JPS62125525A - Substrate for magnetic recording medium and its production - Google Patents

Substrate for magnetic recording medium and its production

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Publication number
JPS62125525A
JPS62125525A JP26659285A JP26659285A JPS62125525A JP S62125525 A JPS62125525 A JP S62125525A JP 26659285 A JP26659285 A JP 26659285A JP 26659285 A JP26659285 A JP 26659285A JP S62125525 A JPS62125525 A JP S62125525A
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JP
Japan
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substrate
recording medium
layer
base plate
aluminum
Prior art date
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Pending
Application number
JP26659285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Okamoto
康治 岡本
Noriaki Matsumura
紀明 松村
Kiyoshi Ogata
潔 緒方
Yasunori Ando
靖典 安東
Eiji Kamijo
栄治 上條
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP26659285A priority Critical patent/JPS62125525A/en
Publication of JPS62125525A publication Critical patent/JPS62125525A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To enhance the strength of the titled substrate, to obtain a high- precision smooth surface in polishing, and to prevent the magnetization at a high temp. by forming an Al nitride layer on the surface layer of an Al base sheet. CONSTITUTION:In the substrate 13 for a recording medium, the Al nitride layer 7 is formed in the depth direction from the surface of the Al base sheet 1. Since the layer 7 has high hardness, the hardness of the substrate 13 is improved, and the high-precision smooth surface can be obtained in the polishing stage after the layer 7 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、アルミニウム系素板を表面処理して成る磁
気記録媒体用基板とその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic recording medium substrate formed by surface-treating an aluminum base plate, and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第5図は、従来の基板を用いた磁気記録媒体の一例を示
す概略部分断面図である。高密度化を対象としためっき
磁気ディスク、スパッタ磁気ディスク、塗布磁気ディス
ク等の磁気記録媒体においては、図のように、アルミニ
ウム系(即ちアルミニウムあるいはアルミニウム合金)
の素板lの強度を向上させかつ高精度平滑面を得られる
ようにするために、当該素板lの表面に硬質下地層2を
設けることによって磁気記録媒体用の基板3を形成して
いる。
FIG. 5 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of a magnetic recording medium using a conventional substrate. As shown in the figure, in magnetic recording media such as plated magnetic disks, sputtered magnetic disks, and coated magnetic disks aimed at increasing density, aluminum-based (i.e., aluminum or aluminum alloy)
In order to improve the strength of the blank l and to obtain a highly precise smooth surface, a hard underlayer 2 is provided on the surface of the blank l to form a substrate 3 for a magnetic recording medium. .

この場合、硬質下地層2は一般に、N1−Pめっき、あ
るいはアルマイト処理(陽極酸化処理)等によって形成
される。
In this case, the hard base layer 2 is generally formed by N1-P plating, alumite treatment (anodizing treatment), or the like.

そして当該基板3の表面に、めっき、スパッタリング、
塗布等によって磁性膜4を形成し、更に通常は信頬性向
上等を目的として、磁性膜4の上に保護膜5が、更にそ
の上に潤滑剤6が付与されている。
Then, the surface of the substrate 3 is plated, sputtered,
A magnetic film 4 is formed by coating or the like, and usually a protective film 5 is applied on top of the magnetic film 4, and a lubricant 6 is applied thereon for the purpose of improving cheek feel.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記硬質下地層2は磁性を帯びないことが必要であるけ
れども、N1−Pめっきによるものは250℃程度以上
の温度で磁性を帯びてくるのに対して、スパッタリング
によって磁性膜4を形成する場合には当該硬質下地N2
が300℃以上に加熱される場合もあり、そのためN1
−Pめっきによる硬質下地層2の場合は磁性膜4あるい
は保護膜5の形成方法に制限がある。
Although it is necessary that the hard underlayer 2 is not magnetic, the hard underlayer 2 becomes magnetic at a temperature of about 250°C or higher when formed by N1-P plating, whereas when the magnetic film 4 is formed by sputtering, The hard base N2
may be heated to over 300°C, so N1
- In the case of the hard underlayer 2 made of P plating, there are restrictions on the method of forming the magnetic film 4 or the protective film 5.

一方、硬質下地層2をアルマイト処理によって形成する
場合は、その厚みを厚くすると素板1との熱膨張係数の
差によってひび割れが生じたり、逆に薄くすると所要硬
度が得られない等の欠点がある。
On the other hand, when forming the hard base layer 2 by alumite treatment, if the thickness is increased, cracks may occur due to the difference in the coefficient of thermal expansion with the base plate 1, and if the hard base layer 2 is made thinner, the required hardness may not be obtained. be.

そこでこの発明は、上記のような問題点を解決した磁気
記録媒体用基板とその製造方法を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium substrate and a manufacturing method thereof that solve the above-mentioned problems.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明の磁気記録媒体用基板は、アルミニウム系素板
の表層部に窒化アルミニウム層を形成して成ることを特
徴とする。
The magnetic recording medium substrate of the present invention is characterized in that an aluminum nitride layer is formed on the surface layer of an aluminum base plate.

この発明の製造方法は、真空中においてアルミニウム系
素板の表面に、窒素イオンのエネルギーが20KeV以
下およびイオン注入時の素板温度が300℃以下の条件
下で窒素イオンを注入することにより、当該素板の表層
部に窒化アルミニウム層を形成することを特徴とする。
The manufacturing method of the present invention involves implanting nitrogen ions into the surface of an aluminum base plate in vacuum under the conditions that the energy of the nitrogen ions is 20 KeV or less and the temperature of the base plate at the time of ion implantation is 300°C or less. It is characterized by forming an aluminum nitride layer on the surface layer of the blank.

〔作用〕[Effect]

この発明の磁気記録媒体用基板においては、アルミニウ
ム系素板の表層部に形成された窒化アルミニウム層が貰
硬度であるため、当該基板の強度が向上すると共に、研
磨した場合に高精度平滑面が得られる。また窒化アルミ
ニウム層は熱的に安定であるため、高温にさらされても
磁気を帯びることはない。しかも当該窒化アルミニウム
層の剥離の問題を無視することができる。
In the magnetic recording medium substrate of the present invention, since the aluminum nitride layer formed on the surface layer of the aluminum base plate has a hardness, the strength of the substrate is improved and a high-precision smooth surface can be obtained when polished. can get. Furthermore, since the aluminum nitride layer is thermally stable, it does not become magnetic even when exposed to high temperatures. Moreover, the problem of peeling off of the aluminum nitride layer can be ignored.

一方、この発明の製造方法によれば、アルミニウム系素
板の変形、硬度低下、表面の荒れ等を抑制しつつ、上記
のような磁気記録媒体用基板を製造することができる。
On the other hand, according to the manufacturing method of the present invention, the above-described substrate for a magnetic recording medium can be manufactured while suppressing deformation, hardness reduction, surface roughness, etc. of the aluminum base plate.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、この発明の一実施例に係る基板を用いた磁気
記録媒体を示す概略部分断面図である。
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view showing a magnetic recording medium using a substrate according to an embodiment of the present invention.

第5図と同等部分には同一符号を付してその説明を省略
する。この実施例に係る磁気記録媒体用基板13は、ア
ルミニウム系素板1の表層部、即ち素板1の表面から深
さ方向にかけて窒化アルミニウムN7を形成して成る。
Components equivalent to those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals and their explanations will be omitted. The magnetic recording medium substrate 13 according to this embodiment is formed by forming aluminum nitride N7 on the surface layer of the aluminum base plate 1, that is, from the surface of the base plate 1 in the depth direction.

素板1の材質としては、従来と同様、アルミニウム、あ
るいはAl−Mg系やAl−Cu−Zn系等のアルミニ
ウム合金が採り得る。
The material of the base plate 1 may be aluminum or an aluminum alloy such as Al-Mg type or Al-Cu-Zn type, as in the past.

当該基板13の表面から深さ方向の組成の一例を第2図
に示す。表面からある程度の深さまでは窒化アルミニウ
ム(AIN)の単独層があり、それより深い部分に窒化
アルミニウムと素板1の母材、例えばアルミニウム(A
I)との混合層があり、更にそれより深い部分は母材の
アルミニウムとなっている。但し、当該窒化アルミニウ
ム層や混合層の深さは、後述する注入窒素イオンのエネ
ルギーによって調整することができるので、当該基板1
3の使用条件に合ったものを選定することができる。
An example of the composition in the depth direction from the surface of the substrate 13 is shown in FIG. There is a single layer of aluminum nitride (AIN) from the surface to a certain depth, and deeper than that there is a layer of aluminum nitride and the base material of the base plate 1, such as aluminum (AIN).
There is a mixed layer with I), and the deeper part is the base material aluminum. However, the depth of the aluminum nitride layer and the mixed layer can be adjusted by the energy of the implanted nitrogen ions, which will be described later.
You can select one that meets the conditions of use in 3.

上記のような基板13においては、素板10表層部に形
成された窒化アルミニウム層7が高硬度であるため、当
該基板13の硬度が向上すると共に、窒化アルミニウム
層7形成後の研磨工程において研磨した場合に高精度平
滑面が得られる。
In the substrate 13 described above, since the aluminum nitride layer 7 formed on the surface layer of the base plate 10 has high hardness, the hardness of the substrate 13 is improved and polishing is performed in the polishing step after forming the aluminum nitride layer 7. When this is done, a highly accurate smooth surface can be obtained.

また、窒化アルミニウム層7は熱的に安定であり、高温
にさらされても磁気を帯びることはない。
Furthermore, the aluminum nitride layer 7 is thermally stable and does not become magnetic even when exposed to high temperatures.

従って、磁性膜4の形成手段としてスパッタリング等の
種々のものが採り得る。
Therefore, various methods such as sputtering can be used to form the magnetic film 4.

また、素Fi1がアルミニウム系であるため、高温にさ
らされてもアルミニウムの高熱伝導性によって、基板1
3の表面の劣化を抑制できるという効果もある。
In addition, since the elementary Fi1 is aluminum-based, even when exposed to high temperatures, the high thermal conductivity of aluminum allows the substrate 1 to
Another effect is that deterioration of the surface of No. 3 can be suppressed.

更に、第2図に示したように、窒化アルミニウム層7は
従来のように母材である素板工の表面に付着されている
のではなくて、母材の表層部、即ち母材の表面から深さ
方向にかけて形成されているため、当該窒化アルミニウ
ム層7の剥離の問題は無視することができる。しかも、
窒化アルミニウム層7の内側に母材であるアルミニウム
系金属との混合層を有していて、それが言わば楔のよう
な作用をするため、上記剥離防止の効果は一層大きくな
っている。
Furthermore, as shown in FIG. 2, the aluminum nitride layer 7 is not attached to the surface of the base material, which is the blank plate, as in the conventional case, but is attached to the surface layer of the base material, that is, the surface of the base material. Since the aluminum nitride layer 7 is formed in the depth direction, the problem of peeling of the aluminum nitride layer 7 can be ignored. Moreover,
Inside the aluminum nitride layer 7, there is a mixed layer with the aluminum base metal, which acts like a wedge, so that the above-mentioned peeling prevention effect is further enhanced.

ちなみに、窒化アルミニウム層を一般のめっき、真空蒸
着、スパッタリング等によるコーティング手段で素板1
上に付着させた場合は、第3図に示すように、当該窒化
アルミニウム層は母材であるアルミニウム系金属の表面
上に付着しているだけであり、その密着性は良くない。
By the way, the aluminum nitride layer is coated on the base plate 1 by coating methods such as general plating, vacuum evaporation, and sputtering.
When it is deposited on top, as shown in FIG. 3, the aluminum nitride layer is only deposited on the surface of the aluminum base metal, and its adhesion is not good.

次に、上記のような基板13の製造方法の一例を第4図
を参照しながら説明する。第4図は、この発明に係る製
造方法を実施する装置の一例を示す概略図である。真空
容器(図示省略)内に、前述したような素板1が収納さ
れており、当該素板1の後方にヒータ10が、その前方
に素板1に向けてイオン源8が設けられている。
Next, an example of a method for manufacturing the substrate 13 as described above will be explained with reference to FIG. 4. FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of an apparatus for carrying out the manufacturing method according to the present invention. A blank plate 1 as described above is housed in a vacuum container (not shown), a heater 10 is provided behind the blank plate 1, and an ion source 8 is provided in front of the heater 10 facing the blank plate 1. .

上記のような装置において、真空容器内を高真空(例え
ば10−’〜10−7To r r)程度に排気した後
、素板1の表面にイオン源8からの窒素イオン9を以下
のような条件下で注入すると、その表層部に前述したよ
うな窒化アルミニウム層7が形成される。
In the above-mentioned apparatus, after evacuating the inside of the vacuum container to a high vacuum (for example, 10-' to 10-7 Torr), nitrogen ions 9 from an ion source 8 are applied to the surface of the blank plate 1 as follows. When implanted under these conditions, an aluminum nitride layer 7 as described above is formed on the surface layer.

この場合、イオン源8としては大口径のハケソト型イオ
ン源を用いるのが好ましい。これは、そのようなもので
あれば、均一で大面積の窒素イオン9を素板1に注入す
ることができ、これによって均一な窒化アルミニウム層
7を大面積に亘って形成することができるからである。
In this case, it is preferable to use a large-diameter brush type ion source as the ion source 8. This is because if such a material is used, nitrogen ions 9 can be uniformly implanted over a large area into the base plate 1, and thereby a uniform aluminum nitride layer 7 can be formed over a large area. It is.

イオン注入時の素板1は、ある程度の温度、より具体的
には100°C前後に保つのが好ましい。
During ion implantation, the base plate 1 is preferably kept at a certain temperature, more specifically at around 100°C.

これは、素板1をアニールしながらイオン注入すること
によって、母材であるアルミニウム系金属内や形成され
た窒化アルミニウム層7内の格子欠陥等の損傷部が軽減
されるからである。この場合、イオン注入による加熱で
素板1の温度が上記のような温度に達しない場合は、必
要に応じてヒータ10等による加熱を併用しても良い。
This is because by implanting ions while annealing the base plate 1, damaged parts such as lattice defects in the aluminum-based metal that is the base material and the formed aluminum nitride layer 7 are reduced. In this case, if the temperature of the base plate 1 does not reach the above-mentioned temperature due to heating by ion implantation, heating by the heater 10 or the like may be used in combination as necessary.

もっとも、イオン注入時の素板1の温度は、300°C
以下に抑えるのが好ましい。これは、300℃を越える
と、素板1の硬さが低下したり、素板1が変形したりす
るからである。
However, the temperature of the base plate 1 during ion implantation is 300°C.
It is preferable to keep it below. This is because if the temperature exceeds 300° C., the hardness of the blank plate 1 decreases or the blank plate 1 deforms.

また、窒素イオン9のエネルギーは、20KeV以下と
するのが好ましい。これは、20KeVを越えると、素
板1の表面がスパッタリング現象等によって荒れて来る
からであり、より具体的には5〜10KeV程度の範囲
内にするのが好ましい。
Further, the energy of the nitrogen ions 9 is preferably 20 KeV or less. This is because if the voltage exceeds 20 KeV, the surface of the blank 1 will become rough due to sputtering phenomena, etc., and more specifically, it is preferably within the range of about 5 to 10 KeV.

また、素vi1に対する窒素イオン9の注入量は、10
11′イオン/cIT12以下、より具体的には10′
フイオン/cm”程度とするのが好ましい。これは、1
OI8を越えると素板1の表面が荒れてしまうからであ
る。
Further, the amount of nitrogen ions 9 implanted into the element vi1 is 10
11' ion/cIT12 or less, more specifically 10'
It is preferable to set the value to about 1 ion/cm.
This is because if the OI exceeds 8, the surface of the blank 1 will become rough.

上記のような製造方法によれば、素板1の変形、硬度低
下、表面の荒れ等を抑制しつつ、前述したような磁気記
録媒体用基板13を製造することができる。
According to the manufacturing method described above, the magnetic recording medium substrate 13 as described above can be manufactured while suppressing deformation of the base plate 1, reduction in hardness, surface roughness, etc.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のようにこの発明に係る磁気記録媒体用基板におい
ては、アルミニウム系素板の表層部に形成された窒化ア
ルミニウム層が高硬度であるため、当該基板の強度が向
上すると共に、研磨した場合に高精度平滑面が得られる
。また窒化アルミニウム層は熱的に安定であるため、高
温にさらされても磁気を帯びることはない。しかも当該
窒化アルミニウム層の剥離の問題を無視することができ
る。
As described above, in the magnetic recording medium substrate according to the present invention, since the aluminum nitride layer formed on the surface layer of the aluminum base plate has high hardness, the strength of the substrate is improved and when polished, A highly accurate smooth surface can be obtained. Furthermore, since the aluminum nitride layer is thermally stable, it does not become magnetic even when exposed to high temperatures. Moreover, the problem of peeling off of the aluminum nitride layer can be ignored.

またこの発明に係る製造方法によれば、アルミニウム系
素板の変形、硬度低下、表面の荒れ等を抑制しつつ、上
記のような磁気記録媒体用基板を製造することができる
Further, according to the manufacturing method according to the present invention, the above-described substrate for a magnetic recording medium can be manufactured while suppressing deformation, hardness reduction, surface roughness, etc. of the aluminum base plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例に係る基板を用いた磁気
記録媒体を示す概略部分断面図である。 第2図は、第1図のような基板の表面から深さ方向の組
成の一例を示す模式図である。第3図は、一般のコーテ
ィングによる基板の表面付近の組成の一例を示す模式図
である。第4図は、この発明に係る製造方法を実施する
装置の一例を示す概略図である。第5図は、従来の基板
を用いた磁気記録媒体の一例を示す概略部分断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view showing a magnetic recording medium using a substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the composition in the depth direction from the surface of the substrate as shown in FIG. FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the composition near the surface of a substrate by a general coating. FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of an apparatus for carrying out the manufacturing method according to the present invention. FIG. 5 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of a magnetic recording medium using a conventional substrate.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アルミニウム系素板の表層部に窒化アルミニウム
層を形成して成ることを特徴とする磁気記録媒体用基板
(1) A substrate for a magnetic recording medium characterized by forming an aluminum nitride layer on the surface layer of an aluminum base plate.
(2)真空中においてアルミニウム系素板の表面に、窒
素イオンのエネルギーが20KeV以下およびイオン注
入時の素板温度が300℃以下の条件下で窒素イオンを
注入することにより、当該素板の表層部に窒化アルミニ
ウム層を形成することを特徴とする磁気記録媒体用基板
の製造方法。
(2) By implanting nitrogen ions into the surface of an aluminum base plate in vacuum under the conditions that the energy of nitrogen ions is 20 KeV or less and the temperature of the base plate at the time of ion implantation is 300°C or less, the surface layer of the base plate is 1. A method of manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, comprising forming an aluminum nitride layer on a portion of the substrate.
JP26659285A 1985-11-26 1985-11-26 Substrate for magnetic recording medium and its production Pending JPS62125525A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5567523A (en) * 1994-10-19 1996-10-22 Kobe Steel Research Laboratories, Usa, Applied Electronics Center Magnetic recording medium comprising a carbon substrate, a silicon or aluminum nitride sub layer, and a barium hexaferrite magnetic layer

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5567523A (en) * 1994-10-19 1996-10-22 Kobe Steel Research Laboratories, Usa, Applied Electronics Center Magnetic recording medium comprising a carbon substrate, a silicon or aluminum nitride sub layer, and a barium hexaferrite magnetic layer

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