JPS62127211A - ゴム押出品の加硫方法 - Google Patents
ゴム押出品の加硫方法Info
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- JPS62127211A JPS62127211A JP60266674A JP26667485A JPS62127211A JP S62127211 A JPS62127211 A JP S62127211A JP 60266674 A JP60266674 A JP 60266674A JP 26667485 A JP26667485 A JP 26667485A JP S62127211 A JPS62127211 A JP S62127211A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業−Lの利用分野〉
本発明は、スポンジシール部を備えたゴム押出品の加硫
方法に関し、特に、ウェザストリップのようなシール性
及び外観性の双方に厳しい品質が要求されるシール部材
の加硫に好適な方法である、ここでは、ゴム押出品とし
てウェザストリップを例に採り説明するが、これに限ら
れるものではない。
方法に関し、特に、ウェザストリップのようなシール性
及び外観性の双方に厳しい品質が要求されるシール部材
の加硫に好適な方法である、ここでは、ゴム押出品とし
てウェザストリップを例に採り説明するが、これに限ら
れるものではない。
〈従来の技術〉
従来、ウェザストリップの加硫は、熱風、流動床、マイ
クロ波等の常圧加熱手段を、通常、単独又は2種以上組
合せて行なっていた。
クロ波等の常圧加熱手段を、通常、単独又は2種以上組
合せて行なっていた。
ここで、加熱手段として常圧のものを用いる理由は、ウ
ェザストリップのスポンジシール部が異形で加硫前加圧
すると変形しやすく、溶融塩のような加圧加熱手段を用
いることは適用困難なためである。そして、スポンジシ
ール部を含めてウェザストリップのゴム配合物としては
、通常、硫黄加硫系のものを用いていた。
ェザストリップのスポンジシール部が異形で加硫前加圧
すると変形しやすく、溶融塩のような加圧加熱手段を用
いることは適用困難なためである。そして、スポンジシ
ール部を含めてウェザストリップのゴム配合物としては
、通常、硫黄加硫系のものを用いていた。
他方昨今のウェザストリップは、自動車の高速走行の機
会の増大に伴なう風切音発生防止さらには意匠性の向上
等の見地から、シール性維持の大きな要素である圧縮永
久歪が小さく、かつ、外観性にも形容のある表面肌が奇
麗なことの要求が従来にも増して厳しくなってきている
。
会の増大に伴なう風切音発生防止さらには意匠性の向上
等の見地から、シール性維持の大きな要素である圧縮永
久歪が小さく、かつ、外観性にも形容のある表面肌が奇
麗なことの要求が従来にも増して厳しくなってきている
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかし、上記圧縮永久歪の小さいスポンジシール部を得
るには、シール部のゴム配合物が、L記のような6&美
加硫系では限界がある。そこで、スポンジシール部を、
圧縮永久歪が硫性加硫系に比して小さな過酸化物加硫系
のゴム配合物で成形することが考えられる。ところが、
加硫のためにL記の如く、常圧加熱手段を用いた場合、
シール部表層部に存在する過酸化物が加熱空気(醜素)
と接触して加硫剤として働く前に分解してしまい、シー
ル部表面の加硫がほとんどできない、このとき、溶融塩
のような加圧加熱手段を用いれば、シール部表面の加硫
も可能であるが、前述の如く、スポンジシール部が変形
してしまうおそれがあり、適用できない。
るには、シール部のゴム配合物が、L記のような6&美
加硫系では限界がある。そこで、スポンジシール部を、
圧縮永久歪が硫性加硫系に比して小さな過酸化物加硫系
のゴム配合物で成形することが考えられる。ところが、
加硫のためにL記の如く、常圧加熱手段を用いた場合、
シール部表層部に存在する過酸化物が加熱空気(醜素)
と接触して加硫剤として働く前に分解してしまい、シー
ル部表面の加硫がほとんどできない、このとき、溶融塩
のような加圧加熱手段を用いれば、シール部表面の加硫
も可能であるが、前述の如く、スポンジシール部が変形
してしまうおそれがあり、適用できない。
なお、押出物の表面に被覆剤を塗布して常圧加熱を行な
えば、シール部表面の過酸化物加硫も可能であるが、加
硫後被檀剤を除去する必要があるとともに、表面肌も奇
麗なものが得がたかった。
えば、シール部表面の過酸化物加硫も可能であるが、加
硫後被檀剤を除去する必要があるとともに、表面肌も奇
麗なものが得がたかった。
〈発明の目的〉
本発明は、上記にかんがみて、スポンジシール部を備え
たゴム押出品を常圧加熱手段を用いて過酸化物加硫可能
とするゴム押出品の加硫方法を提供することを目的とす
る。
たゴム押出品を常圧加熱手段を用いて過酸化物加硫可能
とするゴム押出品の加硫方法を提供することを目的とす
る。
本発明の他の目的は、圧縮永久歪が小さく、かつ、表面
肌も奇麗なスポンジシール部を備えたゴム押出品を得る
ことができる加硫方法を提供することにある。
肌も奇麗なスポンジシール部を備えたゴム押出品を得る
ことができる加硫方法を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者は、上記問題点を解決すべく、鏡上開発に努力
をした結果、下記構成のゴム押出品の加硫方法に想到し
た。
をした結果、下記構成のゴム押出品の加硫方法に想到し
た。
スポンジシール部を備えたゴム押出品を加硫するに際し
て、スポンジシール部のゴム配合物として過酸化物加硫
系のものを用いること、スポンジシール部の表面に所定
量の電子線を照射後、所定時間、常圧加熱して加硫を完
了することを特徴とする。
て、スポンジシール部のゴム配合物として過酸化物加硫
系のものを用いること、スポンジシール部の表面に所定
量の電子線を照射後、所定時間、常圧加熱して加硫を完
了することを特徴とする。
く手段の詳細な説明〉
スポンジシール部を備えたゴム押出品とは、第2図に示
すように全断面がスポンジのもの、及び第3図に示すよ
うにスポンジ部lとソリッド部2からなるものを含む、
また、スポンジシール部は図例の如く中空でなくても中
実であってもよい。
すように全断面がスポンジのもの、及び第3図に示すよ
うにスポンジ部lとソリッド部2からなるものを含む、
また、スポンジシール部は図例の如く中空でなくても中
実であってもよい。
スポンジシール部に用いるゴム配合物としては、ウェザ
ストリップの場合、耐候性、耐オゾン性等の物性が良好
なエチレンプロピレンゴム(EPDM、EPM)、 り
tlffOプL/7ゴム(CR)等を用い、そして配合
を過酸化物加硫系のスポンジゴム配合とする。 このゴ
ム配合に使用する過酸化物加硫剤としては、ジクミルパ
ーオキサイド(「DCPOJと略す)、a、a’−ビス
(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、1
.1−ヒス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−ト
リメチルシクロヘキセン、n−7’チル−4,4−ビス
(t−ブチルパーオキシ)バレレート、2.5−ジメチ
ル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2
,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)
−ヘキシン−3等を挙げることができる。また、発泡剤
としては、ジニトロソ・ペンタメチレン・テトラミン、
アゾビスホルムアミド、p−)ルエン・スルホニルヒド
ラジド、アゾビス・イソブチロニトリル、4.4′オキ
シビス・ベンゼン・スルホニルヒドラジド(rOBsH
Jと略す)等を挙げることができる。
ストリップの場合、耐候性、耐オゾン性等の物性が良好
なエチレンプロピレンゴム(EPDM、EPM)、 り
tlffOプL/7ゴム(CR)等を用い、そして配合
を過酸化物加硫系のスポンジゴム配合とする。 このゴ
ム配合に使用する過酸化物加硫剤としては、ジクミルパ
ーオキサイド(「DCPOJと略す)、a、a’−ビス
(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、1
.1−ヒス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−ト
リメチルシクロヘキセン、n−7’チル−4,4−ビス
(t−ブチルパーオキシ)バレレート、2.5−ジメチ
ル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2
,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)
−ヘキシン−3等を挙げることができる。また、発泡剤
としては、ジニトロソ・ペンタメチレン・テトラミン、
アゾビスホルムアミド、p−)ルエン・スルホニルヒド
ラジド、アゾビス・イソブチロニトリル、4.4′オキ
シビス・ベンゼン・スルホニルヒドラジド(rOBsH
Jと略す)等を挙げることができる。
当然のことながら、上記ゴム配合物には、上記過酸化物
加硫剤、発泡剤に加えて、カーボンブラック、炭酸カル
シウム、プロセスオイル、亜鉛華、加硫促進剤等の配合
剤が適宜配合されている。
加硫剤、発泡剤に加えて、カーボンブラック、炭酸カル
シウム、プロセスオイル、亜鉛華、加硫促進剤等の配合
剤が適宜配合されている。
上記ソリッド部のゴム材料は、通常スポンジ部と同じ過
酸化物加硫系とするが、硫黄加硫系又は他の加硫系とし
てもよい。
酸化物加硫系とするが、硫黄加硫系又は他の加硫系とし
てもよい。
上記のゴム材料を用いて押出機4からの押出品Wは、第
1図に示すように連続的に又は一旦ロール等で巻き取っ
ておいて、下記方法で加硫を行なう。
1図に示すように連続的に又は一旦ロール等で巻き取っ
ておいて、下記方法で加硫を行なう。
(1)押出品Wを電子線照射装置5の中を通過させ、ス
ポンジシール部1の表面に所定量の電子線の照射を行な
う、すると、スポンジシール部の表面は電子線架橋され
る。このとき、第2図に示すように電子照射の方式は、
例えばスポンジシール部lに対して三方向から均一に照
射可能に電子線加速器のヘッド6.6.6を配して行な
う、また、電子線の照射量は、2〜30 Mradとす
る。2Mrad未満では、スポンジシール部表面の電子
線架橋が十分できず、30 Mradを超えても電子線
架橋の密度はそれ以上増大せず無駄である。なお、押出
品がソリッド部を有する場合、ソリッド部が過酸化物加
硫系のゴム材料からなるときは、この電子線照射をソリ
ッド部の表面にも行なう必要があるが、ソリッド部が硫
黄加硫系のときは必然的ではない。
ポンジシール部1の表面に所定量の電子線の照射を行な
う、すると、スポンジシール部の表面は電子線架橋され
る。このとき、第2図に示すように電子照射の方式は、
例えばスポンジシール部lに対して三方向から均一に照
射可能に電子線加速器のヘッド6.6.6を配して行な
う、また、電子線の照射量は、2〜30 Mradとす
る。2Mrad未満では、スポンジシール部表面の電子
線架橋が十分できず、30 Mradを超えても電子線
架橋の密度はそれ以上増大せず無駄である。なお、押出
品がソリッド部を有する場合、ソリッド部が過酸化物加
硫系のゴム材料からなるときは、この電子線照射をソリ
ッド部の表面にも行なう必要があるが、ソリッド部が硫
黄加硫系のときは必然的ではない。
(2)上記少なくともスポンジシール部1の表層部が電
子線架橋された押出品を、常圧加熱装置、具体的には、
第1図に示す如く、マイクロ波加熱装置7、熱風炉8の
中を順次通過させて加硫完了させる。
子線架橋された押出品を、常圧加熱装置、具体的には、
第1図に示す如く、マイクロ波加熱装置7、熱風炉8の
中を順次通過させて加硫完了させる。
ここで、マイクロ波加熱装置7の代りに流動床加熱装置
を用いてもよい。
を用いてもよい。
〈発明の効果〉
本発明のゴム押出品の加硫方法は、スポンジシール部を
備えたゴム押出品を加硫するに際して、スポンジシール
部のゴム配合物を過酸化物加硫系のものとし、スポンジ
シール部の表面に所定陽の電子線を照射後、所定時間、
常圧加熱して加硫を完了させる構成としたことにより、
スポンジシール部を備えたゴム押出品を、常圧加熱手段
を用いて過酸化物加硫可能となる。
備えたゴム押出品を加硫するに際して、スポンジシール
部のゴム配合物を過酸化物加硫系のものとし、スポンジ
シール部の表面に所定陽の電子線を照射後、所定時間、
常圧加熱して加硫を完了させる構成としたことにより、
スポンジシール部を備えたゴム押出品を、常圧加熱手段
を用いて過酸化物加硫可能となる。
従って、この加硫方法で得られたゴム押出品のスポンジ
シール部が、圧縮永久歪か硫黄加硫系のものに比して小
さいとともに、後述の実施例でも明らかな如く、外a(
表面肌)の向上している。
シール部が、圧縮永久歪か硫黄加硫系のものに比して小
さいとともに、後述の実施例でも明らかな如く、外a(
表面肌)の向上している。
〈実施例〉
以下に実施例を比較例とともに挙げ、本発明の効果を確
認する。
認する。
(1)ゴム配合物の調製
第1表に示す各配合処方において、加硫剤(共架橋剤含
む)、加硫促進剤及び発泡剤を除いて、20!lバンバ
リーミキサ−で充分混練して冷却後、18インチオープ
ンロールで、残りの配合剤を投入して、5分間混練し、
冷却して各ゴム配合物■、■を得た。
む)、加硫促進剤及び発泡剤を除いて、20!lバンバ
リーミキサ−で充分混練して冷却後、18インチオープ
ンロールで、残りの配合剤を投入して、5分間混練し、
冷却して各ゴム配合物■、■を得た。
(2)押出品の成形
上記で調製した各ゴム配合物■、■を、50論膳押出機
(L/D= 12)を用い、かつ温度をシリンダ後/前
/ヘッド=50℃/60℃/70℃にコントロールして
第4図に示す形状(肉厚2■、縦20■■、横201)
の押出品Wを成形した。
(L/D= 12)を用い、かつ温度をシリンダ後/前
/ヘッド=50℃/60℃/70℃にコントロールして
第4図に示す形状(肉厚2■、縦20■■、横201)
の押出品Wを成形した。
(3)加硫方法
下記3つの方法i 、 ii、 iiiで行なった。
い)押出品に第2表に示す6量の電子線を照射後、熱風
炉(200℃)で5分間、常圧加熱した(11)押出品
を直接、熱風炉(200℃)に導入して、5分間常圧加
熱した。
炉(200℃)で5分間、常圧加熱した(11)押出品
を直接、熱風炉(200℃)に導入して、5分間常圧加
熱した。
(iii)押出品を直接、溶融塩槽(200℃)に導入
して、5分間加圧加熱した。
して、5分間加圧加熱した。
(4)押出品の物性
加硫後の各押出品について、下記各項目について試験測
定を行なった。
定を行なった。
1)形状安定性・・・中空部の横径(A)及び縦径(B
)を測定LB/Ax l 00(U で示しl’−。
)を測定LB/Ax l 00(U で示しl’−。
Ii)表面のベタツキ・・・指触により判定した。
1ii)表面肌・・・目視により、それぞれ非常によい
を■、良いを0、普通をΔ、悪いを×とした。
を■、良いを0、普通をΔ、悪いを×とした。
1マ)圧縮永久歪・・・JISK6301に準じて、圧
縮率25%及び表示の熱処理条件で測定した。
縮率25%及び表示の熱処理条件で測定した。
マ)密度・・・水中置換法により測定をした。
上記各項目の試験結果を第2表に示すが、実施例の方法
で得た押出品は、圧縮永久歪が、硫黄加硫したもの(比
較例1〜3・5・7)に比して、格段に小さく、また、
形状安定性及び表面肌が、電子線照射をしないものに(
比較例4〜7)に比して、格段に向上している。
で得た押出品は、圧縮永久歪が、硫黄加硫したもの(比
較例1〜3・5・7)に比して、格段に小さく、また、
形状安定性及び表面肌が、電子線照射をしないものに(
比較例4〜7)に比して、格段に向上している。
図例は本発明を示し、第1図は加硫方法の一例を示す工
程概略図、第2図は全てがスポンジ部で形成されている
ウェザストリップの電子線照射態様を示す断面図、第3
図はスポンジ部とソリッド部からなるウェザストリップ
の断面図、第4図は実施例の押出品の断面図である。 l・・・スポンジ部(スポンジシール部)、4・・・押
出機、 5・・・電子線照射装置、 6・・・電子加速器のヘッド、 7・・・マイクロ波加熱装置、 8・・・熱風炉、 W・・・押出品。 特 許 出 願 人 豊田合成株式会社
程概略図、第2図は全てがスポンジ部で形成されている
ウェザストリップの電子線照射態様を示す断面図、第3
図はスポンジ部とソリッド部からなるウェザストリップ
の断面図、第4図は実施例の押出品の断面図である。 l・・・スポンジ部(スポンジシール部)、4・・・押
出機、 5・・・電子線照射装置、 6・・・電子加速器のヘッド、 7・・・マイクロ波加熱装置、 8・・・熱風炉、 W・・・押出品。 特 許 出 願 人 豊田合成株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スポンジシール部を備えたゴム押出品を加硫するに際し
て、 (a)前記スポンジシール部のゴム配合物として過酸化
物加硫系のものを用いること、 (b)前記スポンジシール部の表面に所定量の電子線を
照射後、所定時間、常圧加熱して加硫を完了させること
、 を特徴とする押出品の加硫方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60266674A JPS62127211A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ゴム押出品の加硫方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60266674A JPS62127211A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ゴム押出品の加硫方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62127211A true JPS62127211A (ja) | 1987-06-09 |
Family
ID=17434116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60266674A Pending JPS62127211A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ゴム押出品の加硫方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62127211A (ja) |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP60266674A patent/JPS62127211A/ja active Pending
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