。

使用された特定の機ｔＭ（４２）に応じて、フィンガ（
４０）の装置に離散的に制御でき、また他の実施例では
フィンガはビームの通路中への挿入、又は通路からの除
去のいずれもできる。第１の方式では、全数のフィンガ
の、ビーム中への進入の程度がフラックス変調セルの開
口の実効幅を、従ってフラックスのレベルを、決定する
。第２の設計変更例では、ビーム中に挿入されるフィン
ガ数に対する開放間隔数の比がフラックスレベルを決定
する。

さらに第３の設計変更例では、フィンガがビーム中に挿
入され又は除去される期間が、帰還回路（８０）により
制御される。再び、ビーム内におけるフィンガの作動周
期が、第６図の単一シャッタに関して上述したようにフ
ラックスレベルを決定する。

フィンガ（４０）はＸ−線に不透′町な材料で作られる
。

従って、フィンガに当たるＸ−線ビームのいかなる部分
も効果的に遮断され、フィンガに当たらないＸ−線ビー
ムのどの部分も通過して患者及び検出器列（２６）に当
たる。上述したすべてのフラックス変調方式の顕著な特
徴は、開口を通過するＸ−線ビームの部分について、Ｘ
−線スペクトルに変化が生じないことである。従って、
一般的には肺領域のような患者のより透明な領域におけ
る低密度組織の検出を強調するのに必要である低エネル
ギーＸ−線は、低減もされず除去もされず、その結果こ
の装置の診断効率に寄与するのである。

ここで第４図を参照すると、本発明の別の実施例が示さ
れている。この実施例では、Ｘ−線の利用度を改良する
と共に、Ｘ−線の加熱負荷を減少させるために複数のＸ
−線ファンビームが使用される。本実施例の各ファンビ
ームは、第１図、第２図、及び第３図に示しかつ上述し
た単一ファンビームと実質的に同一に構成され、かつ作
動する。第４図に示すように各ファンビーム（７）は、
コリメータ（１２，２０）内の自身の対応のスロット（
１４ａ、　２２ａ）と、フラックス変調列（１７ａ）　
、検出器列（２［ｉａ）　、及び帰還制御回路（３０）
を有する。

第４図の場合は、３個のＸ−線ファンビームが図示され
ているが、この像の走査は異なった二方法で達成できる
。一つの方法は、３個すべてのファンビームで一旦全像
視野を、そのＸ−線管が（１１−ファンビームシステム
で必要とされる場合の３分の１だけ作動するように、走
査するものである。もう一つの方法は、像視野の３分の
１だけファンビームを離隔することにより、像視野の３
分の１だけ走査するように各ファンビームを使用するこ
とである。この方法では、全走査時間は、単一ファンビ
ームシステムの全走査時間に比べて係数３だけ低減され
る。これら両方の走査法は、約係数３だけＸ−線管加熱
負荷を低減できる。この係数は使用したファンビームの
数に等しい。

ここでさらに第５図を参照すると、本発明の別の実施例
が示されている。この実施例では、Ｘ−線の利用度を改
良するために再び複数のファンビームが使用されている
が、第１ファンビーム（又は走査方向の先頭ファンビー
ム）が低被爆時のＸ−線減衰情報を集める目的だけのた
めに監視用先行ビームとして使用されるべく、設計変更
されている。

第５図に示すように、コリメータ内の対応の水平スロッ
ト開口（１４ａ、　１４ｂ）により確定される複数の像
映ファンビーム（７ａ、　７ｂ）が、フラックス変調器
列（１７ａ、１７ｂ）によって独立に変調される。これ
ら像映ファンビームはさらに像映パネル（２４）上に当
たる前に、コリメータ（２０）内の水平スロット開口（
２２ａ、　２２ｂ）を通して収束される。

さらにコリメータ（１２）内の狭い水平スロット開口（
１４ｃ）により確定される低強度Ｘ−線群監視用ファン
ビーム４４）は、検出器列（２６）と共に使用されて患
者のＸ−線減衰を測定する。この検出器列（２６）はコ
リメータ（２０）内の水平スロット開口（２２ｃ）の直
後、かつ像映パネル（２４）の前方に配置される第５図
に示すこの装置は次の例外点を除き、他のすべの点で、
第４図に示したものと実質的に同一に構成され、かつ作
動する。

コリメータ（１２，２０）は同期的に作動されて患者（
１８）の全長にわたり、監視用ビーム（４４）を走査す
る。しかし、このＸ−線像映ビームは変調器列（１７ａ
、　１７ｂ）によって強度変調されるのみならず、それ
ぞれ、患者（１８）の上半分及び下半分のみを走査する
ように通電される。かくして、作動上、コリメータ（１
２，２０）は患者（１８）の頭部頂点から監視用ビーム
（４４）が出発するように（又はこのビームが場合によ
っては底部から頭部に、又は側部から側部へと走査でき
るように）配置される。この監視用ビームを検出するこ
により明らかにされるフラックスレベル情報は検出器列
（２６）により集められて、開口（２２ｃ）の走査位置
に関連させて帰還制御コンピュータ（３０）内に記録さ
れる。

開口（１４ａ、　２２ａ）間に引かれた線が患者（１８
）の再上部とちょうど交差する地点（又は患者（１８）
の他の部分で像映走査の開始される地点）にコリメータ
　（１２，２０）が達するとき、フラックス変調器列（
１７ａ、　１７ｂ）が共に開かれ、Ｘ−線像ビーム　（
７ａ、　７ｂ）が患者（１８）を走査する。しかし、ビ
ーム　（７ａ、　７ｂ）を横切るフラックス変調セルが
正しい瓜のＸ−線フラックスのみを通過させるべく制御
され、かつスクリーン（２４）において等分のＸ−線フ
ラックス密度が得られるように、フラックス変調器列（
１７ａ。

１７ｂ）が帰還コンピュータ（３０）の制御の下に作動
される、コンピュータ（３０）は、Ｘ−線ビーム　（７
ａ、　７ｂ）が患者を走査する際、Ｘ−線ビーム　（７
ａ、７ｂ）の当たる対応の検出器列（２６）の出力信号
に対する記憶バンク（ｍｅａ＋ｏｒｙ　ｂａｎｋ）を走
査する。これらの信号は次いで、像ビーム　（７ａ、　
７ｂ）が監視ビーム（４４）により予め走査された患者
の体の同じ点上を走査するときにフラックス変調器（１
７ａ％１７ｂ）を制御するのに使用される。

Ｘ−線像ビーム（７ｂ）が患者（１８）の底部に達した
ときにコリメータ　（１２，２０）による走査は停止す
る。

開口（１４ａ、　１４ｂ　、　１４ｃ　）と開口（２２
ａ、　２２ｂ　、　２２ｃ）間の間隔は、患者（１８）
を走査するときに走査ビーム　（７ａ、　７ｂ）の重複
がないように、選択される。

明らかに、他の実施例では、ビーム　（７ａ、　７ｂ）
について＝に連したと同様に、２個以上の像走査ビーム
が利用できる。

この方法は第４図に関して述べた実施例より構成部分が
少なく、従って製作費において廉価である、その理由は
、監視用ビームはフラックス変調器を必要とせず、また
すべての退行像映ビームが検出器列を必要としないから
である。監視用ファンビームが像映作業を行なわなくて
よいという事実は、便利なことに検出器列（２６）を像
映パネル（２４）の前方に配置することを可能ならしめ
る。検出器列の配置のこの改良は、付加的な製作費の節
約に加えて、像映パネルの設計にさらに大きな自由度を
与える。監視用ファンビーム及び像映ファンビームは構
成が同一であり、相互に空間的に整合されており、監視
用ビームと像ファンビームとの間には短い露光時間遅延
があり、不整合の問題及び患者の動きの聞届が取るに足
らない。

ここでさらに第８図を特定して参照すると、さらに別の
フラックス変調セルが例示されている。

この設計変更例では、第６図に示したシャッタ（３６）
に対応するシャッタ（８０）も、帰還回路（３０）から
の制御信号を受信するサーボ電動機（３８）により、々 制御される。シャッタ（８０）はくさび型であり、これ
を通過するＸ−線を減衰する材料で作られる。従って開
口（１４）に対するこのくさび型シャッタ（８０）の位
置が、これを通過するＸ−線ビーム（５）のフラックス
密度を制御する。ビーム（５）を遮断するくさびの部分
が厚いほど、くさびの薄い部分のみがビームと交差する
場合よりも、くさびの一方側でＸ−線ビームがより多量
に減衰される。

この実施例は低エネルギーＸ−線が患者の“薄い“部分
内で非比例的に減衰されるという欠点を有する。

上記の実施例に述べたファンビームの幾何学的配置及び
フラックス変調器についてのさらに詳細な考察を以下に
述べる。適度のＸ−線利用効率のみならず良好の散乱Ｘ
−線除去を得るためには、標章的胸部Ｘ−線検査用の場
合、像映面（像映パネル（２４）の面）におけるファン
ビームの寸法か幅（１／〉１０ｍｍないし４０ｍｍで、
長さくＧ）を４３２　ｍｍとすべきである。ファンビー
ムのこの幅はＸ−線利用効率に比例し、像映走査を行な
うに要するＸ−線管加熱負荷に反比例するが、ファンビ
ームのこの幅は散乱Ｘ−線除去能力に反比例する。

フラックス変調器は、変調器におけるファンビーム幅（
又は変調過程期間中シャッタブレードが受は持たなけれ
ばならない距離）が小さくなるように、Ｘ−線源に近接
して配置すべきである。しかし、もしも変調器がＸ−線
源に対し余り近くに配置されると、Ｘ−線源（焦点）が
有限寸法であることによるＸ−線陰影（ｐｅｎｕｍｂｒ
ａ）が像映面にて大きくなり過ぎ、また等分化過程が使
用するには余りにも大きくなり過ぎる（空間的周波数が
低すぎる）こととなる。上記の理由のため、フラックス
変調器及び像映パネル間の距離（Ｄ）の、フラックス変
調器及びＸ−線源点（焦点）間の距離（ｄ）に対する比
は、５ないし２５の範囲であるべきである。すなわち、 」Ｌ−５ないし２５ 大きさ　ｌ　、　Ｏｍｍの実用的なＸ−線焦点（「）の
場合、本フラックス変調器にこの範囲の配置をあたえた
ときの像映面における対応の１−線陰影寸法（ｐ）は５
ないし２５　ａｍである。すなわち、ｐ−ｆ　（Ｄ／ｄ
） ２２ｍｍの幅（Ｗ）を有したファンビームの場合、フラ
ックス変調器におけるファンビーム幅（Ｗ）の範囲は３
．６７ないし０　、８５　ｍｍであり、これがシャッタ
ブレードの担当しなければならない距離である。すなわ
ち、 ｗ　＝　Ｗ／　　（１＋　Ｄ／ｄ） 走査偽情報源を最小にするためには、シャッタブレード
の幅（ａ）は、投影面上のそのＸ−線の影が焦点寸法に
起因するＸ−線陰影の寸法の２倍内にあるように、十分
小さくされるべきである。

すなわち、 フラックス変調器におけるファンビームの長さくｇ）は ｇ−Ｇ／　（１＋１〉 なので、フラックス変調１器内のシャッタブレードの数
（Ｎ）は、ｇ／ｓに過ぎない。すなわちＮさＷ／（ｆ７
） Ｗ　−４３２ｍｍ５　　ｆ　−１，０＋１ｌＩＩで、Ｄ
／ｄ−１０ないし２０の場合は、フラックス変調器内の
シャッタブレードの数は４０ないし２０の範囲内である
。約Ｉ）／ｄ−２（１あたりでは、フラックス変調器に
おけるファンビーム幅及びシャッタブレード幅は共に寸
法的１．０ｍｍで、シャッタブレードはしたがってＸ−
線ビームにとって正方形に見える断面を何する。２０よ
り小さいＤ／ｄでは、ファンビーム幅はシャッタプレー
ト幅より大きい。

シャッタブレード（３６）はＸ−線ファンビームに対し
て垂直な正方形もしくは長方形の断面を持ちうるか、フ
ァンビームの平面内における断面は、発散的ファンビー
ム形状によりよく適合するために不等辺四辺形としてよ
い。

フラックス変調器シャッタブレード（３Ｇ）内に使用さ
れるＸ−線吸収材及びくさび型ンヤッタ（８０）は、多
数の材料群から選択できる。例えば、材料は一つ以上の
次の元素を含む金属また合金又は化合物でもよい。元素
とは、Ｐｂ１旧、Ｔａ、　ＷＳＮｏ、　Ｅｄ。

Ｐ　ｅ　、旧、０１％　Ｃ０１８ａｓ　００％及び稀土
類元素である。

走査検出器（２Ｇ）の列の各検出器素子（２８）はＸ−
線検出器ダイオードでよく、またそれは例えば、シリコ
ンダイオード光検出器又は光増倍管に接続された、稀土
類強調スクリーン又はＣｓｌスクリーン又はＢＧＯクリ
スタル又はＣｄＷＯ４クリスタル等のシンチレータで作
られてもよい。この検出器列はまた、自己走査シリコン
ダイオード又はテレビジョンカメラに接触接続された又
はレンズ若しくは光フアイバ管束で光学的に接続された
シンチレータスクリーンでもよい。保強調器もまた、増
幅信号を与えるために検出器の一部として使用できる。

上記実施例の検出器列（２６）は、ファンビームに結合
され、ファンビームと歩を合わせて運動される。しかし
、フィルム−スクリーンカセットのような平面的像映パ
ネルの場合におけるように、ある種の幾何学配置では、
これら検出器列はファンビームの平面に垂直に指向され
た細帯形状の検出器素子からなる静的バンクで置換され
る。すなわち、各検出器素子（２８）は像視野の全幅に
等しい長さを何した長い細帯形状の検出器で作られ、全
走査期間中、その対応のフラックス変調器素子（１丁）
に整合される。これら検出器細帯は、ニドホルム他（米
国特許第３，７５５，６７２号、第１０列、行５１、及
び第９図を参照）により開示された長い検出器と形状及
び動作が非常に類似する。

フランクス等分化情報が与えられる像記録器（２４）は
単純なＸ−線フィルム又はＸ−線フイルムースクリーン
カセットでよい。それはまた、自動的フィルム交換器、
又は保強調フィルム又は保強調テレビジョンシステムで
もよい。それはまた、後に回復される潜在的Ｘ−線像を
記録することのできる特別の像映カセットでよい。

−Ｌ述したように、すべての実施例では帰還制御回路（
３０）は患者を通過した検出Ｘ−線通過信号に基づいて
フラックス変調器に対する信号を導出する。

フラックス変調器のＸ−線通過量と像視野の任意点にお
ける患者のＸ−線通過量との積は一定でなければならな
い。すなわち変調器（１７）の任意の一つの素子の通過
量は、その対応の点における患者の通過量に反比例して
変わる結果、検出器（２８）の対応の素子により受信さ
れた合成信号はすべての他の検出器素子から得られる信
号と本質的に同じである。

本発明のシステム作動についてのさらに詳細な考察を以
下に述べる。胸部Ｘ−線用の在来のラジオゲラフィンス
テムは、代表的な場合、中速度フィルムカセット、ｌＯ
：１グリツド、光タイマ、および１２５Ｋｖｐ−４００
ｍＡで作動する、線源−検出器間距離７２インチの３位
相１ｚパルスのＸ−線発生器で構成される。弔均的患者
の場合、代表的露光時間はＰＡ視（ｐＡ　ｖｉｅｗ）に
対して約１０５９秒で、横断方向に対して約３０ミリ秒
である。

単一のファンビームのみと結合されたシステムでも、本
発明は類似の露光時間をもち、より良好な散乱Ｘ−線除
去をできる帰還制御フラックス等分化フィルムを与える
ことができる。本システムのパラメータは次の通りであ
る。像映面におけるファンビームの寸法は幅２５＋＋＋
ｍ、長さ　４３２　＋ｎｎ＋である。

Ｄ／ｄは約１５ないし２０である。全走査時間は約１秒
である。本システムは中速度フィルムースクリーン力セ
ント、線源−検出器距離７２インチ、グリッドなしで作
動される。発生器はＰＡ視には１２５Ｋｖｐ。

１５０ｍＡで、また横断視には４５０ｍＡで作動される
。

多重ファンビームを用いる場合は、本システムはさらに
適合性が増し、加熱負荷か減少する。

ガンマか３より大きく、より高いコントラスト強調係数
を有するＸ−線フィルムを本発明のシステムの等分化フ
ィルムとして使用することにより、診断価値の一層の改
善か得られる。すでに大きな領域が露光過剰であるか又
は露光不足である在来のラジオグラフィシステムでは、
より高いコントラスト強調フィルムが使用できない。

このシステムの走査が任意の方向若しくは方角で遂行出
来ることは明白である。しかし製作の用意のためには、
走査の方向は患者（１８）の背骨に平行すべきである。

しかし散乱Ｘ−線除去のためには、走査方向は患者の背
骨に垂直とすべきである。本フラックス等分化発明はほ
とんどの医学的ラジオグラフィ検査に対してと同様に工
業的ラジオグラフィに検査に適用できることも明白であ
る。

こ−に使用した用語及び表現は説明のために使用された
のであり、限定のためではなく、これら用語及び表現の
使用において図示し若しくは説明した特徴及びその部分
と等化のものを排除する意図ではない。特許請求の範囲
内で種々の設計変更が可能であることを了解されたい。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による第１の実施例を例示する路線透
視図である。第２図は全体として第１図の線２−２に沿
って取られた路線断面図である。第３図は全体として第
１図の線３−３に沿って取られた路線断面図である。第
４図は本発明の第２実施例の路線鉛直断面図である。第
５図は本発明の第３実施例の路線鉛直断面図である。第
６図は本発明の第５実施例の７ラツクス変調器について
の、一部削除したときの拡大鉛直断面図である。第７図
は本発明の第６実施例に基づくフラックス変１″Ｂ器の
、一部削除して断面で示した、拡大透視図ある。第８図
は、本発明の第７実施例に基づくフラックス変調器の、
一部削除した拡大鉛直断面図である。 ５Ｘ−線ビーム ７　　　　　　　　ファンビーム １Ｏ−ｘ−線源 Ｉ２．２０　　・　　　　コリメータ １４．２２　　　　　　開口 １６．１７　　　　　　検出器 Ｉ８　　　　　　　　患者 ２４　　　　〜　　Ｘ−線像映パネル ２６　　　　　　　　検出器列 ２８　　　　　　　　検出器 ３０　　　　　　　　帰還回路 ３４．３６　　　　　　駆動器 ３６．８０　　　　　　シャッタ ４０　　　　　　　　　フィンガ ４２　　　　　　　　電気機器 ４４　　　　　　　　監視用ビーム 特許出願代理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）ファンビームを発生し、かつ該Ｘ−線ファンビーム
   を対象物上を走査させるためのＸ−線源と、該対象物を
   通過したＸ−線フラックスを検出するため、該対象物と
   反対側に配置された検出器と、を有する形式のＸ−線走
   査装置であって、 該ファンビームを横断する多重地点にて該対象物を通過
   したＸ−線フラックスを検出するべく、かつそれら地点
   にて検出されたフラックスを表す電気信号を出力するべ
   く、該Ｘ−線ファンビームを横断して配置された検出器
   列を含む検出器と、該ファンビームを横断する多重地点
   にて該Ｘ−線ファンビームの強度を変調するためのＸ−
   線フラックス変調器と、 該ビームを横断する多重地点にてビームフラックスを変
   調しうるように該フラックス変調器を制御すべく該検出
   器列の該出力電気信号の印加される帰還回路にして、該
   ビームの全スペクトルが各特定の該地点にて実質的に等
   分化されるように変調される結果、該列により検出され
   た該フラックスが実質的に該ビームにまたがり等分とな
   るようにされた、帰還回路と、 を含むことを改良点とするＸ−線走査装置。 ２）特許請求の範囲第（１）項に記載のＸ−線走査装置
   において、該Ｘ−線変調器が該地点の各々においてＸ−
   線ファンビームの断面積を選択的に変更するようにされ
   たＸ−線走査装置。 ３）特許請求の範囲第（１）項に記載のＸ−線走査装置
   にして、該対象物を通過したＸ−線ファンビームの視覚
   的に認識可能な像を生成する装置をさらに含むようにさ
   れたＸ−線走査装置。 ４）特許請求の範囲第（３）又は（１３）項に記載のＸ
   −線走査装置において、該像映装置が該対象物と該検出
   器列との間に配置されている、Ｘ−線走査装置。 ５）特許請求の範囲第（３）又は（１３）項に記載のＸ
   −線走査装置において、該検出器列が該対象物と該像映
   装置との間に配置されている、Ｘ−線走査装置。 ６）特許請求の範囲第（１）項に記載のＸ−線走査装置
   において、該Ｘ−線源が同時的に監視用Ｘ−線ファンビ
   ームと複数の像映Ｘ−線ファンビームとを発生し、かつ
   該対象物上を走査し、その場合、該監視用ビームが該像
   映ビームに先行し、該フラックス変調器がビームを横断
   する多重地点にて各像映Ｘ−線ビームを個別に変調し、
   該検出器列が該監視用ビームと整合された状態で該Ｘ−
   線源の反対側で該対象物を走査し、該検出器列は特定の
   地点を通過する該監視用ビームの通過とその同一地点を
   通過する該像映ビームのその後の通過との間の時間的差
   異を補償するべく該フラックス変調器に対する出力信号
   を遅延させる時間遅延回路を含むようにされた、Ｘ−線
   走査装置。 ７）特許請求の範囲第（１）又は（１３）項に記載のＸ
   −線走査装置において、該フラックス変調器が、該検出
   器列からの出力信号に応答して該Ｘ−線ビームの通路中
   に選択的に伸張できる棒にして、Ｘ−線に不透明な複数
   の棒の束を含むようにされた、Ｘ−線走査装置。 ８）特許請求の範囲第（７）項に記載のＸ−線走査装置
   において、該検出器の出力信号が当該束の棒の位置を制
   御するようにされ、検出器に当たるＸ−線ビームの覆う
   面積をいろいろの離散的面積とすることにより該Ｘ−線
   ビームフラックスを調整するように各棒の束が配置され
   る、Ｘ−線走査装置。 ９）特許請求の範囲第（８）項に記載のＸ−線走査装置
   において、該棒が対応の検出器の出力信号の大きさによ
   り制御される速さで振動的に該ビームの通路中に出入り
   するようにされた、Ｘ−線走査装置。 １０）特許請求の範囲第（８）項に記載のＸ−線走査装
   置において、該棒が対応の検出器の出力信号の大きさに
   より制御される長さに、該ビーム中に伸張されるように
   された、Ｘ−線走査装置。 １１）特許請求の範囲第（１）又は（１３）項に記載の
   Ｘ−線走査装置にして、前散乱コリメータ及び後散乱コ
   リメータならびに両コリメータと該検出器列を連動させ
   てかつ整合させて該対象物上を掃引すべく運動させる装
   置がさらに含まれる、Ｘ−線走査装置。 １２）特許請求の範囲第（１）又は（１３）項に記載の
   Ｘ−線走査装置において、該フラックス変調器が該Ｘ−
   線源と該対象物との間に配置された、Ｘ−線走査装置。 １３）Ｘ−線ファンビームを発生し、かつ患者等の対象
   物上を該Ｘ−線ファンビームを走査せしめるＸ−線源及
   び該患者を通過した該Ｘ−線ファンビームを視覚的に像
   映する装置と共に用いるＸ−線フラックス制御装置であ
   って、 該ファンビームを横断する多重地点にて該対象物を通過
   したＸ−線フラックスを検出すべく、かつそれら地点に
   て検出されたフラックスを表す電気信号を出力すべく、
   該Ｘ−線ファンビームを横断して配置された検出器列を
   含む検出器と、 該ファンビームを横断する多重地点にて該Ｘ−線ファン
   ビームの強度を変調するためのＸ−線フラックス変調器
   と、 該ビームを横断する多重地点にてビームフラックスを変
   調しうるように該フラックス変調器を制御すべく該検出
   器列の該出力電気信号が印加される帰還回路にして、該
   ビームの全スペクトルが各特定の地点にて実質的に等分
   となるように変調される結果、該列により検出された該
   フラックスが実質的に該ビームにまたがり等分となるよ
   うにされた、帰還回路と、 を含むことを改良点とするＸ−線フラックス制御装置。 １４）特許請求の範囲第（１３）項に記載のＸ−線フラ
   ックス制御装置において、該Ｘ−線変調器が該地点の各
   々において該ビームの走査運動方向におけるＸ−線ファ
   ンビームの断面積を選択的に変更するようにされたＸ−
   線フラックス制御装置。 １５）特許請求の範囲第（１）項に記載のＸ−線フラッ
   クス制御装置にして、該Ｘ−線ファンビームを該対象物
   上、監視用Ｘ−線ファンビームと複数の像映Ｘ−線ファ
   ンビームとに分割する装置をさらに含み、その場合、該
   監視用ビームが該像映ビームに先行し、該フラックス変
   調器がビームを横断する多重地点にて各像映Ｘ−線ビー
   ムを個別に変調し、該検出器列が該監視用ビームと整合
   された状態で該Ｘ−線源と反対側で該対象物を走査し、
   該検出器列は特定の地点を通過する該監視用ビームの通
   過とその同一地点を通過する該像映ビームのその後の通
   過との間の時間的差異を補償するべく該フラックス変調
   器に対する出力信号を遅延させる時間遅延回路を含むよ
   うにされた、Ｘ−線フラックス制御装置。 １６）ファンビームを発生する、かつＸ−線ファンビー
   ムを該対象物上を走査させるＸ−線源と、該対象物と反
   対側に配置され、該対象物を通過したＸ−線フラックス
   を検出するための検出器と、を有する形式のＸ−線走査
   装置のフラックス強度を変調する方法であって、 該ファンビームを横断する多重地点にて該対象物を通過
   したＸ−線フラックスを検出し、かつそれら地点にて検
   出されたフラックスを表す電気信号を出力する段と、 該ファンビームを横断する多重地点にて該Ｘ−線ファン
   ビームの強度を変調する段と、 該ビームを横断する多重地点にてビームフラックスを変
   調しうるように該フラックス変調器を制御すべく該電気
   信号に応答して該フラックス変調器を制御する段にして
   、該ビームの全スペクトルが各特定の地点にて実質的に
   等分となるように変調される結果、該列により検出され
   た該フラックスが実質的に該ビームにまたがり等分とな
   るようにされた制御段と、 を含むフラックス変調方法。 １７）特許請求の範囲第（１６）項に記載のフラックス
   変調方法において、該地点の各々においてＸ−線ファン
   ビームの断面積を選択的に変更する段を含むフラックス
   変調方法。 １８）特許請求の範囲第（１６）項に記載のフラックス
   変調方法において、ガンマが３より大きな高コントラス
   トＸ−線フィルム上に、該対象物を通過する該Ｘ−線フ
   ァンビームを像映する段をさらに含むフラックス変調方
   法。 １９）Ｘ−線走査方法であって、 対象物上に監視用Ｘ−線ファンビームと複数の像映Ｘ−
   線ファンビームを同時的に発生し、かつ走査せしめる段
   にして、該監視用ビームが該像映ビームに先行するよう
   にされた段と、 該走査方向に垂直な方向に該監視用ビームを横断した多
   重地点にて該対象物を通過する監視用ビームを検出する
   と共にそれら地点の該フラックス強度を表す出力信号を
   発生する段と、 特定の地点における該監視用ビームの通過とその同一地
   点をその後に通過する該像映ビームの通過との間の時間
   差を補償すべく出力信号を遅延させる段と、 該遅延出力信号に応答して該像映Ｘ−線ビームにまたが
   る多重地点における各像映Ｘ−線ビームを個別に変調す
   る段と、 を含むＸ−線走査方法。