JPS621278A - 切換え可能な結合量子井戸導体 - Google Patents
切換え可能な結合量子井戸導体Info
- Publication number
- JPS621278A JPS621278A JP8982886A JP8982886A JPS621278A JP S621278 A JPS621278 A JP S621278A JP 8982886 A JP8982886 A JP 8982886A JP 8982886 A JP8982886 A JP 8982886A JP S621278 A JPS621278 A JP S621278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- well
- wells
- electrode
- switchable
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
U上皮皿皿11
本発明は電子式半導体装置、更に具体的に云えば、量子
井戸装置の切換えに関する。
井戸装置の切換えに関する。
従来の技術及び問題点
量子井戸装置はいろいろの形で知られており、ヘテロ構
造レーザが好例である。■子井戸へテロtg造レーザは
、量子井戸内の離散的なエネルギ・レベルに依存して、
高い効率を達成し、典型的には少数個の結合量子井戸で
構成されている。例えば全般的にはスゼの「半導体装置
の物理」(1981年第2版、ワイリー・インターサイ
エン・ス社発行)第729頁乃至第730頁参照。電子
易動度の高いトランジスタ(HEMT)が量子井戸装置
の別の形式であり、典型的には量子井戸の半分だけ(1
個のへテロ接合)を使うが、少数個の量子井戸の積重ね
を含んでいてよい。HEMTの性質は、ヘテロ接合と平
行に、量子井戸の伝導又は価電子サブバンド内での伝導
によって生ずる。導電キャリヤ(電子又は正孔)がその
ドナー又はアクセプタから隔離され、この隔離がキャリ
ヤの不純物散乱を制限する。例えばジャーナル・オプ・
アプライド中フィジックス誌1023 (1982年)
所載の王、ドラモンド他の論文「単−及び多重周期変調
によってドープされた(At 、Ga )As /Ga
Asヘテロ構造内の電子易動度」を参照されたい。超
格子は、個々の井戸が識別出来ないくらいに密接に結合
された数多くの量子井戸で構成されるが、井戸は格子内
の原子と似て来る。
造レーザが好例である。■子井戸へテロtg造レーザは
、量子井戸内の離散的なエネルギ・レベルに依存して、
高い効率を達成し、典型的には少数個の結合量子井戸で
構成されている。例えば全般的にはスゼの「半導体装置
の物理」(1981年第2版、ワイリー・インターサイ
エン・ス社発行)第729頁乃至第730頁参照。電子
易動度の高いトランジスタ(HEMT)が量子井戸装置
の別の形式であり、典型的には量子井戸の半分だけ(1
個のへテロ接合)を使うが、少数個の量子井戸の積重ね
を含んでいてよい。HEMTの性質は、ヘテロ接合と平
行に、量子井戸の伝導又は価電子サブバンド内での伝導
によって生ずる。導電キャリヤ(電子又は正孔)がその
ドナー又はアクセプタから隔離され、この隔離がキャリ
ヤの不純物散乱を制限する。例えばジャーナル・オプ・
アプライド中フィジックス誌1023 (1982年)
所載の王、ドラモンド他の論文「単−及び多重周期変調
によってドープされた(At 、Ga )As /Ga
Asヘテロ構造内の電子易動度」を参照されたい。超
格子は、個々の井戸が識別出来ないくらいに密接に結合
された数多くの量子井戸で構成されるが、井戸は格子内
の原子と似て来る。
この為、超格子は結合量子井戸のグループとしてよりも
、新しい種類の材料の様に振舞う。例えば全般的にCR
Cクリティカル・レビューズ・イン・ソリッド・ステー
ト・サイエンセズ195(1976年4月号)所載のし
、エサキ他の論文「分子ビーム・エピタキシャル法によ
って成長させた半導体の超微細構造」を参照されたい。
、新しい種類の材料の様に振舞う。例えば全般的にCR
Cクリティカル・レビューズ・イン・ソリッド・ステー
ト・サイエンセズ195(1976年4月号)所載のし
、エサキ他の論文「分子ビーム・エピタキシャル法によ
って成長させた半導体の超微細構造」を参照されたい。
ダイオードに2次元及び3次元の量子井戸形の超格子を
取入れると、差別的な負性抵抗を示す。米国特許第4.
503.447号参照。
取入れると、差別的な負性抵抗を示す。米国特許第4.
503.447号参照。
量子井戸は典型的には厚さが100秤程度であり、数平
方ミクロンの面積を占める様に容易に作ることが出来、
この為、詰込み密度が高く、伝搬遅延が小さい極めて小
形の装置が得られる。然し、公知の量子井戸は、フリッ
プ70ツブ、シフトレジスタ、マルチプレクサ、演算増
幅鼎、ランダムアクセス・メモリ等の様な標準的な電子
部品の作用を果すことが出来ない。
方ミクロンの面積を占める様に容易に作ることが出来、
この為、詰込み密度が高く、伝搬遅延が小さい極めて小
形の装置が得られる。然し、公知の量子井戸は、フリッ
プ70ツブ、シフトレジスタ、マルチプレクサ、演算増
幅鼎、ランダムアクセス・メモリ等の様な標準的な電子
部品の作用を果すことが出来ない。
問題点を解決する為の 段 び
本発明は、交差部に共通の切換え可能な井戸を持つ結合
量子井戸の交差導電線を提供する。切換え可能な井戸は
、どの交差線が導電するかを選択することが出来る様に
する。線の交差部に共通の切換え可能な井戸を設けて、
他の平行な導電線と交差する平行な導電線のアレーが、
どの組の平行線が導電するかを選択することが出来る様
にする。
量子井戸の交差導電線を提供する。切換え可能な井戸は
、どの交差線が導電するかを選択することが出来る様に
する。線の交差部に共通の切換え可能な井戸を設けて、
他の平行な導電線と交差する平行な導電線のアレーが、
どの組の平行線が導電するかを選択することが出来る様
にする。
導電線が情報に対してクロック作用をすることが出来る
ので、アレーがシフトレジスタとして作用することが出
来、2つの直交方向に沿って心臓が収縮する形でデータ
を移送することが出来、こうしてベクトル・マトリクス
乗算を行なうことが出来る。導電線は全て単一平面内に
あってよく、この為、1平面内にあって、洩話のない線
の多重交差を利用することが出来る。種々の多重交差装
置 ゛により、量子井戸導体によって標準的な
電子部品の機能を果すことが出来る。例えば、共通の切
換え可能な井戸で他の線とのnWAの交差部を夫々持つ
2” ” n (2のn乗)本の線の一組をデマルチプ
レクサ・トリーに構成することが出来、こうしてnビッ
ト・スイッチ信号のデマルチプレクサとして作用させる
ことが出来る。2” (n−1)(2の(n−1)乗
)個の交差部からなる各々のグループに1つのスイッチ
φビットが印加される。
ので、アレーがシフトレジスタとして作用することが出
来、2つの直交方向に沿って心臓が収縮する形でデータ
を移送することが出来、こうしてベクトル・マトリクス
乗算を行なうことが出来る。導電線は全て単一平面内に
あってよく、この為、1平面内にあって、洩話のない線
の多重交差を利用することが出来る。種々の多重交差装
置 ゛により、量子井戸導体によって標準的な
電子部品の機能を果すことが出来る。例えば、共通の切
換え可能な井戸で他の線とのnWAの交差部を夫々持つ
2” ” n (2のn乗)本の線の一組をデマルチプ
レクサ・トリーに構成することが出来、こうしてnビッ
ト・スイッチ信号のデマルチプレクサとして作用させる
ことが出来る。2” (n−1)(2の(n−1)乗
)個の交差部からなる各々のグループに1つのスイッチ
φビットが印加される。
この為、この様な切換え可能な共通の井戸により、量子
井戸導体を用いて標準的な信号の移送及び論理機能を果
す問題が解決される。
井戸導体を用いて標準的な信号の移送及び論理機能を果
す問題が解決される。
友−皇−1
第1図は結合量子井戸の2本の交差部111112゜1
4に対する好ましい第1の実施例の切換え装置の平面図
である。線12.14が、AI 0.3Ga 0,7A
8基板15内のGa As電位井戸で形成される。線1
2内の井戸には参照数字121゜122.123等を付
け、線14内の井戸には参照数字141,142,14
3等を付けである。
4に対する好ましい第1の実施例の切換え装置の平面図
である。線12.14が、AI 0.3Ga 0,7A
8基板15内のGa As電位井戸で形成される。線1
2内の井戸には参照数字121゜122.123等を付
け、線14内の井戸には参照数字141,142,14
3等を付けである。
I!12内の井戸の寸法は、100人×100人×深さ
1ミクロンであり、隣合う井戸の問は100人隔たって
いる。線14内の井戸は80人×80八×深さ1ミクロ
ンであって、隣合う井戸の間が100人隔たっている。
1ミクロンであり、隣合う井戸の問は100人隔たって
いる。線14内の井戸は80人×80八×深さ1ミクロ
ンであって、隣合う井戸の間が100人隔たっている。
井戸16は100人×10OA×深さ1ミクロンであっ
て、第1図の図面の平面に対して垂直な方向に伸びてお
り、制wi!極18とショットキー障壁を作る。第1図
では、図面を見易くする為に、垂直方向の寸法を著しく
縮めであるが、第1図の線2−2で切った側面断面図が
第2図に示されている。井戸16が[112の一番近い
井戸からも線14の一番近い井戸からも、100人離れ
ており、電極18が絶縁体20によって基板15から絶
縁されていることに注意されたい。
て、第1図の図面の平面に対して垂直な方向に伸びてお
り、制wi!極18とショットキー障壁を作る。第1図
では、図面を見易くする為に、垂直方向の寸法を著しく
縮めであるが、第1図の線2−2で切った側面断面図が
第2図に示されている。井戸16が[112の一番近い
井戸からも線14の一番近い井戸からも、100人離れ
ており、電極18が絶縁体20によって基板15から絶
縁されていることに注意されたい。
基板15、井戸16及び線12及び14の井戸は、3i
でn形に軽くドープされている。この結果、線12及び
14に沿って生ずる電子エネルギ帯の線図が、線12及
び14の方向の空間的な量子化による離散的なエネルギ
・レベル(サブバンドの底)を含めて、夫々第3A図及
び第3B図に示されている。導電電子に対する実効質量
の近似を使うことにより、離散的な工゛ネルギ・レベル
を近似的に計算することが出来ること、井戸が十分接近
していて波動関数の重なりを持つこと(かなりの共振ト
ンネル作用があること)、並びに30OKでも、離散的
なエネルギ・レベルが、ホノンによって支援される混合
を避けるくらいに隔たっていることに注意されたい。更
に、基板15内のドーパントによって与えられる導電電
子が、伝導帯の不連続性の為、Ga As井戸内に素早
く拡散し、この井戸によってトラップされる。基板15
内のドナーと井戸の中の電子の間の隔たりにより、静電
界が生ずる。然し、見易くする為、この結果生ずる帯の
曲げは図面では省略されている。
でn形に軽くドープされている。この結果、線12及び
14に沿って生ずる電子エネルギ帯の線図が、線12及
び14の方向の空間的な量子化による離散的なエネルギ
・レベル(サブバンドの底)を含めて、夫々第3A図及
び第3B図に示されている。導電電子に対する実効質量
の近似を使うことにより、離散的な工゛ネルギ・レベル
を近似的に計算することが出来ること、井戸が十分接近
していて波動関数の重なりを持つこと(かなりの共振ト
ンネル作用があること)、並びに30OKでも、離散的
なエネルギ・レベルが、ホノンによって支援される混合
を避けるくらいに隔たっていることに注意されたい。更
に、基板15内のドーパントによって与えられる導電電
子が、伝導帯の不連続性の為、Ga As井戸内に素早
く拡散し、この井戸によってトラップされる。基板15
内のドナーと井戸の中の電子の間の隔たりにより、静電
界が生ずる。然し、見易くする為、この結果生ずる帯の
曲げは図面では省略されている。
第4A図及び第4B図は、夫々電圧を印加しない時、並
びに基板15に対して電極18に−0,5ボルトを印加
した時の、第2図の線4−4に沿って見たエネルギ帯を
示す。電極18から基板15に対する接続部19も、第
4A図及び第4B図の右側部分に示されている。第3A
図及び第3B図の電極18に対するこの印加電圧の影響
を含めると、夫々第5A図及び第5B図の様になる。
びに基板15に対して電極18に−0,5ボルトを印加
した時の、第2図の線4−4に沿って見たエネルギ帯を
示す。電極18から基板15に対する接続部19も、第
4A図及び第4B図の右側部分に示されている。第3A
図及び第3B図の電極18に対するこの印加電圧の影響
を含めると、夫々第5A図及び第5B図の様になる。
これまでの説明から、112及び線14に対して井戸1
6がスイッチとして動作することは明らかである。電極
18に電圧を印加しないと、線12が導電する。(井戸
のエネルギ・レベルが揃って共振゛トンネル作用が生ず
る。)これに対し、線14は、井戸16で共振トンネル
作用が中断される為に、高インピーダンスを呈する。逆
に、電極18に−0,5ボルトが印加されると、線12
の導電がなくなるが、線14の共振トンネル作用が設定
される。まとめて云えば、井戸16をバイアスすること
により、1112がオンで線14がオフの状態からI!
12がオフで線14がオンの状態に切換えることが出来
る。勿論、この例では、−0,25ボルトと云う様に、
井戸のエネルギ・レベルを揃える電圧とは実質的に異な
る電圧を印加すると、両方の1112.14の共振トン
ネル作用がなくなる。この特徴は、取付けられているが
選択されていない装置を3状態にしなければならない様
な信号バスに役立つ。
6がスイッチとして動作することは明らかである。電極
18に電圧を印加しないと、線12が導電する。(井戸
のエネルギ・レベルが揃って共振゛トンネル作用が生ず
る。)これに対し、線14は、井戸16で共振トンネル
作用が中断される為に、高インピーダンスを呈する。逆
に、電極18に−0,5ボルトが印加されると、線12
の導電がなくなるが、線14の共振トンネル作用が設定
される。まとめて云えば、井戸16をバイアスすること
により、1112がオンで線14がオフの状態からI!
12がオフで線14がオンの状態に切換えることが出来
る。勿論、この例では、−0,25ボルトと云う様に、
井戸のエネルギ・レベルを揃える電圧とは実質的に異な
る電圧を印加すると、両方の1112.14の共振トン
ネル作用がなくなる。この特徴は、取付けられているが
選択されていない装置を3状態にしなければならない様
な信号バスに役立つ。
好ましい第1の実施例の切換え装置は、第1図のパター
ンでAI 0.3Ga 0.7Asの基板上に厚さ1ミ
クロンのGa Asエピタキシャル層を電子ビームでパ
ターンを定めることによって作ることが出来る。次に、
このパターンの下にある高さ1ミクロンの柱を除いて、
反応性イオン・エツチングによってGa Asを除去す
る。その後、AI O,3Ga O,7Asを成長させ
てQa Asの柱の間を埋め、このGa Asが井戸1
21.122等になる。
ンでAI 0.3Ga 0.7Asの基板上に厚さ1ミ
クロンのGa Asエピタキシャル層を電子ビームでパ
ターンを定めることによって作ることが出来る。次に、
このパターンの下にある高さ1ミクロンの柱を除いて、
反応性イオン・エツチングによってGa Asを除去す
る。その後、AI O,3Ga O,7Asを成長させ
てQa Asの柱の間を埋め、このGa Asが井戸1
21.122等になる。
結合量子井戸の導電線12及び14に対する好ましい第
2の実施例の切換え装置は、第6図に示す様に、好まし
い第1の実施例の井戸16を井戸216で置換える他は
、好ましい第1の実施例の装置と同様である。第6図は
第2図と同様であり、線12の井戸122,123,1
24,125、基板15、絶縁体220及び金属電極2
18を示している。好ましい第2の実施例はアース平面
228を持ち、これは基板15内のn土層である。
2の実施例の切換え装置は、第6図に示す様に、好まし
い第1の実施例の井戸16を井戸216で置換える他は
、好ましい第1の実施例の装置と同様である。第6図は
第2図と同様であり、線12の井戸122,123,1
24,125、基板15、絶縁体220及び金属電極2
18を示している。好ましい第2の実施例はアース平面
228を持ち、これは基板15内のn土層である。
電極218が、MOSキャパシタと同じ様に、井戸21
6及びその周囲の電位を(電子に対して)上昇させるこ
とにより、井戸216が切換わり、この為井戸216に
対する直接的な電気接続を必要としない。井戸216の
切換えは井戸16の切換えと同様であり、電極218に
電圧を印加しないと、線12が導電し、線14が開路で
ある。これに対して約0.5ボルトを電極218に印加
すると、線12が開路であり、線14が導電する。
6及びその周囲の電位を(電子に対して)上昇させるこ
とにより、井戸216が切換わり、この為井戸216に
対する直接的な電気接続を必要としない。井戸216の
切換えは井戸16の切換えと同様であり、電極218に
電圧を印加しないと、線12が導電し、線14が開路で
ある。これに対して約0.5ボルトを電極218に印加
すると、線12が開路であり、線14が導電する。
好ましい第1の実施例と同じ様に成立する第3A図、第
3B図及び第5A図、第5B図を参照されたい。
3B図及び第5A図、第5B図を参照されたい。
好ましい第3の実施例の切換え装置は、井戸16を第7
図に示す井戸316に置換えた他は、好ましい第1の実
施例と同様である。第7図は第2図と同様であり、線1
2の井戸122,123゜124.125、基板15及
び電極318を示している。電極はp十形Ga Asで
あり、井戸316と逆バイアス接合を形成する。基板1
5に対して電極318に負の電圧を印加すると、やはり
井戸316の電位が上昇し、第3A図、第38図及び第
5A図、第5B図が成立する。
図に示す井戸316に置換えた他は、好ましい第1の実
施例と同様である。第7図は第2図と同様であり、線1
2の井戸122,123゜124.125、基板15及
び電極318を示している。電極はp十形Ga Asで
あり、井戸316と逆バイアス接合を形成する。基板1
5に対して電極318に負の電圧を印加すると、やはり
井戸316の電位が上昇し、第3A図、第38図及び第
5A図、第5B図が成立する。
好ましい第1、第2及び第3の実施例の変形は、単によ
り多くの井戸を電極18,218.318の影響を受け
る様にすることである。例えば、井戸16と共に、井戸
123,124,143,144を切換えることが出来
る。線12及び線14の両方にある3つの井戸をこの様
に切換えることは、3つの井戸を横切る非共振性トンネ
ル作用が1つの井戸だけを横切る場合よりもずっと小さ
いから、開路している線の洩れ電流を減少させるはずで
ある。
り多くの井戸を電極18,218.318の影響を受け
る様にすることである。例えば、井戸16と共に、井戸
123,124,143,144を切換えることが出来
る。線12及び線14の両方にある3つの井戸をこの様
に切換えることは、3つの井戸を横切る非共振性トンネ
ル作用が1つの井戸だけを横切る場合よりもずっと小さ
いから、開路している線の洩れ電流を減少させるはずで
ある。
好ましい第4の実施例の装置は、好ましい第1、第2及
び第3の実施例と同様に作用するが、周囲との組成の差
(AI Ga As内のQa As井戸)によって限定
された井戸の中のエネルギ・レベルを変更する代りに、
好ましい第4の実施例は制御電極を用いて、反転層とし
て限定された電位井戸を作り又はなくす。具体的に云う
と、第8図は好ましい第4の実施例の平面図であり、こ
れはAt xGa (1−x)As基板415内にあ
って線42を形成するGa Asの井戸421,422
゜423.424,425,426と、基板415内に
あるQa ASの井戸442,443.444と、基板
415の領域416とを含み、後者の井戸及び領域が縮
44を形成する。これらの井戸は約10°O入隔たって
いて、第8図の平面内で約10OAの直径を持っている
。井戸の深さは、エネルギ・レベルが面積によって決定
され、1ミクロンの深さで十分であるから、やはり臨界
的ではない。第9図は第8図の線9−9から見た側面断
面図であって、領域416の上方に絶縁体420を持つ
電極41Bを示している。図面を見易くする為、第9図
では垂直方向の倍率を著しく小さくしであることに注意
されたい。
び第3の実施例と同様に作用するが、周囲との組成の差
(AI Ga As内のQa As井戸)によって限定
された井戸の中のエネルギ・レベルを変更する代りに、
好ましい第4の実施例は制御電極を用いて、反転層とし
て限定された電位井戸を作り又はなくす。具体的に云う
と、第8図は好ましい第4の実施例の平面図であり、こ
れはAt xGa (1−x)As基板415内にあ
って線42を形成するGa Asの井戸421,422
゜423.424,425,426と、基板415内に
あるQa ASの井戸442,443.444と、基板
415の領域416とを含み、後者の井戸及び領域が縮
44を形成する。これらの井戸は約10°O入隔たって
いて、第8図の平面内で約10OAの直径を持っている
。井戸の深さは、エネルギ・レベルが面積によって決定
され、1ミクロンの深さで十分であるから、やはり臨界
的ではない。第9図は第8図の線9−9から見た側面断
面図であって、領域416の上方に絶縁体420を持つ
電極41Bを示している。図面を見易くする為、第9図
では垂直方向の倍率を著しく小さくしであることに注意
されたい。
好ましい第4の実施例の動作が第10A図、第108図
、第11A図及び第118図に示されており、他の好ま
しい実施例と似ている。この実施例では、制御IN位が
トンネル構造の周期性を設定するか或いはなくし、こう
して切換え動作を行なう。特に、電極418に電圧が印
加されていない時、第10A図は導電線42に沿った伝
導帯の縁を示しており、第108図は導電線44に沿っ
た伝導帯の縁を示している。この両方の伝導帯の縁が領
域416を通る導電線の内、電極418(第9図の破線
1O−10)のaぐ下にある部分に対応している。電極
418に3ボルトを印加した時、第11A図は線42に
沿った伝導帯の縁を示しており、第11B図は線44に
沿った伝導帯の縁を示している。第10図及び第11図
で、対応する井戸の参照符号が記入されており、電圧を
印加しない時の、[142に沿った共振トンネル作用が
第10図に示されているが、l1i44に沿った共振ト
ンネル作用は示されていない。これと対照的に、電極4
18に電圧を印加した時、領域416内に電位井戸が形
成され、これが線42の共振状態をなくす(第11A図
)が、線44の共像状態を設定し、こうしてその導電を
設定する(第118図)。第1、第2及び第3の実施例
と同じく、交差1142.44の共振トンネル作用のエ
ネルギは同じである必要はない。この為、制御素子の状
態に関係なく、交差線の間の高い電気的な隔離を達成す
ることが出来る。
、第11A図及び第118図に示されており、他の好ま
しい実施例と似ている。この実施例では、制御IN位が
トンネル構造の周期性を設定するか或いはなくし、こう
して切換え動作を行なう。特に、電極418に電圧が印
加されていない時、第10A図は導電線42に沿った伝
導帯の縁を示しており、第108図は導電線44に沿っ
た伝導帯の縁を示している。この両方の伝導帯の縁が領
域416を通る導電線の内、電極418(第9図の破線
1O−10)のaぐ下にある部分に対応している。電極
418に3ボルトを印加した時、第11A図は線42に
沿った伝導帯の縁を示しており、第11B図は線44に
沿った伝導帯の縁を示している。第10図及び第11図
で、対応する井戸の参照符号が記入されており、電圧を
印加しない時の、[142に沿った共振トンネル作用が
第10図に示されているが、l1i44に沿った共振ト
ンネル作用は示されていない。これと対照的に、電極4
18に電圧を印加した時、領域416内に電位井戸が形
成され、これが線42の共振状態をなくす(第11A図
)が、線44の共像状態を設定し、こうしてその導電を
設定する(第118図)。第1、第2及び第3の実施例
と同じく、交差1142.44の共振トンネル作用のエ
ネルギは同じである必要はない。この為、制御素子の状
態に関係なく、交差線の間の高い電気的な隔離を達成す
ることが出来る。
第12図は交差導電線のアレーの好ましい実施例を平面
図で示しており、交差部に切換え可能な井戸があり、導
電線がプロセッサの節と相互接続されている。特に、プ
ロセッサの節が参照数字501を付した四角によって示
されており、X方向(第12図で水平方向)の量子井戸
導電線を参照符号503で示し、y方向の量子井戸導電
線を参照符号505で示しており、切換え可能な井戸は
参照符号507を付した小さな円で示しである。
図で示しており、交差部に切換え可能な井戸があり、導
電線がプロセッサの節と相互接続されている。特に、プ
ロセッサの節が参照数字501を付した四角によって示
されており、X方向(第12図で水平方向)の量子井戸
導電線を参照符号503で示し、y方向の量子井戸導電
線を参照符号505で示しており、切換え可能な井戸は
参照符号507を付した小さな円で示しである。
希望する場合、1個の大形電極を使って多くの又は全て
の切換え可能な井戸507を制御することが出来ること
に注意されたい。動作中、線503が導電し、1505
が開路する様に電極が切換え可能な井戸507を設定す
る時、並列データがX方向に沿って左から右に読込まれ
、l1i505が導電し、線503が開路する様に、電
極が切換え可能な井戸507を設定する時、並列データ
がy方向に沿って上から下に読込まれる。プロセッサ5
01は、左又は下から入力し、右又は上から出力する様
な一方向性にすることが出来る。このアレーは心臓収縮
形の構造を持っている。この構造を3つの信号方向を持
つ六角形アレーに拡彊することは簡単である。勿論、両
方向のプロセッサ及び導電線に沿ったデータの流れも可
能である。
の切換え可能な井戸507を制御することが出来ること
に注意されたい。動作中、線503が導電し、1505
が開路する様に電極が切換え可能な井戸507を設定す
る時、並列データがX方向に沿って左から右に読込まれ
、l1i505が導電し、線503が開路する様に、電
極が切換え可能な井戸507を設定する時、並列データ
がy方向に沿って上から下に読込まれる。プロセッサ5
01は、左又は下から入力し、右又は上から出力する様
な一方向性にすることが出来る。このアレーは心臓収縮
形の構造を持っている。この構造を3つの信号方向を持
つ六角形アレーに拡彊することは簡単である。勿論、両
方向のプロセッサ及び導電線に沿ったデータの流れも可
能である。
第13図は量子井戸導電線を切換え可能な共通の井戸と
簡単に接続して、論理関数を形成することを示している
。特に第13図は共通の切換え可能な井戸605並びに
607に接続部を持つ導電線601.603を示してい
る。この構成は、次に述べる様に、アンド及びインバー
タの様な論理動作が出来る様にする。節609及び61
1が(第13図では節615から伸びる破線として示し
である)切換え可能な井戸605に対する制御電極と共
に、入力と考えられ、節613が出力と考えられる。こ
の構成では、節615の低(論理0)電圧が1601を
導電させると共に線603を開路にし、節615の高(
論理1)電圧が線601を開路にし、線603を導電さ
せる様に、切換え可能な井戸605が設定されると仮定
する。
簡単に接続して、論理関数を形成することを示している
。特に第13図は共通の切換え可能な井戸605並びに
607に接続部を持つ導電線601.603を示してい
る。この構成は、次に述べる様に、アンド及びインバー
タの様な論理動作が出来る様にする。節609及び61
1が(第13図では節615から伸びる破線として示し
である)切換え可能な井戸605に対する制御電極と共
に、入力と考えられ、節613が出力と考えられる。こ
の構成では、節615の低(論理0)電圧が1601を
導電させると共に線603を開路にし、節615の高(
論理1)電圧が線601を開路にし、線603を導電さ
せる様に、切換え可能な井戸605が設定されると仮定
する。
この時、節609をアースに接続すると、節613に於
ける出力は節611及び615の入力のアンドである。
ける出力は節611及び615の入力のアンドである。
(615の入力が低であれば、線601が導電し、61
3の出力はアースされた609の入力に等しい。これに
対して、615の入力が高であれば、線603が導電し
、613の出力は611の入力に等しい。)同様に、節
609の入力が高であり、節611の入力が低であれば
、節613の出力は615の入力を反転したものになる
。
3の出力はアースされた609の入力に等しい。これに
対して、615の入力が高であれば、線603が導電し
、613の出力は611の入力に等しい。)同様に、節
609の入力が高であり、節611の入力が低であれば
、節613の出力は615の入力を反転したものになる
。
切換え動作を保存しながら、好ましい実施例の寸法及び
材料は大幅に変えることが出来る。実際、砒化ガリウム
・アルミニウム系を、砒化燐化インジウム、テルル化水
銀カドミウム等の様な他の系に取替えても、単結晶構造
を保つことが出来る。
材料は大幅に変えることが出来る。実際、砒化ガリウム
・アルミニウム系を、砒化燐化インジウム、テルル化水
銀カドミウム等の様な他の系に取替えても、単結晶構造
を保つことが出来る。
更に、この装置は硝子、絶縁体、金属等で作っても、好
ましい実施例と同じ様に量子井戸構造を持ち且つ動作す
ることが出来る。電子の代りに正孔をキャリヤにしても
よく、或いは正孔と電子の両方を同時にキャリヤにして
もよい。共振トンネル作用は、好ましい実施例に示した
基底レベル以外のエネルギ・レベルを通るものであって
もよい。
ましい実施例と同じ様に量子井戸構造を持ち且つ動作す
ることが出来る。電子の代りに正孔をキャリヤにしても
よく、或いは正孔と電子の両方を同時にキャリヤにして
もよい。共振トンネル作用は、好ましい実施例に示した
基底レベル以外のエネルギ・レベルを通るものであって
もよい。
実際、共通の電極の下にある多重井戸内の多重レベルを
使うことが、多極スイッチの根拠になり得る。勿論、共
振トンネル作用が利用出来さえすれば、導電線は種々の
形式の井戸(深さ、エネルギ・レベルのスペクトル、材
料等が異なる)の混合物にすることが出来る。
使うことが、多極スイッチの根拠になり得る。勿論、共
振トンネル作用が利用出来さえすれば、導電線は種々の
形式の井戸(深さ、エネルギ・レベルのスペクトル、材
料等が異なる)の混合物にすることが出来る。
1平面内にある交差する結合領域井戸導体の切換えによ
り、小形装@(論理回路、マルチプレクサ、収縮形アレ
ー等)とプレーナ形装置のアレーの両方が得られる。
り、小形装@(論理回路、マルチプレクサ、収縮形アレ
ー等)とプレーナ形装置のアレーの両方が得られる。
以上の説明に関連して更に下記の各項を開示する。
(1) 基板内の複数個の結合量子井戸と、前記基板
内の電極とを有し、該電極は、該電極に電圧を印加する
ことにより、1つ又は更に多くの前記井戸に影響を与え
て、該影響を与えられた井戸と他の井戸の間の共振トン
ネル作用を設定し又はなくす様に位置決めされている切
換え可能な結合量子井戸導体。
内の電極とを有し、該電極は、該電極に電圧を印加する
ことにより、1つ又は更に多くの前記井戸に影響を与え
て、該影響を与えられた井戸と他の井戸の間の共振トン
ネル作用を設定し又はなくす様に位置決めされている切
換え可能な結合量子井戸導体。
(2) 第(1)項に記載した切換え可能な結合量子
井戸導体に於て、前記電極が影響を受ける井戸と共にシ
ョットキー障壁を形成する導電材料を含んでいる切換え
可能な結合量子井戸導体。
井戸導体に於て、前記電極が影響を受ける井戸と共にシ
ョットキー障壁を形成する導電材料を含んでいる切換え
可能な結合量子井戸導体。
(3) 第(1)項に記載した切換え可能な結合量子
井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸と共
に逆バイアスされた接合を形成する導電材料を含んでい
る切換え可能な結合量子井戸導体。
井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸と共
に逆バイアスされた接合を形成する導電材料を含んでい
る切換え可能な結合量子井戸導体。
(4) 第(1)項に記載した切換え可能な結合量子
井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸と容
量結合された導電材料を含んでいる切換え可能な結合量
子井戸導体。
井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸と容
量結合された導電材料を含んでいる切換え可能な結合量
子井戸導体。
(5) 第(1)項に記載した切換え可能な結合量子
井戸導体に於て、前記電極が電圧を印加することによっ
て井戸を誘起する切換え可能な結合量子井戸導体。
井戸導体に於て、前記電極が電圧を印加することによっ
て井戸を誘起する切換え可能な結合量子井戸導体。
(6) 第(1)項に記載した切換え可能な結合量子
井戸導体に於て、前記電極が少なくとも1つの井戸の拡
大部を誘起する切換え可能な結合量子井戸導体。
井戸導体に於て、前記電極が少なくとも1つの井戸の拡
大部を誘起する切換え可能な結合量子井戸導体。
(7) 基板内の第1の複数個の結合量子井戸と、前
記基板内の第2の複数個の結合量子井戸と、前記基板内
の電極とを有し、該電極は、該電極に電圧を、印加する
ことにより、影響を受ける井戸と、前記第1の複数個の
内の別の井戸及び前記第2の複数個の内の別の井戸の間
の共振トンネル作用を設定し又はなくす様に位置ぎめさ
れている切換え可能な交差結合量子井戸導体。
記基板内の第2の複数個の結合量子井戸と、前記基板内
の電極とを有し、該電極は、該電極に電圧を、印加する
ことにより、影響を受ける井戸と、前記第1の複数個の
内の別の井戸及び前記第2の複数個の内の別の井戸の間
の共振トンネル作用を設定し又はなくす様に位置ぎめさ
れている切換え可能な交差結合量子井戸導体。
(8) 第(7)項に記載した切換え可能な交差結合
量子井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸
と共にショットキー障壁を形成する導電材料を含んでい
る切換え可能な交差結合量子井戸導体。
量子井戸導体に於て、前記電極が前記影響を受ける井戸
と共にショットキー障壁を形成する導電材料を含んでい
る切換え可能な交差結合量子井戸導体。
(9) 第(7)項に記載した切換え可能な交差結合
量子井戸導体に於て、前記′Ii穫が前記影響を受昏プ
る井戸と共に逆バイアスされた接合を形成する導電材料
を含んでいる切換え可能な交差結合量子井戸導体。
量子井戸導体に於て、前記′Ii穫が前記影響を受昏プ
る井戸と共に逆バイアスされた接合を形成する導電材料
を含んでいる切換え可能な交差結合量子井戸導体。
(10) 第(7)項に記載した切換え可能な交差結
合量子井戸導体に於て、前記電、極が前記影響を受ける
井戸に容量結合された導電材料を含んでいる切換え可能
な交差結合量子井戸導体。
合量子井戸導体に於て、前記電、極が前記影響を受ける
井戸に容量結合された導電材料を含んでいる切換え可能
な交差結合量子井戸導体。
(11)第(7)項に記載した切換え可能な交差結合m
子井戸導体に於て、前記電極が電圧を印加することによ
って井戸を誘起する切換え可能な交差結合量子井戸導体
。
子井戸導体に於て、前記電極が電圧を印加することによ
って井戸を誘起する切換え可能な交差結合量子井戸導体
。
(12)第(7)項に記載した切換え可能な交差結合量
子井戸導体に於て、前記電極が少なくとも1つの井戸の
拡大部を誘起する切換え可能な交差結合量子井戸導体。
子井戸導体に於て、前記電極が少なくとも1つの井戸の
拡大部を誘起する切換え可能な交差結合量子井戸導体。
(13)基板内にある第1の複数個の結合量子井戸導体
を有し、該第1の複数個の導体は互いに交差せず、該第
1の複数個の導体の各々は前記基板内に複数個の結合量
子井戸を含んでおり、更に前記基板内に第2の複数個の
結合量子井戸導体を有し、該第2の複数個の導体は互い
に交差しないが、前記第1の複数個の導体と交差してお
り、該第2の複数の導体の各々は基板内に複数個の結合
量子井戸を持っており、前記基板内に複数個の電極が設
けられ、各々の電極は、該電極に電圧が印加されること
により、1つ又は更に多くの交差部にある1つ又は更に
多くの井戸に影響を与える様に位置ぎめされていて、該
影響を受ける井戸及び交差部を形成する前記複数個の導
体の別の井戸の間の共振トンネル作用を設定し又はなく
す様になっている結合量子井戸導体のアレー。
を有し、該第1の複数個の導体は互いに交差せず、該第
1の複数個の導体の各々は前記基板内に複数個の結合量
子井戸を含んでおり、更に前記基板内に第2の複数個の
結合量子井戸導体を有し、該第2の複数個の導体は互い
に交差しないが、前記第1の複数個の導体と交差してお
り、該第2の複数の導体の各々は基板内に複数個の結合
量子井戸を持っており、前記基板内に複数個の電極が設
けられ、各々の電極は、該電極に電圧が印加されること
により、1つ又は更に多くの交差部にある1つ又は更に
多くの井戸に影響を与える様に位置ぎめされていて、該
影響を受ける井戸及び交差部を形成する前記複数個の導
体の別の井戸の間の共振トンネル作用を設定し又はなく
す様になっている結合量子井戸導体のアレー。
(14)第(13)項に記載したアレーに於て、複数個
のプロセッサを有し、各々のプロセッサは、前記影響を
受ける井戸の内の1つを持たない前記交差部の内の1つ
に配置されているアレー。
のプロセッサを有し、各々のプロセッサは、前記影響を
受ける井戸の内の1つを持たない前記交差部の内の1つ
に配置されているアレー。
第1図は2本の交差結合量子井戸導電線に対する好まし
い第1の実施−のスイッチの簡略平面図、第2図は第1
図の線2−2で切った簡略側面断面図、第3A図及び第
3B図は第1図の導電線に沿った伝導帯及び価電子帯を
示す図、第4A図及び第4B図は好ましい第1の実施例
のスイッチをバイアスする為の伝導帯及び価電子帯の曲
がりを示す図、第5A図及び第5B図はバイアスを印加
し□ た時の第3A図及び第3B図の伝導帯及び価電
子帯の様子を示す図、第6図は第2図と同様に、好まし
い第2の実施例のスイッチを示す簡略側面断面図、第7
図は第2図と同様に、好ましい第3の実施例のスイッチ
を示す簡略側面断面図、第8図は2本の交差結合量子井
戸導Wi縮に対する好ましい第4の実施例のスイッチの
簡略平面図、第9図は第8図の119−9で切った簡略
側面断面図、第10A図及び第108図は第9図の導I
!線に沿った伝導帯を示す図、第11A図及び第118
図はバイアスを加えた時の第10A図及び第10B図の
伝導帯の様子を示す図、第12図は好ましい実施例の、
交差結合量子井戸線のプロセッサ・アレーの簡略平面図
、第13図は2本の交差結合量子井戸導電線から成る好
ましい実施例の論理接続部の簡略平面図である。 主な符号の説明 12.14:導電線 15:基板 16.121,122,123,141,142゜14
3=井戸 18二制御電極
い第1の実施−のスイッチの簡略平面図、第2図は第1
図の線2−2で切った簡略側面断面図、第3A図及び第
3B図は第1図の導電線に沿った伝導帯及び価電子帯を
示す図、第4A図及び第4B図は好ましい第1の実施例
のスイッチをバイアスする為の伝導帯及び価電子帯の曲
がりを示す図、第5A図及び第5B図はバイアスを印加
し□ た時の第3A図及び第3B図の伝導帯及び価電
子帯の様子を示す図、第6図は第2図と同様に、好まし
い第2の実施例のスイッチを示す簡略側面断面図、第7
図は第2図と同様に、好ましい第3の実施例のスイッチ
を示す簡略側面断面図、第8図は2本の交差結合量子井
戸導Wi縮に対する好ましい第4の実施例のスイッチの
簡略平面図、第9図は第8図の119−9で切った簡略
側面断面図、第10A図及び第108図は第9図の導I
!線に沿った伝導帯を示す図、第11A図及び第118
図はバイアスを加えた時の第10A図及び第10B図の
伝導帯の様子を示す図、第12図は好ましい実施例の、
交差結合量子井戸線のプロセッサ・アレーの簡略平面図
、第13図は2本の交差結合量子井戸導電線から成る好
ましい実施例の論理接続部の簡略平面図である。 主な符号の説明 12.14:導電線 15:基板 16.121,122,123,141,142゜14
3=井戸 18二制御電極
Claims (1)
- 基板内の複数個の結合量子井戸と、前記基板内の電極と
を有し、該電極は、該電極に電圧を印加することにより
、1つ又は更に多くの前記井戸に影響を与えて、該影響
を与えられた井戸と他の井戸の間の共振トンネル作用を
設定し又はなくす様に位置決めされている切換え可能な
結合量子井戸導体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72506785A | 1985-04-19 | 1985-04-19 | |
US725067 | 1991-07-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS621278A true JPS621278A (ja) | 1987-01-07 |
JPH0824194B2 JPH0824194B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=24913030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61089828A Expired - Lifetime JPH0824194B2 (ja) | 1985-04-19 | 1986-04-18 | 切換え可能な結合量子井戸導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0824194B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52105785A (en) * | 1976-02-27 | 1977-09-05 | Max Planck Gesellschaft | Multiilayer semiconductor element |
JPS583277A (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-10 | インタ−ナシヨナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−シヨン | 半導体共鳴トンネル3極装置 |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP61089828A patent/JPH0824194B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52105785A (en) * | 1976-02-27 | 1977-09-05 | Max Planck Gesellschaft | Multiilayer semiconductor element |
JPS583277A (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-10 | インタ−ナシヨナル・ビジネス・マシ−ンズ・コ−ポレ−シヨン | 半導体共鳴トンネル3極装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0824194B2 (ja) | 1996-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5447873A (en) | Method of making a universal quantum dot logic cell | |
Kastalsky et al. | Novel real-space hot-electron transfer devices | |
US3005937A (en) | Semiconductor signal translating devices | |
US12072819B2 (en) | Connection component for branching off a single electron motion | |
US4912531A (en) | Three-terminal quantum device | |
KR970018601A (ko) | 전자 또는 홀을 저장하는 메모리 셸과 메모리 및 메모리 장치 형성방법 | |
US20070145347A1 (en) | Coupled quantum well devices (CQWD) containing two or more direct selective contacts and methods of making same | |
Bate | Nanoelectronics | |
US4902912A (en) | Apparatus including resonant-tunneling device having multiple-peak current-voltage characteristics | |
JP2656018B2 (ja) | 読み出し専用メモリ | |
JP4142114B2 (ja) | 相補形ヘテロ接合デバイスおよびその製造方法 | |
EP0320110A2 (en) | Memory device comprising a resonant-tunneling semiconductor diode and mode of operation | |
JP2746771B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0357627B2 (ja) | ||
EP0193842B1 (en) | Integrated semiconductor circuit with two epitaxial layers of different conductivity types | |
US5646418A (en) | Quantum effect switching device | |
JPS621278A (ja) | 切換え可能な結合量子井戸導体 | |
Allison et al. | Silicon-on-sapphire complementary MOS memory cells | |
US20230361059A1 (en) | Group iii nitride-based monolithic microwave integrated circuits including static random access memory blocks with associated addressing and buffering circuits | |
JPH06296011A (ja) | 半導体デバイス | |
US5346851A (en) | Method of fabricating Shannon Cell circuits | |
US5283445A (en) | Quantum semiconductor device employing quantum boxes for enabling compact size and high-speed operation | |
US4969018A (en) | Quantum-well logic using self-generated potentials | |
KR890007429A (ko) | 2-차원 반송자 가스 콜렉터를 구비하는 트랜지스터 | |
EP0170044B1 (en) | Quantum-coupled device |