JPS6212634A - 電磁放射線波長に比例する光弾性係数を有する光学ガラス - Google Patents
電磁放射線波長に比例する光弾性係数を有する光学ガラスInfo
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- JPS6212634A JPS6212634A JP2428286A JP2428286A JPS6212634A JP S6212634 A JPS6212634 A JP S6212634A JP 2428286 A JP2428286 A JP 2428286A JP 2428286 A JP2428286 A JP 2428286A JP S6212634 A JPS6212634 A JP S6212634A
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、360nmと5300nmの電磁放射線波長
領域において、200nm以上の波長領域で±6%未満
の偏差で波長と比例関係を示す光弾性係数を有する新規
光学ガラスに関する。
領域において、200nm以上の波長領域で±6%未満
の偏差で波長と比例関係を示す光弾性係数を有する新規
光学ガラスに関する。
(従来の技術)
力学的な圧縮または引張応力により、等方性ガラスは異
方性化される。単軸応力状態においては、光学軸は、圧
縮または引張り応力方向に平行になる。応力方向に平行
なおよび直角な振動方向を有する電磁波の屈折率noお
よびn上は、一般に異なっている。それゆえこれらの二
つの偏光(方向)のため電磁波の光学径路長の差は(n
u nz>・して表わされる。但し、式中りは、異方
性媒質における幾何学的径路である。
方性化される。単軸応力状態においては、光学軸は、圧
縮または引張り応力方向に平行になる。応力方向に平行
なおよび直角な振動方向を有する電磁波の屈折率noお
よびn上は、一般に異なっている。それゆえこれらの二
つの偏光(方向)のため電磁波の光学径路長の差は(n
u nz>・して表わされる。但し、式中りは、異方
性媒質における幾何学的径路である。
差(no−nl)は、比例定数no −nh =K・σ
のように光弾性係数にとともに力学的応力σに対し比例
関係がある。
のように光弾性係数にとともに力学的応力σに対し比例
関係がある。
この式は、電磁波の二つの振動方向の屈折率差(no−
nt)が、圧縮ないし引張り応力に適した値の選択によ
り調節されたり、変更されることを示す。ガラスは、こ
のような単軸の応力状態下において遅延板の装置に利用
される(ドイツ公開特許第P 3438607.6 月
明111!i) 、このような遅延板の実施態様を第1
図に基づいて説明する:平らな平行板P1において、単
軸の応力状態が圧縮応力σにより作り出される。応力方
向に対し45°の傾きの振動方向を有する電磁波が、応
力方向に対し直角かつ二つの平らな平行正面に直角で、
該仮に入射する。電磁波は、応力方向に対し平行および
直角の振動方向の二つの部分波に分けられる。電磁波の
ガラス板への入射前には、2つの部分波間に位相差はな
いので、2つの部分波の干渉によって電磁波本来の振動
方向に再びもどる。しかし、力学的応力σのもとにおか
れる板において、屈折率差(no rll>に基づい
て2つの部分波間に位相差が生じる。これは、板におい
て行路が増すにしたがって増大する。板厚をLとし、こ
の板を二つの部分波が通過する場合には光学的行路差異
は以下となる: (no−nl) ・L=に−cy−L この光学的行路差異は、部分波間の位相差Δφ=2xK
・σ・L λ に対応している。
nt)が、圧縮ないし引張り応力に適した値の選択によ
り調節されたり、変更されることを示す。ガラスは、こ
のような単軸の応力状態下において遅延板の装置に利用
される(ドイツ公開特許第P 3438607.6 月
明111!i) 、このような遅延板の実施態様を第1
図に基づいて説明する:平らな平行板P1において、単
軸の応力状態が圧縮応力σにより作り出される。応力方
向に対し45°の傾きの振動方向を有する電磁波が、応
力方向に対し直角かつ二つの平らな平行正面に直角で、
該仮に入射する。電磁波は、応力方向に対し平行および
直角の振動方向の二つの部分波に分けられる。電磁波の
ガラス板への入射前には、2つの部分波間に位相差はな
いので、2つの部分波の干渉によって電磁波本来の振動
方向に再びもどる。しかし、力学的応力σのもとにおか
れる板において、屈折率差(no rll>に基づい
て2つの部分波間に位相差が生じる。これは、板におい
て行路が増すにしたがって増大する。板厚をLとし、こ
の板を二つの部分波が通過する場合には光学的行路差異
は以下となる: (no−nl) ・L=に−cy−L この光学的行路差異は、部分波間の位相差Δφ=2xK
・σ・L λ に対応している。
(発明が解決しようとする問題点)
多くの物質において、光弾性係数には、可視スペクトル
領域において電磁放射線の波長λとはほとんど無関係で
ある。したがって、位相差Δφは、一定の応力σおよび
一定の板厚しのもとでは波長λと関連することになる。
領域において電磁放射線の波長λとはほとんど無関係で
ある。したがって、位相差Δφは、一定の応力σおよび
一定の板厚しのもとでは波長λと関連することになる。
電磁波の部分波間で所望の位相遅延性を得るために、種
々の波長に対し適宜、板厚しまたは力学的応力σを新た
に付与しなければならない。また、多数の波長に対し同
時に一定の位相差を調節することはこの場合不可能であ
る。
々の波長に対し適宜、板厚しまたは力学的応力σを新た
に付与しなければならない。また、多数の波長に対し同
時に一定の位相差を調節することはこの場合不可能であ
る。
本発明の目的は、360nmおよび5300止の間の伝
播領域において光弾性係数Kが一定の波長領域で波長λ
に比例するような光学ガラス用の組成範囲を見出すこと
゛である。本発明に係るガラスをある力学的応力の下に
配すると、色消し性遅延板が製造される。
播領域において光弾性係数Kが一定の波長領域で波長λ
に比例するような光学ガラス用の組成範囲を見出すこと
゛である。本発明に係るガラスをある力学的応力の下に
配すると、色消し性遅延板が製造される。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、次の(1)〜(8)により達成される。
(1)360nmと5300nmの電磁放射線波長領域
において、200nm以上の波長領域でも光弾性係数が
±6%未満の偏差で波長に比例することを特徴とする光
学ガラス。
において、200nm以上の波長領域でも光弾性係数が
±6%未満の偏差で波長に比例することを特徴とする光
学ガラス。
(2)酸化物換算で次の成分を重量%で含有することを
特徴とする上記(1)に記載のガラス:PbO60〜7
6% S ! 02 15〜30%B203
0〜12%GeO20〜 5% P205 0〜5%L t 20+
N a2o+ に20+R1)20+C8200〜 6%MgO+Ca
O+SrO0〜 8% BaO0〜10% 希土類元素酸化物 0〜 3%Al2O30
〜 6% TiO2+ZrO20〜 5% zno o〜 4%C
dO0〜 2% AS2 03 +3b2 03 0〜3%(3
)PbOがTl2OまたはBi2O+により全量または
一部置換され、その際PbOに関するモル%での量がT
l2OまたはBf203に関するモル%での同量の半分
によって、それぞれ置換えられてなることを特徴とする
上記(1〉または(2)に記載のガラス。
特徴とする上記(1)に記載のガラス:PbO60〜7
6% S ! 02 15〜30%B203
0〜12%GeO20〜 5% P205 0〜5%L t 20+
N a2o+ に20+R1)20+C8200〜 6%MgO+Ca
O+SrO0〜 8% BaO0〜10% 希土類元素酸化物 0〜 3%Al2O30
〜 6% TiO2+ZrO20〜 5% zno o〜 4%C
dO0〜 2% AS2 03 +3b2 03 0〜3%(3
)PbOがTl2OまたはBi2O+により全量または
一部置換され、その際PbOに関するモル%での量がT
l2OまたはBf203に関するモル%での同量の半分
によって、それぞれ置換えられてなることを特徴とする
上記(1〉または(2)に記載のガラス。
(4)その伯の明示されない酸化物を総計で2%まで含
有し、そして、酸化物の2%までが、同様のハロゲン化
物および/またはカルコゲン化合物および/または窒化
物で置換えられることを特徴とする上記(1)〜(3)
のいずれか1つに記載のガラス。
有し、そして、酸化物の2%までが、同様のハロゲン化
物および/またはカルコゲン化合物および/または窒化
物で置換えられることを特徴とする上記(1)〜(3)
のいずれか1つに記載のガラス。
(5)単独または他の材料と伴に、電磁波の色消し遅延
板装置用の上記(1)〜(4)のいずれか1つの記載に
適するガラスの製造方法。
板装置用の上記(1)〜(4)のいずれか1つの記載に
適するガラスの製造方法。
(6)光弾性係数に1 (λ1)およびに2 (λ2
)の値の分配割合が、360nlllおよび5300n
mの間の波長領域からの波長λ1およびλ2のものと等
しいことを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか1
つに記載の光学ガラス。
)の値の分配割合が、360nlllおよび5300n
mの間の波長領域からの波長λ1およびλ2のものと等
しいことを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか1
つに記載の光学ガラス。
(7)PbOおよび/または王120および/またはB
t203の含量で、光弾性係数に+ (λI)および
に2 (λ2)の比率が360止および53QQnm
の間の波長領域からの波長λ+J5よびλ2とが有する
と同様の分配割合とせしめられてなることを特徴とする
上記(1)〜(4)のいずれか1つに記載の光学ガラス
。
t203の含量で、光弾性係数に+ (λI)および
に2 (λ2)の比率が360止および53QQnm
の間の波長領域からの波長λ+J5よびλ2とが有する
と同様の分配割合とせしめられてなることを特徴とする
上記(1)〜(4)のいずれか1つに記載の光学ガラス
。
(8)ある2つの異なった電磁放射線の波長に対しそれ
ぞれの波長を多重化して測定して等しい遅延性を有する
遅延板に使用する上記(6)または(7)のガラスの製
造方法。
ぞれの波長を多重化して測定して等しい遅延性を有する
遅延板に使用する上記(6)または(7)のガラスの製
造方法。
そのような1つの本発明に係るガラスは、例えば次の如
き重量%および酸化物換算の組成を有する。
き重量%および酸化物換算の組成を有する。
(例1)
PbO71,0%
SiO227,3%
Na20+に2 0 1.5%A52
03 0.2%本発明に係るガラ
スから一つの平らな平行板を切り出し、力学的応力を与
えると、λ=496nmに対し応力方向に直角および平
行な振動方向の2つの部分波に対してπ/2の位相差が
生ずる(λ/4−板)。π/2の遅延において、光学軸
に対する45°の角度のもとて入射した線形の偏光電磁
波から円偏光波が生ずる。検光子は、遅延板の後でその
方向に関係なく電磁波の相対強度の半分を通過させる。
03 0.2%本発明に係るガラ
スから一つの平らな平行板を切り出し、力学的応力を与
えると、λ=496nmに対し応力方向に直角および平
行な振動方向の2つの部分波に対してπ/2の位相差が
生ずる(λ/4−板)。π/2の遅延において、光学軸
に対する45°の角度のもとて入射した線形の偏光電磁
波から円偏光波が生ずる。検光子は、遅延板の後でその
方向に関係なく電磁波の相対強度の半分を通過させる。
第2図において描かれた曲線から、472および672
nmの波長領域においてその強度が±3%の全変位の誤
差限界に入っているとともに実際に本来的強度の半分に
落ちていることが判る。
nmの波長領域においてその強度が±3%の全変位の誤
差限界に入っているとともに実際に本来的強度の半分に
落ちていることが判る。
比較のために第2図において線形偏光電磁波の相対強度
も、色消し特性を有しない遅延板とその後に接続された
検光子を踏襲して点線で示されている。この場合に波長
領域は、半分通過される強度において、すなわち2つの
部分波間で遅延がλ/2に達する場合において、極めて
狭い。市販の遅延板のような通常の例においては、47
6〜516止の領域で有効である。
も、色消し特性を有しない遅延板とその後に接続された
検光子を踏襲して点線で示されている。この場合に波長
領域は、半分通過される強度において、すなわち2つの
部分波間で遅延がλ/2に達する場合において、極めて
狭い。市販の遅延板のような通常の例においては、47
6〜516止の領域で有効である。
PbOのより高濃度(より低い)を選択することにより
、色消し特性が良好に発揮される領域は、より長(短)
波長側に移行せしめられる。この場合、遅延板が色消し
性を示す波長領域はより広く(わずかに狭く)なる。本
発明に係るガラス組成は、例1に比較してPbO−濃度
が低いが、酸化物換算での質量%で次の組成で示される
:PbO68,6% SiO224,7% 8203 2.4%Al2O30,
4% に20 1.2%N820
1.0%NaCl
1.0%A8203 0.5% 5b203 0.2%これらの
本発明に係るガラスにより、400.flよび600
nm@域の光弾性係数には、最高でも6%の偏差で波長
に比例する。
、色消し特性が良好に発揮される領域は、より長(短)
波長側に移行せしめられる。この場合、遅延板が色消し
性を示す波長領域はより広く(わずかに狭く)なる。本
発明に係るガラス組成は、例1に比較してPbO−濃度
が低いが、酸化物換算での質量%で次の組成で示される
:PbO68,6% SiO224,7% 8203 2.4%Al2O30,
4% に20 1.2%N820
1.0%NaCl
1.0%A8203 0.5% 5b203 0.2%これらの
本発明に係るガラスにより、400.flよび600
nm@域の光弾性係数には、最高でも6%の偏差で波長
に比例する。
本発明に係る鉛ケイ酸ガラスにおいて、PbOの金量ま
たは一部分を一定のTl2OまたはB12O3量で代替
しても、特許請求の範囲で示される特性、すなわち36
0および5300nmの波長領域において光弾性係数が
、200nmを越える波長領域において±6%未満の偏
差で波長に比例する特性を示す。これらのガラスにおい
ては、PbO量はモル%で、それぞれおよそTl2Oま
たはBizO+のモル%量と同量の半分で置換えられう
る。
たは一部分を一定のTl2OまたはB12O3量で代替
しても、特許請求の範囲で示される特性、すなわち36
0および5300nmの波長領域において光弾性係数が
、200nmを越える波長領域において±6%未満の偏
差で波長に比例する特性を示す。これらのガラスにおい
ては、PbO量はモル%で、それぞれおよそTl2Oま
たはBizO+のモル%量と同量の半分で置換えられう
る。
特許請求の範囲に示される組成範囲の鉛、タリウムおよ
びビスマスク゛イ酸ガラスは、360および5300止
の波長領域からの2つの設定された波長λ1およびλ2
に対し、その比率がその属する波長λ1およびλ2に等
しい分配関係を有する光弾性係数をそなえている。
びビスマスク゛イ酸ガラスは、360および5300止
の波長領域からの2つの設定された波長λ1およびλ2
に対し、その比率がその属する波長λ1およびλ2に等
しい分配関係を有する光弾性係数をそなえている。
上述したガラスから、それぞれ2の異なる電磁放射線の
波長に対しそれぞれの波長を多重化して測定して等しい
遅延性を有する遅延板が製造される。本発明に係るガラ
スから製造される遅延板は、ある定まった波長領域に対
してのみ色消し性を示すが、色消し性を示さない他の遅
延板と組み合わせると、他の波長領域に色消し特性を移
動せしめられうる。
波長に対しそれぞれの波長を多重化して測定して等しい
遅延性を有する遅延板が製造される。本発明に係るガラ
スから製造される遅延板は、ある定まった波長領域に対
してのみ色消し性を示すが、色消し性を示さない他の遅
延板と組み合わせると、他の波長領域に色消し特性を移
動せしめられうる。
第1図は、遅延板の1つの実m態様を示す図であり、第
2図は遅延板を使用した場合における相対強度と波長と
の関係を示す図である。 特許出願人 カール ツアイス スティフツンクトレー
ディング アズ ショット グラスヴエルケ
2図は遅延板を使用した場合における相対強度と波長と
の関係を示す図である。 特許出願人 カール ツアイス スティフツンクトレー
ディング アズ ショット グラスヴエルケ
Claims (8)
- (1)360nmと5300nmの電磁放射線波長領域
において、200nm以上の波長領域でも光弾性係数が
±6%未満の偏差で波長に比例することを特徴とする光
学ガラス。 - (2)酸化物換算で次の成分を重量%で含有することを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のガラス: PbO 60〜76% SiO_2 15〜30% B_2O_3 0〜12% GeO_2 0〜5% P_2O_5 0〜5% Li_2O+Na_2O+ K_2O+Rb_2O+Cs_2O 0〜6% MgO+CaO+SrO 0〜8% BaO 0〜10% 希土類元素酸化物 0〜3% Al_2O_3 0〜6% TiO_2+ZrO_2 0〜5% ZnO 0〜4% CdO 0〜2% As_2O_3+Sb_2O_3 0〜3% - (3)PbOがTl_2OまたはBi_2O_3により
全量または一部置換され、その際PbOに関するモル%
での量がTl_2OまたはBi_2O_3に関するモル
%での同量の半分によって、それぞれ置換えられてなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項に
記載のガラス。 - (4)その他の明示されない酸化物を総計で2%まで含
有し、そして、酸化物の2%までが、同様のハロゲン化
物および/またはカルコゲン化合物および/または窒化
物で置換えられることを特徴とする特許請求の範囲第1
〜3項のいずれか1項に記載のガラス。 - (5)単独または他の材料と伴に、電磁波の色消し遅延
板装置用の特許請求の範囲第1〜4項のいずれか1項の
記載に適するガラスの製造方法。 - (6)光弾性係数K_1(λ_1)およびK_2(λ_
2)の値の分配割合が、360nmおよび5300nm
の間の波長領域からの波長λ_1およびλ_2のものと
等しいことを特徴とする特許請求の範囲第1〜4項のい
ずれか1項に記載の光学ガラス。 - (7)PbOおよび/またはTl_2Oおよび/または
Bi_2O_3の含量で、光弾性係数K_1(λ_1)
およびK_2(λ_2)の比率が360nmおよび53
00nmの間の波長領域からの波長λ_1およびλ_2
とが有すると同様の分配割合とせしめられてなることを
特徴とする特許請求の範囲第1〜4項のいずれか1項に
記載の光学ガラス。 - (8)ある2つの異なった電磁放射線の波長に対しそれ
ぞれの波長を多重化して測定して等しい遅延性を有する
遅延板に使用する特許請求の範囲第6項または第7項に
記載のガラスの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853504558 DE3504558A1 (de) | 1985-02-11 | 1985-02-11 | Optisches glas mit spannungsoptischem koeffizienten, der proportional zur wellenlaenge elektromagnetischer strahlung ist |
DE3504558.2 | 1985-02-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6212634A true JPS6212634A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=6262171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2428286A Pending JPS6212634A (ja) | 1985-02-11 | 1986-02-07 | 電磁放射線波長に比例する光弾性係数を有する光学ガラス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6212634A (ja) |
DE (1) | DE3504558A1 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05188221A (ja) * | 1991-06-13 | 1993-07-30 | Corning Inc | 複屈折ガラス波長板 |
WO1995021137A1 (fr) * | 1994-02-07 | 1995-08-10 | Nikon Corporation | Verre optique pour systemes optiques polarisants, procede de fabrication correspondant et dispositif de fractionnement du faisceau polarisant |
US5808795A (en) * | 1995-03-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US5918961A (en) * | 1996-05-10 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection type display device |
US5969861A (en) * | 1994-02-07 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Polarizing optical system |
US6062694A (en) * | 1995-03-06 | 2000-05-16 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6227670B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-08 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6432854B1 (en) | 1994-02-07 | 2002-08-13 | Nikon Corporation | Optical glass for polarizing optical system, production process therefor and polarizing beam splitter |
CN101928104A (zh) * | 2009-06-23 | 2010-12-29 | 肖特公开股份有限公司 | 含铅太空玻璃及其制备和用途 |
JP2015214479A (ja) * | 2009-06-23 | 2015-12-03 | ショット・アーゲー | 鉛含有耐放射線ガラス及びその製造 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19631171A1 (de) * | 1995-08-02 | 1997-02-06 | Nikon Corp | Optisches Glas für ein optisches Polarisationssystem, Herstellungsverfahren dafür und optisches Polarisationssystem |
US6903038B2 (en) * | 2000-08-16 | 2005-06-07 | Schott Glass Technologies, Inc. | Glass with a minimal stress-optic effect |
DE10203226A1 (de) * | 2002-01-28 | 2003-09-04 | Schott Glas | Optisches Glas |
DE102017200413A1 (de) * | 2016-02-02 | 2017-08-03 | Schott Ag | Röntgen- und Gamma-Strahlen abschirmendes Glas |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4018613A (en) * | 1976-02-06 | 1977-04-19 | Corning Glass Works | Diode encapsulation glass |
AU505308B2 (en) * | 1976-09-21 | 1979-11-15 | Asahi Glass Company Limited | Glass for use in ultrasonic delay lines |
-
1985
- 1985-02-11 DE DE19853504558 patent/DE3504558A1/de active Granted
-
1986
- 1986-02-07 JP JP2428286A patent/JPS6212634A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05188221A (ja) * | 1991-06-13 | 1993-07-30 | Corning Inc | 複屈折ガラス波長板 |
WO1995021137A1 (fr) * | 1994-02-07 | 1995-08-10 | Nikon Corporation | Verre optique pour systemes optiques polarisants, procede de fabrication correspondant et dispositif de fractionnement du faisceau polarisant |
US5969861A (en) * | 1994-02-07 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Polarizing optical system |
US6432854B1 (en) | 1994-02-07 | 2002-08-13 | Nikon Corporation | Optical glass for polarizing optical system, production process therefor and polarizing beam splitter |
US5808795A (en) * | 1995-03-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6062694A (en) * | 1995-03-06 | 2000-05-16 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6227670B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-08 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6464360B2 (en) | 1995-03-06 | 2002-10-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US5918961A (en) * | 1996-05-10 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection type display device |
CN101928104A (zh) * | 2009-06-23 | 2010-12-29 | 肖特公开股份有限公司 | 含铅太空玻璃及其制备和用途 |
JP2015214479A (ja) * | 2009-06-23 | 2015-12-03 | ショット・アーゲー | 鉛含有耐放射線ガラス及びその製造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3504558C2 (ja) | 1988-04-07 |
DE3504558A1 (de) | 1986-08-14 |
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