JPH0347574B2

JPH0347574B2 -

Info

Publication number: JPH0347574B2
Application number: JP59081784A
Authority: JP
Inventors: Hiroto Nagatomo; Hisao Seki; Tetsuya Takagaki
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1984-04-25
Filing date: 1984-04-25
Publication date: 1991-07-19
Also published as: JPS605530A

Description

【発明の詳細な説明】本発明はウエハ表面処理装置、特に物品の洗浄
と乾燥を並行的に行うことのできる洗浄乾燥装置
に関する。

たとえば、複数のウエハを収納した複数のカー
トリツジを回転させながら洗浄水をノズルより噴
出させてウエハの洗浄・乾燥を行なうウエハ表面
処理装置については、特公昭56−40971号に示さ
れている。

半導体装置の製造工程において、特性のよい半
導体装置を得るには酸化、不純物拡散、気相化学
成長等の熱処理をする前に半導体ウエハの表面を
よく洗浄し、その後乾燥しておかなければならな
い。

半導体ウエハの表面を洗浄し、乾燥するための
従来の半導体ウエハ洗浄乾燥装置は、円筒容器か
らなる装置本体と、この本体上部に開閉自在に取
りつけられた蓋体と、この蓋体の中心から装置本
体内に垂下された水を放射状に噴射するためのノ
ズルと、装置本体内の下部に外部のモータにより
回転するように配設された回転板とからなつてい
る。この回転板にはウエハを複数個収納したカー
トリツジの収納部を有するターンテーブルが上記
ノズルの周囲に位置するように取りつけられてい
る。このような装置によりウエハ表面を洗浄、乾
燥するには処理すべき半導体ウエハをカートリツ
ジ内に複数枚収納し、このカートリツジを上記タ
ーンテーブルのカートリツジ収納部に収納するこ
とにより、個々のカートリツジ内の半導体ウエハ
をノズルの長さ方向に対し、水平方向に縦に多数
枚並べられた状態でノズルの周囲に位置せしめ、
上記回転板を回転させながら、ノズルよりその周
囲に回転するウエハに対して水を噴射してその面
を洗浄する。その後、水の噴射を止めて、回転板
を高速回転することにより遠心分離作用を利用し
て乾燥を行う。

このように上記洗浄乾燥装置による洗浄方法は
円筒容器中心部に設けられた噴射ノズルから洗浄
水を噴射してその周囲で回転するカートリツジ内
の半導体ウエハを洗浄することとしているため、
半導体ウエハのうち噴射ノズルより遠い位置にあ
る部分に存在する不純物を十分に洗浄除去できな
いという問題を有する。かかる問題を解決するた
めには洗浄時間を長くすればよいが、このように
すると作業能率の低下を招くので好ましくない。
同一の洗浄時間で洗浄効果を上げるためにカート
リツジ収納部を有する回転板の回転速度を早める
ことも考えられるが、半導体ウエハを数枚収納し
た縦方向に長い構造のカートリツジを取扱つてい
るのでウエハがカートリツジに食い込んでしまつ
たり、回転体の抵抗が大きくなるため、回転速度
を早めることができない。このように従来の装置
による洗浄、乾燥処理はカートリツジ単位での処
理のため洗浄効果を高めることができないという
欠点がある。

また、上記洗浄乾燥装置による洗浄乾燥処理で
は、洗浄時に半導体ウエハに付着した水滴よりも
複雑な形状を有するカートリツジに付着した水滴
の方が多いため、一定時間内でウエハに対し完全
な乾燥処理を行うことが困難であつた。特にウエ
ハ周面のカートリツジの溝に支持される部分にお
いて十分な洗浄、乾燥を行うことができない。

また、上記装置ではウエハを収納したカートリ
ツジをカートリツジ収納部にローデイングする際
あるいはカートリツジ収納部からカートリツジを
アンローデイングする際には人手を介して行つて
いるため、作業能率の向上が図れない。またカー
トリツジのローデイング、アンローデイングを自
動化しようとした場合構造的に複雑となり、極め
て大きな装置を必要とするため量産向きでないと
いう欠点がある。

本発明は上記問題を解決するためになされたも
のであり、その目的とするところは、洗浄乾燥の
処理時間を早め、また洗浄、乾燥の効果を高める
ことができるために適した半導体ウエハ洗浄装置
を提供することにある。

本発明の目的を達成するために、本発明に従う
洗浄装置は、複数の被処理半導体ウエハを載置し
て、該複数の被処理半導体ウエハを公転運動させ
るための回転テーブルと、前記回転テーブルに載
置される半導体ウエハの裏面側を吸着保持するた
めに該回転テーブルに形成された真空吸着孔と、
前記回転テーブルに載置される半導体ウエハの表
面を洗浄するために前記回転テーブルの上方に設
けられた洗浄液供給ノズルと、前記回転テーブル
上を覆うように設けられた蓋体と、前記蓋体の内
壁に設けられたガス吹出口と、前記回転テーブル
の周辺部の一つの外側から前記回転テーブル上に
処理すべき半導体ウエハを供給するための搬送機
構と、前記回転テーブル上で処理した半導体ウエ
ハを前記回転テーブルの周辺部の他の外側に搬出
するための搬出機構とを有することを特徴とする
ものである。

以下実施例により本発明を具体的に説明する。

第１図は本発明の一実施例に係る洗浄乾燥装置
の斜視図である。この装置は、同図に示すように
大別してローダー部Ａ、洗浄ステーシヨンＢ、ウ
エハの搬送部Ｃ、乾燥ステーシヨンＤ及びウエハ
のアンローダー部Ｅよりなる。１は装置のカバー
である。

各部の構成について詳細な説明をする前に、本
装置によるウエハの処理順序を概略説明する。ま
ず処理すべき半導体ウエハ４を第１図に示すよう
に、例えば４個の同一形状を有するウエハカート
リツジ２にそれぞれ複数個収納し、このカートリ
ツジごとローダー部Ａの間欠的に回転しうる回転
テーブル３上に設置する。カートリツジは第２図
に示すように、四フツ化エチレン樹脂から一体的
に加工したものを使用することができる。同図に
示すように、カートリツジ２は互いに所定間隔を
もつて平行に形成された側壁５，５を有し、その
内面にはそれぞれ互いに同一ピツチをもつてウエ
ハの収容溝７が形成されている。８はカートリツ
ジの底部において側壁５，５と一体的に形成さ
れ、これらを支持するための連結枠である。９は
カートリツジの上部において側壁５，５と一体的
に形成され、これらを支持するための連結枠であ
る。ウエハ４はカートリツジの開孔１０側から開
孔１１側に向つてその周縁が前記側壁５，５に対
応して形成した溝７，７に支持されるように挿入
してカートリツジに収納する。

次にローダー部の回転テーブル３上に設置され
たカートリツジ２からウエハを順次洗浄ステーシ
ヨンＢの回転テーブル１２上に移送する。回転テ
ーブル１２は連続的に回転する一方、間欠的に回
転しうるようになつている。６はウエハ４をカー
トリツジから洗浄ステーシヨンＢの回転テーブル
に移送するために、ローダー部と洗浄ステーシヨ
ンとの間に設置されたウエハ搬送部Ｃの搬送台で
ある。洗浄ステーシヨンＢの回転テーブル１２上
に移送されたウエハは同テーブルに設けられた真
空吸着孔を利用して、回転テーブル１２の所定の
場所に吸着固定される。次に洗浄ステーシヨンの
回転テーブル１２に吸着固定されたウエハ４の表
面に対し、同ステーシヨンに設けた噴水ノズル１
３から水を噴射し、その表面に付着したゴミ等を
洗浄除去する。

噴水ノズルは、第１図に示す如く例えば２個設
けることができ、また洗浄効果を高めるためにウ
エハ表面に対し、例えば45゜位に傾斜して水を噴
射しうるように設けることができる。洗浄中、回
転テーブルは回転しうるようになつており、また
噴水ノズル１３は首振り機構を有し、回転テーブ
ル１２の径方向に沿つて直線的に走査しうるよう
になつている。所定時間噴水ノズル１３から水を
噴射してウエハ表面を洗浄したあと、噴水のみを
止め、その後ウエハを回転テーブルに吸着した状
態で回転を続けることにより、ウエハ表面から水
切りを行いウエハを仮乾燥させる。

その後テーブル１２を順次間欠駆動させ、回転
テーブル１２上のウエハ４を乾燥ステーシヨンＤ
に移送する。

１４は洗浄ステーシヨンＢと乾燥ステーシヨン
Ｄとの間に設置されたウエハ搬送部の搬送台であ
る。ウエハ４は乾燥ステーシヨンＤの回転テーブ
ル１５に設けられたウエハホルダ１６に収納され
る。回転テーブル１３も連続的かつ間欠的に回転
しうるようになつている。次に、乾燥ステーシヨ
ンを窒素雰囲気に保ち、回転テーブル１５を回転
させながらウエハホルダ１６に保持されたウエハ
を乾燥させる。この乾燥の際、乾燥ステーシヨン
には温水噴出機構を設けておき、テーブル１５を
回転させながら、ウエハに温水を噴射し、ウエハ
を所定時間再洗浄したのち、温水を止め、テーブ
ル１５の回転を続け、ウエハ乾燥を行つてもよ
い。

次にテーブル１５の回転をとめ、その後回転テ
ーブル１５を間欠駆動させながら乾燥処理の終つ
たウエハをアンローダ部Ｅの回転テーブル１７上
に設置された空のウエハカートリツジ１８に収納
する。１９は乾燥ステーシヨンＤとアンローダ部
Ｅとの間に設けられたウエハ搬送部Ｃの搬送台で
ある。

以下各部の構成を順次説明する。

第３図はローダー部の要部構造断面図である。
同図において、２０は基台（図示せず）に固定さ
れた軸であり、上部には例えば円盤状の固定テー
ブル２１が取りつけられている。この固定軸２０
にはベアリング２２を介して回転テーブル３が回
転自在に取りつけられている。この回転テーブル
３の底部周縁にはギヤ２３が取りつけられてお
り、このギヤ２３は、モータ２５によつて駆動さ
れるギヤ２４にかみ合わされる。なお、上記回転
テーブル３の周縁には透孔２６が例えば等間隔に
４ケ所設けられており、カートリツジはこの透孔
上部をまたぐようにテーブル３の所定の位置に位
置決めされるように載置される。この回転テーブ
ル３は、上記駆動モータ２５により90度毎に回転
し、テーブル３の透孔上部に位置して載置された
カートリツジ２をそれぞれ搬送台６に対面させる
ように動作する。上記固定テーブル２１上には、
先端部にガイド２７を有する支柱２８が連設され
ている。２９はガイド２７内を水平方向に摺動す
るように設けられたプツシヤー杆であり、このプ
ツシヤー２９によりカートリツジ内のウエハ４は
順次搬送台６上に押出されるようになつている。
このプツシヤー杆２９の左端はカートリツジ２に
近接し、その右端部には突出ピン３０が設けられ
ている。３１は上部がＵ字形状となり、下部が固
定テーブル２１上に回動自在に軸支されたレバー
であり、この上部Ｕ字部には、上記プツシヤー杆
に設けられた突出ピン３０が係合される。さら
に、レバー３１は引つ張りバネ３２を介して固定
テーブル２１上に突出する固定杆３３に接続され
ている。３４は、固定テーブル２１上に設けられ
た支柱に軸支された偏心カムである。このカム３
４の回転によつて、レバー３１を前後動させ、も
つてプツシヤー杆２９を前後に駆動する。すなわ
ち、偏心カム３４の回転によりバネ圧に抗してレ
バー３１を間欠的に前後動させ、もつて、レバー
３１に固定されたプツシヤー杆２９を間欠的に前
後動させ、プツシヤー杆２９の先端部でカートリ
ツジ２内のウエハ４をプツシユする。このプツシ
ユ動作によりカートリツジ２内に積層された最上
部のウエハ４が搬送台６上に押し出される。搬送
台６上に押出されたウエハ４は、搬送台６に傾斜
して設けられたエアー噴出孔から噴出されるエア
ーによつて搬送台６上をこれと非接触状態を保ち
ながら洗浄ステーシヨンＢに搬送される。

３５はウエハカートリツジの上下動機構であ
り、上部にカートリツジの載置板３７を有すると
ともに、下部にネジ穴が設けられた底板を有する
例えば円筒３６と、上記ネジ穴に螺合され、上部
にストツパー３９が回動自在に取付けられ、下部
にギヤ４１が取りつけられたネジ棒３８と、上記
ギヤ４１にかみ合わされ、駆動モータ４３によつ
て駆動される駆動ギヤ４２とによつて構成され
る。なお、４０はネジ棒３８の下方に設けられた
ストツパーである。ストツパー３９，４０は基台
（図示せず）に固定されておりネジ棒３８の支持
と円筒３６に設けられたスリツトを通過して設け
られているため円筒の回転止めの２つの役割を行
つている。かかる上下動機構により、載置板３７
上にカートリツジ２の底部が対面した状態で、駆
動モータ４３を駆動することにより、円筒３６を
ネジ棒上においてカートリツジ２に設けた溝のピ
ツチに対応して１ピツチ毎上方に移動させること
ができる。これによつて、載置板３７に載置され
たカートリツジ内のウエハ４を搬送台６と同一平
面上に位置させ得る。この上方移動運動は上記プ
ツシヤー杆２９の運動と連動させ、プツシヤー２
９が引つ込んだ時にカートリツジを上方に移動さ
せる。

以上説明したように、上下動機構３５及びプツ
シヤー２９によつてカートリツジ内に収納された
ウエハを１枚ずつ搬送台６上に搬出し、洗浄ステ
ーシヨンに移送することができる。

ローダー部Ａから搬出されたウエハ４は、第４
図に示すように、搬送台６上を通過して洗浄ステ
ーシヨンＣの回転テーブル１２上に吸着載置され
る。４４はこの回転テーブル１２上に設けられた
位置決めピンであり、ウエハ４はこの位置決めピ
ン４４に突き当り位置決めされる。４５は回転テ
ーブル８上に設けられた真空吸着孔である。

第５図は本発明の要部の洗浄ステーシヨンすな
わちウエハ表面処理装置の構造断面図である。１
２は半導体ウエハ４が載置される回転テーブルで
あり、その底部中心には回転軸４６が連設されて
おり、上部には複数の真空吸着孔４５が設けられ
る。回転軸４６には回転駆動源としてのガスター
ビン４７が設けられる。このガスタービンは駆動
源に水が混入しても支障が起らないという特長を
有する。さらにこの回転軸４６内には上記吸着孔
に通ずる空洞４８が設けられている。この空洞か
らの真空引きにより、ウエハ４は吸着孔４５を介
して回転テーブル１２上に吸着保持される。４９
は回転テーブル上を覆うように設けられた上蓋で
あり、５０は下蓋である。この上蓋４９と下蓋５
０によつて囲まれた部分が洗浄室Ｆとなる。上蓋
４９は、上記回転テーブル１２の半導体ウエハ４
を載置する部分に対応した部分が凸状に形成され
ている。また上蓋４９の上面には洗浄室ＦにN₂
ガスを送流するためのノズル５１が突出形成され
る。上記凸状部には孔５２が設けられ、この孔５
２には噴水ノズル１３が上蓋４９と気密状態を保
つて首振り自在に設けられている。この噴水ノズ
ル１３から洗浄水を半導体ウエハ４に向つて噴射
し、ウエハ全面を洗浄する。この噴水ノズル１３
は前述のように半導体ウエハ４表面に対して例え
ば45゜の角度をもつて洗浄水を吹き付けるもので
あるから、第６図に示すように半導体ウエハ４の
表面凹、凸部のみでなく、陰の部分４ａに存する
ゴミ等を吹きとばし、その表面を洗浄できる。ま
た、上蓋４９にはN₂ガス搬送孔５３が設けられ
ている。

さらに、上蓋４９には複数個のN₂ガス吹出口
５４が設けられており、この吹出口５４からN₂
ガスを噴射し洗浄室Ｆの内壁にガスカーテンを形
成する。このガスカーテンにより上蓋の内壁に水
滴が付着するのを防止する。さらにまた、この上
蓋の側面部下部であつて、回転テーブル１２の周
辺に位置する個所にはリング状の板を一定間隔で
斜に積み重ねたヨロイ戸状リング５５が設けられ
ている。このヨロイ戸状リング５５は、洗浄後の
汚水が洗浄室の側壁部に当りハネ返つてウエハに
付着するのを防止するためのものである。下蓋５
０はその中心部が空洞となつており、エア軸受５
６を介して回転軸４６に気密に取りつけられてい
る。下蓋の内面５７の中心部から周縁部に向つて
下降する傾斜面を有し、下蓋５０の周縁一部には
排気水口５８が設けられている。N₂ガスや、下
蓋の斜面に沿つて流れる洗浄水等がこの排気水口
から外部に排出される。

第７図は、上記洗浄ステーシヨンＢと後述する
乾燥ステーシヨンＤとの間に配置されたウエハ搬
送部Ｃの要部断面図である。１４はその上面がテ
ーブル１２とほぼ同平面を有するように設けられ
た搬送台である。搬送台１４は基台（図示せず）
に支持されており、複数のエア噴出孔５９が形成
されている。６０はこの搬送台１４上に設けられ
たウエハ吸引搬送手段である。

上記ウエハ吸引搬送手段６０はベルヌイチヤツ
ク６１を有し、ベルヌイチヤツク６１にはウエハ
上面に対しエアーを噴出するためのエアー噴射孔
６２が複数個設けられており、このエアー噴射孔
６２からエアを噴射することによりこのベルヌイ
チヤツクとウエハとの間を負圧状態として、ウエ
ハをベルヌイチヤツクに非接触状態で吸引しうる
ようになつている。そして、このベルヌイチヤツ
ク６１はその一端に、ネジ穴を有する円筒形状の
ガイド６３が取りつけられている。またベルヌイ
チヤツク６１の他端は、洗浄ステーシヨンＢの回
転テーブル１２と乾燥ステーシヨンＤとの間に配
置されたガイド板６４の断面コ字形の溝に挿入支
持されている。ベルヌイチヤツク６１のガイド６
３は一端が上記洗浄ステーシヨンＢの回転テーブ
ル１２上に達するとともに他端が後述する乾燥ス
テーシヨンＤの回転テーブル１５の一部上に達す
るように配設されたネジ棒６５に螺合され、ベル
ヌイチヤツク６１はこのネジ棒６５の一端に軸着
されたギヤ６６及び、このギヤ６６にかみ合わさ
れ、駆動モータ６８によつて駆動される駆動ギヤ
６７により洗浄ステーシヨンＢの回転テーブル１
２と乾燥ステーシヨンＤの回転テーブル１４間を
移動しうるようになつている。モータ６８の回転
によつてネジ棒６５が回転し、ガイド６３に固定
されたベルヌイチヤツク６１を洗浄ステーシヨン
Ｂの回転テーブル１２上に移動させ（図中〔〕
の状態）、洗浄の終了したウエハ４に対し、エア
ーを噴射し、ウエハ４を回転テーブル１２から浮
上がらせるように吸引する。しかる後ウエハ４を
吸引した状態でベルヌイチヤツク６１を、乾燥ス
テーシヨンＤの回転テーブル１５上に対面させる
ように移動させる（図中〔〕の状態）。この際、
搬送台１４のエアー噴射孔５９からウエハ下面に
対しエアーを噴射する。このようにして洗浄ステ
ーシヨンＢから乾燥ステーシヨンＤにウエハを自
動的に搬送することができる。

乾燥ステーシヨンＤは、第８図の構造断面図に
示すような構成になつている。１５は半導体ウエ
ハ４が保持される回転テーブルであり、その底部
中心には回転軸６９が連設されており、上部には
ウエハホルダ７０が設けられている。回転軸６９
には回転機構としてのガスタービン７１が設けら
れる。ウエハホルダ７０は、第９図に示すよう
に、中央部にＶ溝を有する２つの保持板７２，７
３からなり、両者の間隔をウエハを保持するのに
十分なものとするとともに双方のＶ字形溝を対面
させるように回転テーブル１５上に並設した構造
になつている。ウエハ４はこのＶ字形溝に挿入さ
れ回転テーブル１５に対して非接触状態で保持さ
れる。このように半導体ウエハ４を回転テーブル
面に対して非接触状態で保持するのは、ウエハ表
面のみならず裏面も乾燥させることにより乾燥速
度を早めるためである。７４は上蓋であり、７５
は下蓋である。この上蓋７４と下蓋７５によつて
囲まれた部分が乾燥室Ｇを形成する。上蓋７４に
は上部に突出する円筒７６が形成されており、こ
の円筒内には同軸上にN₂ガス送流ノズル７７と
温水導入ノズル７８が形成されている。７９は上
蓋７４に設けられた他のN₂ガス送流ノズルであ
る。また、上蓋７４上部にはN₂ガス吹出口８０
が設けられており、さらに、上蓋側面下部であつ
て回転テーブル１５の周辺に位置する個所にはヨ
ロイド状リング８１が設けられている。上記ヨロ
イ戸状リング８１は前述した洗浄ステーシヨンＢ
におけるもの（第５図の説明）と同一の機能及び
作用を有するものであるからその説明を省略す
る。また、温水導入ノズル７８は、ウエハを乾燥
する前に温水を半導体ウエハ上に噴射することに
よりウエハの再洗浄を行うためのものである。こ
のとき、温水量はウエハホルダ７０に支持された
ウエハ４の上面を僅かに覆う程度とするのが好ま
しい。これによりウエハの表、裏面共に洗浄が行
える。

下蓋７５の側端に設けられた排気水口８２及び
回転軸６９との間に設けられたエアー軸受８３は
上述した洗浄ステーシヨンＢにおけるものと同一
の機能及び作用を有するものであるからその説明
を省略する。

洗浄ステーシヨンでの洗浄終了後のウエハが乾
燥ステーシヨンのウエハホルダ７０に保持される
状態を第１０図の平面図を用いて説明する。同図
において、７２，７３は並設されたＶ字形溝を有
するウエハ保持板であり、８４，８４によつてそ
れを中心として回転テーブル１５に水平方向に回
動しうるように取りつけられている。８５は保持
板７２，７３にかけわたされた圧縮バネであつ
て、通常ウエハ保持板７２，７３の先端部の間隔
を強制的に狭めるように作用している。このよう
にウエハホルダの先端部を強制的に狭めるように
することによつて回転テーブル１５が高速回転し
てもその遠心力によつて、ウエハホルダに保持さ
れたウエハが外部に抜け落ちることを防止でき
る。また、このウエハ保持板７２，７３の先端部
上面には突起するピン８６，８６が設けられてい
る。そして、前記洗浄ステーシヨンＢと乾燥ステ
ーシヨンとの間の前記搬送部Ｃの説明（第７図）
では述べなかつたが、実際にはベルヌイチヤツク
６１の先端部には、先端がテーパー状に形成さ
れ、上記ウエハ保持板に設けられたピン８６，８
６の周面にこのテーパー状先端が接触し、保持板
７２，７３を圧縮バネ８５のバネに抗しておしひ
ろげるように働く爪８７，８７が突出形成されて
いる。したがつて、上記ベルヌイチヤツク６１が
前進することによつて、ウエハホルダの突起ピン
８６とガイド爪８７，８７の外縁部とが線接触状
態となり、このガイド爪８７，８７をガイドとし
てウエハ保持板７２，７３が圧縮バネ８５の押上
力に抗して互いに外方に押し開かれるようにされ
る。この押し開かれた状態でウエハをウエハホル
ダに挿入し、しかる後、ベルヌイチヤツク６１の
エアー噴射動作を停止させれば、搬送台１４のエ
アー噴射のみによつてウエハ４は、ウエハホルダ
の溝内に滑り込む。その後ベルヌイチヤツク６１
を後方に移動させてガイド爪８７，８７をピン８
６，８６から離せば、圧縮バネ８５の押上力によ
りウエハ保持板７２，７３の先端は元に戻り、ウ
エハ４を両側からしつかりと保持することにな
る。なお、圧縮バネ８５及びガイド爪８７，８７
はウエハ４の移動時の障害とならないようにウエ
ハホルダの上部に位置するように設けられること
は言うまでもない。

次に、乾燥の終了したウエハがアンローダー部
Ｅへ、搬送される状態の一例を第１１図の断面図
を用いて説明する。図において、８８は乾燥ステ
ーシヨンの回転テーブル１５上のウエハホルダ７
０の後方に位置するように設けられたプツシヤー
であり、回転軸８９に回動自在にとりつけられて
いる。回転軸８９の先端は図示しない回転機構に
接続されるとともに、回転テーブル１５の回転に
影響されないような個所に軸支されている。この
プツシヤー８８を回動させることによつて、ウエ
ハホルダ７０内に保持されたウエハ４が前方に押
し出される。このようにして押出されたウエハ４
は前方の搬送台１９のエアー噴射機構によつて後
述するアンローダ部Ｅへ搬送される。

アンローダ部Ｅは、回転テーブル１７を有し、
回転テーブルは洗浄、乾燥の終つたウエハを収容
するための空のカートリツジ１８が例えば４個載
置できるようになつている。アンローダー部の具
体的構成は、上記第３図に示したローダー機構と
ほぼ同様であり、説明を省略する。ただ、第３図
における上下動機構３５は、アンローダー時には
ウエハがカートリツジに収納される毎に下降動作
を行うこと、及びプツシヤー機構を必要としない
ことが異なる。このようなアンローダー機構によ
り処理の終了したウエハを一枚づつカートリツジ
内に収納する。

なお、上記洗浄ステーシヨンＢ及び乾燥ステー
シヨンＤの上蓋４６及び７４は、機械的機構によ
り自動的に処理時には閉じられ、ウエハ搬送セツ
ト時には開かれるようにされる。

以上のように本発明は、従来のカートリツジ単
位での取扱いをウエハ単位での取扱いに代えて回
転速度を早めるようにした（従来の約10倍）か
ら、処理時間の低減化が図れる。また、ウエハ単
位で洗浄乾燥などを行うものであるから、従来の
ように不純物が残るようなことはなく、完全洗
浄、乾燥が行えることとなり処理効果を高めるこ
とができる。さらに、連続処理が行えるものとし
たから、ローデイング、アンローデイングを含め
た自動化に最適の洗浄乾燥装置を実用化すること
が可能となつた。

本発明は上記実施例に限定されない。

本発明は自動化用の乾燥処理装置として広く利
用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である洗浄乾燥処理
装置の概略斜視図、第２図は本発明の一実施例に
使用するウエハカートリツジの要部斜視図、第３
図は本発明の一実施例である洗浄乾燥処理装置の
ローダー部の要部構造断面図、第４図は本発明の
一実施例である洗浄乾燥処理装置のローダー部か
ら洗浄ステーシヨンのウエハの搬送状態を示す説
明図、第５図は本発明の一実施例である洗浄乾燥
処理装置の洗浄ステーシヨンの要部構造断面図、
第６図は本発明の一実施例である洗浄乾燥処理に
よるウエハの洗浄状態を示す説明図、第７図は本
発明の一実施例である洗浄乾燥処理装置の洗浄ス
テーシヨンから乾燥ステーシヨンへのウエハ搬送
部の要部断面図、第８図は本発明の一実施例であ
る洗浄乾燥処理装置の乾燥ステーシヨンの要部構
造断面図、第９図は本発明の一実施例である洗浄
乾燥処理装置の乾燥ステーシヨンに設けられたウ
エハホルダの要部構造断面図、第１０図は本発明
の一実施例である洗浄乾燥処理装置の洗浄ステー
シヨンから乾燥ステーシヨンのウエハホルダへウ
エハを搬送し保持させる状態を説明する説明図、
第１１図は本発明の一実施例である洗浄乾燥処理
装置の乾燥ステーシヨンからアンローダー部へウ
エハを搬送する状態を説明する説明図である。１……カバー、２……カートリツジ、３……回
転テーブル、４……半導体ウエハ、５……側壁、
６……搬送台、７……収容溝、８，９……連結
枠、１０，１１……開孔、１２……回転テーブ
ル、１３……噴水ノズル、１４……搬送台、１５
……回転テーブル、１６……ウエハホルダ、１７
……回転テーブル、１８……カートリツジ、１９
……搬送台、２０……軸、２１……固定テーブ
ル、２２……ベアリング、２３……ギヤ、２４…
…ギヤ、２５……モーター、２６……透孔、２７
……ガイド、２８……支柱、２９……プツシヤー
杆、３０……突出ピン、３１……レバー、３２…
…バネ、３３……固定杆、３４……偏心カム、３
５……上下動機構、３６……円筒、３７……載置
板、３８……ネジ棒、３９……ストツパー、４０
……ストツパー、４１……ギヤ、４２……ギヤ、
４３……モーター、４４……位置決めピン、４５
……真空吸着孔、４６……回転軸、４７……ガス
タービン、４８……空洞、４９……上蓋、５０…
…下蓋、５１……N₂ガス送流ノズル、５２……
孔、５３……N₂ガス搬送孔、５４……N₂ガス吹
出口、５５……ヨロイ戸状リング、６６……エア
ー軸受、５７……下蓋内面、５８……排気水口、
５９……エアー噴出孔、６０……ウエハ吸引搬送
手段、６１……ベルヌイチヤツク、６２……エア
ー噴射孔、６３……ガイド、６４……ガイド板、
６５……ネジ棒、６６……ギヤ、６７……ギヤ、
６８……モーター、６９……回転軸、７０……ウ
エルホルダ、７１……ガスタービン、７２，７３
……保持板、７４……上蓋、７５……下蓋、７６
……円筒、７７，７９……N₂ガス送流ノズル、
７８……温水導入ノズル、８０……N₂ガス吹出
口、８１……ヨロイ戸状リング、８２……排気水
口、８３……エアー軸受、８４……軸、８５……
圧縮バネ、８６……ピン、８７……ガイド爪、８
８……プツシヤー、８９……回転軸。

Claims

【特許請求の範囲】１複数の被処理半導体ウエハを載置して、該複
数の被処理半導体ウエハを公転運動させるための
回転テーブルと、前記回転テーブルに載置される
半導体ウエハの裏面側を吸着保持するために該回
転テーブルに形成された真空吸着孔と、前記回転
テーブルに載置される半導体ウエハの表面を洗浄
するために前記回転テーブルの上方に設けられた
洗浄液供給ノズルと、前記回転テーブル上を覆う
ように設けられた蓋体と、前記蓋体の内壁に設け
られたガス吹出口と、前記回転テーブルの周辺部
の一つの外側から前記回転テーブル上に処理すべ
き半導体ウエハを供給するための搬送機構と、前
記回転テーブル上で処理した半導体ウエハを前記
回転テーブルの周辺部の他の外側に搬出するため
の搬出機構とを有することを特徴とする半導体ウ
エハ洗浄装置。２前記搬送機構と前記搬出機構とは前記回転テ
ーブルを挟んで互いに相対向する回転テーブルの
外側に設けられてなることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の半導体ウエハ洗浄装置。３前記洗浄液供給ノズルは前記回転テーブルの
異なる上方に複数設けられてなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の半導体ウエハ洗浄
装置。４前記蓋体の内壁側には、前記回転テーブルの
周辺に沿つて処理液の跳ね返りを防止するための
板が形成されてなることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の半導体ウエハ洗浄装置。