JPS62128125A - ウエハ洗浄装置 - Google Patents
ウエハ洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62128125A JPS62128125A JP26750285A JP26750285A JPS62128125A JP S62128125 A JPS62128125 A JP S62128125A JP 26750285 A JP26750285 A JP 26750285A JP 26750285 A JP26750285 A JP 26750285A JP S62128125 A JPS62128125 A JP S62128125A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- washing
- cleaning
- tank
- chuck
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は、2つの洗浄槽を上下2段に配設したウェハ洗
浄装置に関するものであり、各洗浄槽で異なった種類の
洗浄液を使用可能にしたものである。
浄装置に関するものであり、各洗浄槽で異なった種類の
洗浄液を使用可能にしたものである。
[従来の技術]
従来のこの種の洗浄装置は、第2図に示すように洗浄槽
1の底部に回転真空チャック2が配設され、このチャッ
ク2の上方に洗浄用ブラシ3およびジェット水流洗浄用
ノズル4等が配設されている。
1の底部に回転真空チャック2が配設され、このチャッ
ク2の上方に洗浄用ブラシ3およびジェット水流洗浄用
ノズル4等が配設されている。
このように構成された洗浄装置はウェハ搬送ライン5の
下方に配設され、ライン5によって搬送されてくるウェ
ハ6をチャック2で保持して回転させながら、ノズル4
から噴射する洗浄液および洗浄用ブラシ3によってウェ
ハ6を洗浄するものである。
下方に配設され、ライン5によって搬送されてくるウェ
ハ6をチャック2で保持して回転させながら、ノズル4
から噴射する洗浄液および洗浄用ブラシ3によってウェ
ハ6を洗浄するものである。
[発明が解決しようとする問題点]
従来の洗浄装置は上述の如く構成されているが、この洗
浄装置には次のような問題点が指摘されている。すなわ
ち、洗浄槽1が搬送ライン5の下方に配設される関係上
、洗浄槽1内の洗浄用ブラシ3や洗浄用ノズル4等のメ
インテナンスが困難であり、またこのため使用可能な洗
浄液が槽1やブラシ3やノズル4の清掃等メインテナン
スの頻度が少なくて済むもの例えば純水等に限定される
。
浄装置には次のような問題点が指摘されている。すなわ
ち、洗浄槽1が搬送ライン5の下方に配設される関係上
、洗浄槽1内の洗浄用ブラシ3や洗浄用ノズル4等のメ
インテナンスが困難であり、またこのため使用可能な洗
浄液が槽1やブラシ3やノズル4の清掃等メインテナン
スの頻度が少なくて済むもの例えば純水等に限定される
。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、上述のような問題点を解決するために検討し
て到達したものであって、ウェハ搬送うインを挾んでそ
の上方に上部洗浄槽を、下方に下部洗浄槽をそれぞれ配
設し、上記上部洗浄槽内に洗浄用器具を配設するととも
に、上記上部洗浄槽から下部洗浄槽にウェハを移動させ
る移動手段を配設したウェハ洗浄装置に関する。
て到達したものであって、ウェハ搬送うインを挾んでそ
の上方に上部洗浄槽を、下方に下部洗浄槽をそれぞれ配
設し、上記上部洗浄槽内に洗浄用器具を配設するととも
に、上記上部洗浄槽から下部洗浄槽にウェハを移動させ
る移動手段を配設したウェハ洗浄装置に関する。
[作 用]
上述のように構成された本発明のウェハ洗浄装置におい
ては、上部洗浄槽がウェハ搬送ラインの上方に配設され
ている関係上、上部洗浄槽内の洗浄用器具のメインテナ
ンスを容易に行なうことができる。このため、上部洗浄
槽と下部洗浄槽で純水に限らずその他の各種洗浄液の自
由な使用が可能となり、理想的なウェハの洗浄を行なう
ことができる。しかも、洗浄槽を上下2段に構成してい
るので、洗浄装置の設置スペースは従来と変わらず、工
場床面積の有効利用を図ることができる。
ては、上部洗浄槽がウェハ搬送ラインの上方に配設され
ている関係上、上部洗浄槽内の洗浄用器具のメインテナ
ンスを容易に行なうことができる。このため、上部洗浄
槽と下部洗浄槽で純水に限らずその他の各種洗浄液の自
由な使用が可能となり、理想的なウェハの洗浄を行なう
ことができる。しかも、洗浄槽を上下2段に構成してい
るので、洗浄装置の設置スペースは従来と変わらず、工
場床面積の有効利用を図ることができる。
[実施例]
以下、具体的に図面を用いて実施例を説明する。
第1図は本発明に従って構成したウェハ洗浄装置を示し
たものであって、同図において5はつエバ搬送ラインで
あり、この搬送ライン5を挾んでライン5上方に上部洗
浄槽10が、またライン5下方に下部洗浄槽11がそれ
ぞれ配設されている。上部および下部洗浄槽10は有底
四角柱形状、11は有底円筒形状に形成されており、そ
れぞれの底部中央には円形の開口部12.13が形成さ
れている。
たものであって、同図において5はつエバ搬送ラインで
あり、この搬送ライン5を挾んでライン5上方に上部洗
浄槽10が、またライン5下方に下部洗浄槽11がそれ
ぞれ配設されている。上部および下部洗浄槽10は有底
四角柱形状、11は有底円筒形状に形成されており、そ
れぞれの底部中央には円形の開口部12.13が形成さ
れている。
上部洗浄槽10内には、洗浄用ブラシ3およびジェット
水流洗浄用ノズル4が配設されている。また開口部12
の真上位置に洗浄液を滴下する2本のノズル14.15
が配設されている。
水流洗浄用ノズル4が配設されている。また開口部12
の真上位置に洗浄液を滴下する2本のノズル14.15
が配設されている。
一方、下部洗浄槽11内には回転真空チャック2が配設
され、このチャック2の回転軸16は間口部13を通っ
て下方へ延び、モータ17に連結されている。なお、チ
ャック2とモータ17はエアシリンダ18によって一体
的に昇降駆動できるようになっている。
され、このチャック2の回転軸16は間口部13を通っ
て下方へ延び、モータ17に連結されている。なお、チ
ャック2とモータ17はエアシリンダ18によって一体
的に昇降駆動できるようになっている。
上部洗浄槽10と下部洗浄槽11との間には、円筒状の
接続管21が配設されている。この接続管21の下端は
、下部洗浄槽11の上開口部22に摺動自在に嵌合され
ている。接続管21はエアシリンダ23によって昇降駆
動できるようになっており、接続管21を上昇させた場
合、その上端が上部洗浄槽10の開口部12に嵌合して
上部洗浄槽10と下部洗浄槽11とが相互に接続される
ようになっている。
接続管21が配設されている。この接続管21の下端は
、下部洗浄槽11の上開口部22に摺動自在に嵌合され
ている。接続管21はエアシリンダ23によって昇降駆
動できるようになっており、接続管21を上昇させた場
合、その上端が上部洗浄槽10の開口部12に嵌合して
上部洗浄槽10と下部洗浄槽11とが相互に接続される
ようになっている。
以上のような構成を有する本発明のウェハ洗浄装置にお
いて、ウェハ搬送ライン5によって搬送されてきたウェ
ハ6は、第1図で矢印方向に上昇してくるチャック2に
よって真空吸着され、そのまま第1の洗浄槽10内に移
動し、所定の位置で停止する。
いて、ウェハ搬送ライン5によって搬送されてきたウェ
ハ6は、第1図で矢印方向に上昇してくるチャック2に
よって真空吸着され、そのまま第1の洗浄槽10内に移
動し、所定の位置で停止する。
次に、接続管21が上昇して上部および下部洗浄槽10
.11が相互に連結され、1つの洗浄槽が構成される。
.11が相互に連結され、1つの洗浄槽が構成される。
この状態で、上部洗浄槽10内においてあらかじめ設定
された順序に従いブラシ洗浄およびジェット洗浄が行な
われる。なお、このときの洗浄は例えば純水等の溶剤以
外の洗浄液が使用される。洗浄液は例えばノズル14か
ら滴下される。
された順序に従いブラシ洗浄およびジェット洗浄が行な
われる。なお、このときの洗浄は例えば純水等の溶剤以
外の洗浄液が使用される。洗浄液は例えばノズル14か
ら滴下される。
上部洗浄槽10での洗浄が終了したウェハ6は、チャッ
ク2に保持されたまま下降して下部洗浄槽11へと送ら
れる。下部洗浄槽11においては例えばノズル15から
滴下される有機溶剤等の洗浄液が使用され、洗浄された
、ウェハ6は回転による遠心乾燥がなされ、これで全て
の洗浄工程が終了する。
ク2に保持されたまま下降して下部洗浄槽11へと送ら
れる。下部洗浄槽11においては例えばノズル15から
滴下される有機溶剤等の洗浄液が使用され、洗浄された
、ウェハ6は回転による遠心乾燥がなされ、これで全て
の洗浄工程が終了する。
なお、洗浄を終えたウェハ6はチャック2に保持された
まま上昇し、同時に接続管21がもとの位置まで下降し
、ウェハ搬送ライン5へと送られる。
まま上昇し、同時に接続管21がもとの位置まで下降し
、ウェハ搬送ライン5へと送られる。
なお、上記実施例において上部洗浄槽10を透明な部材
で構成すれば、ブラシ洗浄中のアラ93毛先とウェハ6
との接触状況を目視確認することができる等、洗浄工程
の管理を充実することができて便利である。
で構成すれば、ブラシ洗浄中のアラ93毛先とウェハ6
との接触状況を目視確認することができる等、洗浄工程
の管理を充実することができて便利である。
[発明の効果]
本発明のウェハ洗浄装置は、上部洗浄槽をウェハ搬送ラ
インの上方に配設している関係上、上部洗浄槽内の洗浄
用器具のメインテナンスが容易である。また、下部洗浄
槽では純水以外の例えば各種溶剤等による洗浄が可能で
あるので、理想的なウェハの洗浄ができる。しかも、洗
浄槽は上下2段で構成しているので設置スペースが少な
くてすみ、工場床面積の有効利用が図れる。
インの上方に配設している関係上、上部洗浄槽内の洗浄
用器具のメインテナンスが容易である。また、下部洗浄
槽では純水以外の例えば各種溶剤等による洗浄が可能で
あるので、理想的なウェハの洗浄ができる。しかも、洗
浄槽は上下2段で構成しているので設置スペースが少な
くてすみ、工場床面積の有効利用が図れる。
第1図は本発明に従って構成したウェハ洗浄装置の概略
側面図、第2図は従来のウェハ洗浄装置の概略側面図で
ある。 2・・・回転真空チャック、3・・・洗浄用ブラシ、4
・・・ジェット水流洗浄用ノズル、5・・・ウェハ搬送
ライン、6・・・ウェハ、10・・・上部洗浄槽、11
・・・下部洗浄槽、18・・・エアシリンダ。
側面図、第2図は従来のウェハ洗浄装置の概略側面図で
ある。 2・・・回転真空チャック、3・・・洗浄用ブラシ、4
・・・ジェット水流洗浄用ノズル、5・・・ウェハ搬送
ライン、6・・・ウェハ、10・・・上部洗浄槽、11
・・・下部洗浄槽、18・・・エアシリンダ。
Claims (1)
- ウェハ搬送ラインを挾んでその上方に上部洗浄槽を、下
方に下部洗浄槽をそれぞれ配設し、上記上部洗浄槽内に
洗浄用器具を配設するとともに、上記上部洗浄槽から下
部洗浄槽にウェハを移動させる移動手段を配設したこと
を特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26750285A JPS62128125A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26750285A JPS62128125A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエハ洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62128125A true JPS62128125A (ja) | 1987-06-10 |
Family
ID=17445737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26750285A Pending JPS62128125A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | ウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62128125A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01111338A (ja) * | 1987-10-24 | 1989-04-28 | Sony Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
US5058610A (en) * | 1988-12-15 | 1991-10-22 | Pioneer Electronic Corporation | Fluid supplying and processing device |
JPH07169725A (ja) * | 1994-07-21 | 1995-07-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
CN109937117A (zh) * | 2016-11-15 | 2019-06-25 | 胜高股份有限公司 | 晶片的边缘抛光装置及方法 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26750285A patent/JPS62128125A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01111338A (ja) * | 1987-10-24 | 1989-04-28 | Sony Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
US5058610A (en) * | 1988-12-15 | 1991-10-22 | Pioneer Electronic Corporation | Fluid supplying and processing device |
JPH07169725A (ja) * | 1994-07-21 | 1995-07-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
CN109937117A (zh) * | 2016-11-15 | 2019-06-25 | 胜高股份有限公司 | 晶片的边缘抛光装置及方法 |
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