JPS61220128A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS61220128A
JPS61220128A JP6172785A JP6172785A JPS61220128A JP S61220128 A JPS61220128 A JP S61220128A JP 6172785 A JP6172785 A JP 6172785A JP 6172785 A JP6172785 A JP 6172785A JP S61220128 A JPS61220128 A JP S61220128A
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JP
Japan
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magnetic
layer
thin film
medium layer
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP6172785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Oguma
小熊 繁
Masayuki Nakao
政之 中尾
Masato Dobashi
土橋 正人
Shigeo Endo
遠藤 重郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
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Publication of JPS61220128A publication Critical patent/JPS61220128A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To replenish a lubricant from a recessed part and to prevent the damage to a magnetic thin film by forming many recesses on the surface of a medium layer and depositing the liq. lubricant on the surface of the medium layer to fill the recesses with the lubricant. CONSTITUTION:A medium layer consisting of a substrate layer and a magnetic thin film is formed on an aluminum substrate, many recesses are provided to the substrate layer and hence many recesses 2 are also formed on the surface 1 of the medium layer. A liq. lubricant is deposited on the surface 1 of the medium layer to fill the recesses 2 with the lubricant. Accordingly, the liq. lubricant in the recess 2 acts as the supply source of the lubricant. When the lubricant on the surface is reduced, the lubricant is drawn out from the recess 2 and coated on the surface. Consequently, the medium layer is not exposed and the damage to the magnetic thin film, etc., can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は非磁性基板上に磁性薄膜を含む媒体層が形成さ
れた磁気記録媒体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic recording medium in which a medium layer including a magnetic thin film is formed on a nonmagnetic substrate.

更に詳しくは、この媒体層の表面に液体潤滑剤が付着さ
れている磁気記録媒体に関する。
More specifically, the present invention relates to a magnetic recording medium in which a liquid lubricant is attached to the surface of the medium layer.

[従来の技術] 近年、コンピュータの小型化や処理能力の増大化に伴い
、外部メモリ装置の記憶容量を更に増大させることが要
求されてきている。この要求を満足させるためには、外
部メモリ装置に用いられる磁気ディスクも、更に記録密
度を増加させる必要があり、このためには、記録層を形
成する磁性薄膜の磁気特性の向上と記録層のより一層の
薄膜化を促進しなければならない。
[Prior Art] In recent years, as computers have become smaller and their processing power has increased, there has been a demand for further increases in the storage capacity of external memory devices. In order to satisfy this demand, it is necessary to further increase the recording density of magnetic disks used in external memory devices, and for this purpose, it is necessary to improve the magnetic properties of the magnetic thin film that forms the recording layer and to improve the recording density of the recording layer. We must promote further thinning of the film.

そこで、スパッタリング法によりコバルト(CO)又は
コバルトニッケル(CoN()合金の薄膜層を形成した
ものが提案されており(J。
Therefore, it has been proposed to form a thin film layer of cobalt (CO) or cobalt nickel (CoN) alloy by sputtering (J.

App l 、Phys 、53 (5) 、 198
2.特開昭57−7230号公報等)、その他、コバル
ト−白金系、コバルト−ニッケルー白金系のものも知ら
れている。
Appl, Phys, 53 (5), 198
2. In addition, cobalt-platinum and cobalt-nickel-platinum types are also known.

而して、アルミニウム基合金等の基板上に、上記の如き
磁性薄膜を形成するに際しては、一般に、まず基板上に
下地層を形成し、この下地層の上に磁性薄膜を形成する
ようにしている。この下地層は、ヘッドがディスク面に
衝突する際の衝撃に耐え、該ディスク面の変形を防ぐた
めのものであるので十分な硬度を有することが要求され
る。
Therefore, when forming a magnetic thin film as described above on a substrate such as an aluminum-based alloy, generally, a base layer is first formed on the substrate, and then a magnetic thin film is formed on this base layer. There is. This underlayer is required to have sufficient hardness because it is intended to withstand the impact when the head collides with the disk surface and to prevent deformation of the disk surface.

即ち、磁気記録用ディスクへの情報のリード、ライトに
用いられる磁気ヘッドとしては、特開昭57−569号
のようなフローティングタイプのヘッドが広く用いられ
ている。
That is, as a magnetic head used for reading and writing information to a magnetic recording disk, a floating type head such as that disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-569 is widely used.

このような磁気ヘッドは、磁気ディスクの回転中は空気
の流れによって浮上しているので磁気ディスクと接触す
ることはないが、磁気ディスクの回転を開始するとき及
び回転を止める時には、磁気ヘッドは磁気ディスク面に
衝突、摺動する。
Such a magnetic head does not come into contact with the magnetic disk because it is suspended by air flow while the magnetic disk is rotating, but when the magnetic disk starts rotating and stops rotating, the magnetic head Collisions and slides on the disk surface.

かかる衝突、摺動に耐え、十分な耐C55(Conta
ct−5tart−Stop)性を磁気記録媒体に具備
させるために、下地層は十分な硬度を有することが要求
される。
It can withstand such collisions and sliding, and has sufficient resistance to C55 (Conta
In order to provide a magnetic recording medium with ct-5 tart-stop properties, the underlayer is required to have sufficient hardness.

従来、磁気ディスクにおいては、下地層として、アルミ
ニウム合金基板を陽極醸化処理して得られるアルマイト
膜やニッケルーリン無電解メッキ膜(Ni−p膜)等が
使用されている。
Conventionally, in magnetic disks, an alumite film obtained by anodizing an aluminum alloy substrate, a nickel-phosphorus electroless plating film (Ni-P film), or the like has been used as an underlayer.

また、従来、磁気ヘッドと媒体層との摺動特性をよくす
るために、媒体層の表面にフロロカーボン系などの液体
潤滑剤を塗布することもしばしば行われている。
Furthermore, conventionally, in order to improve the sliding characteristics between the magnetic head and the medium layer, a liquid lubricant such as a fluorocarbon-based liquid lubricant is often applied to the surface of the medium layer.

[発明が解決しようとする問題点] 従来の媒体層はその表面が平坦であるので、液体潤滑剤
が剥れ易く、磁気記録媒体の耐C5S性に劣るという問
題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the surface of the conventional medium layer is flat, the liquid lubricant easily peels off, and the C5S resistance of the magnetic recording medium is poor.

即ち、媒体層の表面に付着された液体潤滑剤は、媒体層
上を摺動する磁気ヘッドによって僅かずつではあるが剥
ぎ取られるようにして減少していく、そして、媒体層の
表面が平坦であると、磁気ヘッドの摺動によって液体潤
滑剤が部分的に完全に剥ぎ取られ、媒体層がむき出しに
なることがある。このように液体潤滑剤のないむき出し
の部分が生ずると、この部分で保護膜或いは更に磁性薄
膜の剥離や損傷等が発生し、耐C8S性を低下させる原
因となる。
In other words, the liquid lubricant attached to the surface of the medium layer is gradually stripped off by the magnetic head sliding on the medium layer and is reduced. If so, the liquid lubricant may be partially completely stripped off by the sliding movement of the magnetic head, leaving the medium layer exposed. If such an exposed area without liquid lubricant occurs, the protective film or even the magnetic thin film may be peeled off or damaged in this area, causing a decrease in C8S resistance.

[問題点を解決するための手段及び作用]上記従来技術
の問題点を解決するために、本発明は。
[Means and operations for solving the problems] In order to solve the problems of the above-mentioned prior art, the present invention provides.

ディスク形基板の板面上に、磁性薄膜を含む媒体層が形
成されている磁気記録媒体において、この媒体層の表面
は多数の凹穴が形成されており、かつこの表面に液体潤
滑剤が少なくともこの凹穴中に存在するように付着せし
められて成る磁気記録媒体。
In a magnetic recording medium in which a medium layer including a magnetic thin film is formed on the plate surface of a disk-shaped substrate, the surface of this medium layer has many recessed holes, and at least a liquid lubricant is applied to the surface of the medium layer. A magnetic recording medium is attached so as to exist in this recessed hole.

を要旨とするものである。The main points are as follows.

本発明においては、凹穴が媒体層表面に形成されており
、液体潤滑剤が少なくともこの凹穴中に存在するように
媒体層表面に付着される。このような凹穴中の液体潤滑
剤は、媒体層表面への液体潤滑剤の補給部として作用す
る。
In the present invention, a concave hole is formed on the surface of the medium layer, and the liquid lubricant is attached to the surface of the medium layer so that it exists at least in the concave hole. The liquid lubricant in such a recessed hole acts as a supply portion of liquid lubricant to the surface of the medium layer.

即ち、凹穴以外の表面部分で液体潤滑剤が減少すると、
磁気ヘッドの摺動時に液体潤滑剤がこの凹穴からひき出
されてその周囲に薄く塗り伸ばされるような挙動を行い
、媒体層表面の液体潤滑剤切れを防ぎ、媒体層がむき出
しになることを制御する。
In other words, when the liquid lubricant decreases in the surface area other than the recessed hole,
When the magnetic head slides, the liquid lubricant is drawn out from this recessed hole and spread thinly around it, preventing the liquid lubricant from running out on the surface of the media layer and preventing the media layer from becoming exposed. Control.

以下本発明の構成に就き更に詳細に説明する。The configuration of the present invention will be explained in more detail below.

本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に磁性薄膜を含
む媒体層が形成されて成る。この媒体層は、その表面に
凹穴を有するように形成される。
The magnetic recording medium of the present invention includes a medium layer including a magnetic thin film formed on a nonmagnetic substrate. This medium layer is formed to have recesses on its surface.

本発明においては、通常、下地層が凹穴を有するように
基板上に形成され、これにより媒体層表面に下地層凹穴
に倣った凹穴が形成される。
In the present invention, the base layer is usually formed on the substrate so as to have a recessed hole, thereby forming a recessed hole that imitates the underlayer recessed hole on the surface of the medium layer.

凹穴を有する下地層の好適な形成方法としては。A preferred method for forming a base layer having recessed holes is as follows.

■ 基板をアルミニウム又はアルミニウム合金とし、こ
れを酸溶液中で電解処理を施すことにより凹穴を有する
アルマイト層を基板上に形成きせる方法、 ■ クロムをスパッタリング、イオンブレーティング等
の気相蒸着方法によって付着させる方法、 が挙げられる。
■ A method in which the substrate is aluminum or an aluminum alloy, and an alumite layer with concave holes is formed on the substrate by electrolytically treating it in an acid solution. ■ A method in which chromium is deposited by vapor phase deposition such as sputtering or ion blasting. An example of this is the method of attachment.

■のアルマイト層を形成する場合、酸溶液としてはクロ
ム酸を含む酸溶液が好適である。このクロム酸溶液を用
いることにより、無数の凹穴を有するアルマイト被膜を
形成することが可能である。また、■の気相蒸着法の場
合、スパッタリングが最も好ましい、そして、クロムの
厚さが例えば100OA以上の厚さとなるように基板上
にスパッタリングすると5表面に連続的に凹凸が形成さ
れ、これにより、本発明において好適である凹穴が形成
される。
When forming the alumite layer (2), an acid solution containing chromic acid is suitable as the acid solution. By using this chromic acid solution, it is possible to form an alumite coating having countless recesses. In the case of the vapor phase deposition method (2), sputtering is most preferable, and if the chromium is sputtered onto the substrate to a thickness of, for example, 100 OA or more, irregularities will be formed continuously on the surface of 5. , a recessed hole suitable for the present invention is formed.

このクロム下地層の厚さが100OAよりも薄い場合に
は、凹凸が形成されにくい、また、ヘッドの衝突に対す
る耐力が小さく、いわゆるヘッドクラッシュを生ずるお
それがある。なお、3ILmよりも大きい場合には、製
造時間が徒に増大すると共に、製造時等における温度の
昇降によって生ずる内部熱応力が過大になって亀裂を生
じさせるおそれがあるので、クロム下地層は3ILm以
下の厚さとするのが好ましい。
If the thickness of the chromium underlayer is less than 100 OA, it is difficult to form unevenness, and the resistance against head collision is low, which may lead to so-called head crash. If it is larger than 3ILm, the manufacturing time will increase unnecessarily, and the internal thermal stress caused by the rise and fall of temperature during manufacturing may become excessive and cause cracks. It is preferable that the thickness is as follows.

而して、本発明において、凹穴を有する下地層は、テク
スチャー処理のように、一旦形成した下地に機械的な処
理を施すことにより溝状の凹穴を設けたものとは異なり
、独立した凹穴が無数に形成されたものである。
Therefore, in the present invention, the base layer having the recessed holes is different from the one in which groove-shaped recessed holes are provided by applying mechanical treatment to the once formed base layer, such as texture treatment, and the base layer has independent groove-like recessed holes. It is made up of countless recessed holes.

即ち、テクスチャー処理のように溝を擦過する如くして
形成する方法においては、どうしても溝の間隔が不均一
になり、液体潤滑剤を満遍なく表面に行きわたらせる効
果が小さくなる。(仮に、溝の間隔が小さくなるように
激しいテクスチャー処理を施したのでは、下地層表面が
過度に荒れてしまう、) これに対して、本発明は、前記■、■のような、下地層
形成時に凹穴が自ずから形成される方法によって設けら
れた、凹穴が均等に分布しており、凹穴間隔に過度の開
きのない下地層を有する。そのため、この凹穴に入り込
んだ液体潤滑剤により、下地層表面が満遍なく塗り伸ば
されるようになる。
That is, in a method of forming grooves by rubbing, such as in texturing, the intervals between the grooves inevitably become uneven, and the effect of evenly distributing the liquid lubricant over the surface is reduced. (If a severe texturing process was applied to reduce the groove spacing, the surface of the base layer would become excessively rough.) On the other hand, the present invention provides It has a base layer in which the recesses are evenly distributed and there is no excessive gap between the recesses, which is provided by a method in which the recesses are naturally formed during formation. Therefore, the liquid lubricant that has entered the recesses is evenly spread over the surface of the base layer.

本発明において、基板の材質としては、下地層形成時と
して上記■のアルマイト形成法を採用する場合には、ア
ルミニウム又はアルミニウム合金を用いるが、■の蒸着
形成法を採用する場合には、モの他のもの例えばチタン
合金、ガラス、セラミックなどをも用いうる。
In the present invention, aluminum or an aluminum alloy is used as the material for the substrate when the alumite formation method described in (1) above is used when forming the underlayer, but when the vapor deposition method (2) is employed, aluminum or an aluminum alloy is used. Other materials such as titanium alloys, glass, ceramics, etc. may also be used.

次に凹穴の大きさないしは形成ビフ千等について説明す
る。
Next, the size and formation of the recessed hole will be explained.

凹穴の平均的な直径は、大きくとも300〜2000A
の範囲にあるのが好ましい、また、凹穴の平均間隔(即
ち、凹穴の中心と中心との間隔の平均値)はその条件を
500〜5000Aの間になるようにするのが好ましい
The average diameter of the recessed hole is at most 300 to 2000A.
It is preferable that the average distance between the recessed holes (that is, the average value of the distance between the centers of the recessed holes) is within the range of 500 to 5000A.

前述のように、本発明においては通常、下地層に凹穴を
形成し、これによって媒体層の表面に凹穴を形成させる
。下地層としてアルマイト被膜を用いた場合には、第1
図に示すような独立した穴が分散して形成される。また
、クロム下地を用いた場合には、第2図に示すように、
連続した凹凸が形成される。第1図のようなアルマイト
被膜の場合、平均の凹穴の直径の上限は500〜200
0Aの間にあるのが好ましい、また、凹穴同士の平均の
間隔(凹穴の中心と中心との距離)は5000A以下と
するのが好ましい、クロム下地の場合には、凹穴の直径
の平均値の上限を300〜2000Aとするのが好まし
く、凹穴の間隔の平均値は500〜2000Aとするの
が好ましい、ちなみに、従来のテクスチャー処理によっ
て表面を粗化させたものにおいては、平均の溝の幅は0
.1pm程度であり、溝の平均的な間隔はl ” l 
Og m程度である。
As described above, in the present invention, the recesses are usually formed in the underlayer, thereby forming the recesses on the surface of the medium layer. When an alumite film is used as the base layer, the first
Independent holes as shown in the figure are formed in a distributed manner. In addition, when using a chrome base, as shown in Figure 2,
Continuous unevenness is formed. In the case of an alumite coating as shown in Figure 1, the upper limit of the average recessed hole diameter is 500 to 200.
The average distance between the recessed holes (the distance between the centers of the recessed holes) is preferably between 0A and 5000A or less.In the case of a chrome base, the diameter of the recessed holes It is preferable that the upper limit of the average value is 300 to 2000A, and the average value of the interval between the recessed holes is preferably 500 to 2000A.Incidentally, in the case of a surface roughened by conventional texturing, the average value Groove width is 0
.. It is about 1 pm, and the average spacing of the grooves is l ” l
It is about Ogm.

下地層の上に形成される磁性薄膜は、Co−Ni、Co
−Pt、Co−N[−P、Co−Ni−Pt、Co−P
tなどの合金系の薄膜が好ましいが、γ−ヘタマイトな
どの酸化物系のものなども用い得る。なお、コバルト合
金系の薄膜を形成する場合には、その厚さを約400〜
100OA程度とするのが好ましい。
The magnetic thin film formed on the underlayer is made of Co-Ni, Co
-Pt, Co-N [-P, Co-Ni-Pt, Co-P
A thin film based on an alloy such as T is preferable, but an oxide based film such as γ-hetamite may also be used. In addition, when forming a cobalt alloy-based thin film, the thickness should be approximately 400 to
It is preferable to set it to about 100OA.

本発明においては、この磁性薄膜の上に、所望により保
護膜層を設けることができる。
In the present invention, a protective film layer can be provided on this magnetic thin film if desired.

この保護膜としては、オスミウム、ルテニウム、イリジ
ウム、マンガン、タングステン等の金属、酸化珪素、酸
化チタン、酸化タンタル、酸化ハフニウム等の酸化物、
各種の窒化物、炭化物、ホウ素、炭素、炭素とホウ素の
合金などを用い得る。このうち、炭素は摺動特性に優れ
る反面、その上に付着される液体潤滑剤とのなじみが良
くない、そのため、本発明においては、保MHを炭素と
した場合、作用効果が顕著になる。
As this protective film, metals such as osmium, ruthenium, iridium, manganese, and tungsten, oxides such as silicon oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and hafnium oxide,
Various nitrides, carbides, boron, carbon, alloys of carbon and boron, etc. can be used. Among these, although carbon has excellent sliding properties, it has poor compatibility with the liquid lubricant deposited thereon.Therefore, in the present invention, when carbon is used as the MH retainer, the effect becomes more pronounced.

本発明においては、媒体層の表面、即ち保護膜のないと
きには磁性薄膜の表面、保護膜を設けた場合には、この
保isの表面に、それぞれ液体潤滑剤を付着させる。液
体潤滑剤としては、特に限定されるものではないが、高
級脂肪酸、高級脂肪酸のエステル化物或いはこれらのフ
ッ素化合物又は有機珪素化合物等が用いられる0例えば
パーフロロポリエーテルなどのフッ素系潤滑剤を用いる
ことができ、このようなものとしてはデュポン株式会社
製のクライトックスやモンテカティー二社製のフォンプ
リンなどが挙げられる。この液体潤滑剤を付着させる方
法としては、液体潤滑剤を適当な有機溶剤に溶かし、ス
プレー、スピンコーティング、ディッピングなどの方法
により媒体の表面に例えば約100℃程度で熱処理して
液体潤滑剤を媒体層の表面に薄く広げる方法などが用い
られる。
In the present invention, a liquid lubricant is applied to the surface of the medium layer, that is, to the surface of the magnetic thin film when there is no protective film, and to the surface of the magnetic layer when a protective film is provided. The liquid lubricant is not particularly limited, but higher fatty acids, esterified products of higher fatty acids, or fluorine compounds or organic silicon compounds thereof may be used.For example, fluorine-based lubricants such as perfluoropolyether are used. Examples of such products include Krytox manufactured by DuPont Co., Ltd. and Fonpurin manufactured by Montecatini. The method for attaching this liquid lubricant is to dissolve the liquid lubricant in a suitable organic solvent and heat-treat the surface of the medium at about 100°C by a method such as spraying, spin coating, or dipping to apply the liquid lubricant to the medium. A method such as spreading it thinly on the surface of the layer is used.

なお、本発明においては、基板と磁性薄膜との間に下地
層の他、磁性薄膜の付着強度を増大させる各種の中間層
などを設けてもよい。
In addition, in the present invention, in addition to the underlayer, various intermediate layers for increasing the adhesion strength of the magnetic thin film may be provided between the substrate and the magnetic thin film.

[実施例] 以下、本発明を具体的実施例によって詳細に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be explained in detail using specific examples.

なお、以下に述べる実施例はr、f。Note that the examples described below are r and f.

マグネトロンスパッタ装置によったが、イオン工学的に
同様のことが言えるイオンビームスパッタリング等によ
って本発明の効果を得ることが可能であることは勿論で
ある。
Although a magnetron sputtering device was used, it is of course possible to obtain the effects of the present invention by ion beam sputtering, etc., which can be said to be similar in terms of ion technology.

実施例1 マグネシウムを4%含むアルミニウム合金基板(大きさ
:外径130mm、内径40 m m、厚さ1.9mm
)をクロム酸を含む酸浴中で電解処理し、その表面に厚
さIOpmのアルマイト質の下地層を形成した。
Example 1 Aluminum alloy substrate containing 4% magnesium (size: outer diameter 130 mm, inner diameter 40 mm, thickness 1.9 mm)
) was electrolytically treated in an acid bath containing chromic acid to form an alumite base layer with a thickness of IOpm on its surface.

次に、r、f、マグネトロンスパッタ装置を用い、下記
条件にてGo−15Ni薄膜を形成した。
Next, a Go-15Ni thin film was formed using an r, f, magnetron sputtering device under the following conditions.

初期排気     1〜2X10−’To r r雰囲
気圧(Ar)  15〜20mTorr投入電力   
  1kw ターゲット組成  Go−Ni (なお、ターゲット組成は目標とする薄膜の組成に一致
させる0本実施例1では、Co/N1=85/15(原
子%比)の薄膜を形成するので、Co85原子%、Ni
15原子%のターゲットを用いる。) 極間隔      108mm 薄膜形成速度   150A/min 更に、この磁性合金薄膜上に、炭素を厚さが40OAと
なるようにスパッタリングした。この磁気記録媒体の表
面をSEMで写真撮影し、凹穴の径及び凹穴の間隔の平
均値を求めた。結果を第1表に示す、なお、第1図はこ
の撮影された写真を模写した図面であって、lは媒体層
の表面、2は凹穴である0図示の如く、アルマイトを形
成した場合には、凹穴は無数に分散したように形成され
る。
Initial exhaust 1~2X10-'Torr Atmospheric pressure (Ar) 15~20mTorr Input power
1kw Target composition Go-Ni (The target composition should match the composition of the target thin film. In Example 1, a thin film with Co/N1 = 85/15 (atomic % ratio) is formed, so Co85 atomic % ,Ni
A 15 atom % target is used. ) Pole spacing: 108 mm Thin film formation rate: 150 A/min Furthermore, carbon was sputtered onto this magnetic alloy thin film to a thickness of 40 OA. The surface of this magnetic recording medium was photographed using a SEM, and the diameter of the recessed holes and the average value of the interval between the recessed holes were determined. The results are shown in Table 1. Figure 1 is a drawing that reproduces this photograph, where l is the surface of the medium layer and 2 is the recessed hole.0 As shown in the figure, when alumite is formed In this case, a countless number of concave holes are formed.

次に、炭素膜の表面に液体潤滑剤(モンテカティー二社
製フォンプリン)を、平均10A厚さとなるように付着
させた。付着方法は次の通りである。フォンプリンをフ
レオンに0.03%濃度となるように溶解し、この溶解
液をスプレー法により媒体表面に塗布し、フレオンを蒸
発させた後、100℃で1時間の熱処理を施し、フォン
プリンを媒体表面に付着させた。
Next, a liquid lubricant (Fonprin, manufactured by Montecatini) was applied to the surface of the carbon film to an average thickness of 10A. The attachment method is as follows. Fonprin was dissolved in Freon to a concentration of 0.03%, this solution was applied to the surface of the medium by a spray method, Freon was evaporated, and heat treatment was performed at 100°C for one hour to dissolve Fonprin. It was attached to the surface of the medium.

このようにして形成された磁気記録媒体のC5S特性を
測定した結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of measuring the C5S characteristics of the magnetic recording medium thus formed.

実施例2 アルマイトの厚さを31Lmとしたこと、磁性膜の組成
をCo−25Niとしたこと、及び液体潤滑剤を2OA
厚のデュポン社製のクライトックスとしたこと以外は実
施例1と同様にして磁気記録媒体を作成した。下地層の
凹穴の間隔及び凹穴径、並びに磁気記録媒体のC8S特
性の測定結果を第1表に示す。
Example 2 The thickness of the alumite was 31 Lm, the composition of the magnetic film was Co-25Ni, and the liquid lubricant was 2OA.
A magnetic recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that thick Krytox manufactured by DuPont was used. Table 1 shows the measurement results of the interval and diameter of the recesses in the underlayer and the C8S characteristics of the magnetic recording medium.

実施例3 酸浴における電解処理時の電流密度を若干変えたこと、
クライトツクスの付着厚さを5OAとしたこと以外は実
施例2と同様にして磁気記録媒体を作成した。下地層の
凹穴の平均間隔及び平均穴径並びにC8S特性の測定結
果を第1表に示す。
Example 3 The current density during electrolytic treatment in an acid bath was slightly changed,
A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 2, except that the thickness of the deposited crystals was 5OA. Table 1 shows the measurement results of the average interval and average hole diameter of the recessed holes in the underlayer, and the C8S characteristics.

実施例4 炭素保護膜を設けなかったこと以外は実施例2と同様に
して磁気記録媒体を作成した。下地膜の凹穴の平均間隔
、平均穴径並びにC8S特性の測定結果を第1表に示す
Example 4 A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 2 except that a carbon protective film was not provided. Table 1 shows the measurement results of the average interval of the recessed holes in the base film, the average hole diameter, and the C8S characteristics.

実施例5 マグネシウムを4%含むアルミニウム合金基板(大きさ
及び厚さは実施例1のものと同じ)の表面に500OA
の厚さとなるようにクロムをスパッタリングし、その上
に実施例1と同様にしてCo−15Niの磁性膜を形成
した。更に炭素保護膜を30OAの厚さとなるようにス
パッタリングした後、液体潤滑剤(フォンプリン)を厚
さ5OA付着させた。CSS特性の測定結果を第51表
に示す、また、クロム下地層を形成したところで媒体を
スパッタリング装置から取り出し、クロム層の断面の電
子m微鏡写真を撮影し凹穴の平均間隔を測定したところ
、1500Aであった。なお、第2図はこの電子顕微鏡
写真を模写した図であるが1図示の如く、クロムをスパ
ッタリングした下地膜においては、鋸歯状の連続した凹
凸が形成され、これによって凹穴が形成されていること
が認められた。
Example 5 500OA was applied to the surface of an aluminum alloy substrate containing 4% magnesium (the size and thickness were the same as those of Example 1).
Chromium was sputtered to a thickness of , and a Co-15Ni magnetic film was formed thereon in the same manner as in Example 1. Furthermore, after sputtering a carbon protective film to a thickness of 30 OA, a liquid lubricant (Fonprin) was deposited to a thickness of 5 OA. The measurement results of CSS characteristics are shown in Table 51. In addition, after forming the chromium underlayer, the medium was taken out from the sputtering device, an electron micrograph of the cross section of the chromium layer was taken, and the average spacing of the recessed holes was measured. , 1500A. Note that Figure 2 is a reproduction of this electron micrograph, and as shown in Figure 1, continuous sawtooth-like irregularities are formed in the base film sputtered with chromium, which forms recessed holes. This was recognized.

比較例1 上記実施例に用いたものと同じアルミニウム合金基板の
上に、ニッケル燐の下地膜を151Lmの厚さとなるよ
うに無電解メッキ法により形成し、これにテクスチャー
処理を施し、引っ掻き傷状の溝を設けた。溝の平均間隔
は3pm、溝の幅は0.05pmであった。このニッケ
ル燐下地膜の上にGo−Ni−P磁性膜を70OA厚さ
となるようにメッキ法により形成した。なお、磁性膜の
ニッケル含有率は20原子%とした。この磁性膜の上に
、炭素保護膜を40OA厚さとなるようにスパッタリン
グした後、液体潤滑剤としてクライトツクスを2OA厚
さとなるように付着させた。
Comparative Example 1 On the same aluminum alloy substrate as used in the above example, a nickel phosphorous base film was formed to a thickness of 151 Lm by electroless plating, and then textured to create a scratch-like appearance. A groove was provided. The average groove spacing was 3 pm, and the groove width was 0.05 pm. A Go--Ni--P magnetic film was formed on this nickel phosphorous base film to a thickness of 70 OA by plating. Note that the nickel content of the magnetic film was 20 atomic %. A carbon protective film was sputtered onto the magnetic film to a thickness of 40 OA, and then Krytx was deposited as a liquid lubricant to a thickness of 2 OA.

この耐C5S特性の測定結果を第1表に示す。The measurement results of this C5S resistance characteristic are shown in Table 1.

比較例? テクスチャー処理時の条件を若干変更し、溝の平均間隔
を91Lm、溝の平均の幅を0.151Lmとしたこと
、炭素保護膜を設けなかったこと、及び液体潤滑剤とし
てフォンプリンを5OA厚さとなるように付着させたこ
と以外は比較例1と同様にして磁気記録媒体を作成した
。この耐C5S特性を測定した結果を第1表に示す。
Comparative example? The conditions during texture processing were slightly changed, and the average interval of the grooves was 91Lm, the average width of the grooves was 0.151Lm, no carbon protective film was provided, and 5OA thickness and 5OA thickness of Fonprin as a liquid lubricant were used. A magnetic recording medium was produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that the magnetic recording medium was attached so as to be as follows. The results of measuring the C5S resistance characteristics are shown in Table 1.

第1表より、本発明に係るものは、耐C5S特性に著し
く優れることが明らかである。
From Table 1, it is clear that the products according to the present invention are extremely excellent in C5S resistance.

なおC5S試験は5%”φディスクを5イ”φディスク
ドライブに装填して行った。用いたヘッドは幅4mmの
M n −Z nウィンチェスタ−型のものであり、R
=50mmでのヘッド浮上量を0.2pm(3600r
pm時)に設定し、この点でテストを行った。CSSサ
イクルは第3図によった。
The C5S test was conducted by loading a 5%"φ disk into a 5"φ disk drive. The head used was an Mn-Zn Winchester type head with a width of 4 mm, and R
= Head flying height at 50mm is 0.2pm (3600r
pm) and tested at this point. The CSS cycle was as shown in Figure 3.

耐C5S性の寿命はスタート時対比再生出力が10%低
下する時点あるいはエラーが1ケでも増大する時点とし
た。
The life of the C5S resistance was defined as the point at which the reproduction output decreased by 10% compared to the starting point or the point at which the number of errors increased by even one.

第1表より、本発明に係るものは、著しく耐C5S特性
に優れていることが認められる。
From Table 1, it is recognized that the products according to the present invention are extremely excellent in C5S resistance.

〔効果1 以上詳述した通り1本発明の磁気記録媒体は磁性媒体層
の表面に凹穴を形成し、液体潤滑剤が表面に良好に保持
されるようにしたものであり、磁気ヘッドとの摩擦係数
が低く、耐C8S性に著しく優れる。
[Effect 1] As detailed above, the magnetic recording medium of the present invention has concave holes formed on the surface of the magnetic medium layer so that the liquid lubricant is well retained on the surface, which improves the interaction with the magnetic head. It has a low coefficient of friction and excellent C8S resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はアルマイト下地層の断面形状を示す模式図、第
2図はクロム下地層の断面形状を示す模式図、第3図は
@CSS特性テスト用ドライブの回転特性である。 l・・・媒体層表面、   2・・・凹穴。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the cross-sectional shape of the alumite base layer, FIG. 2 is a schematic diagram showing the cross-sectional shape of the chrome base layer, and FIG. 3 is the rotational characteristics of the drive for @CSS characteristic test. l...Medium layer surface, 2...Recessed hole.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ディスク形基板の板面上に、磁性薄膜を含む媒体
層が形成されている磁気記録媒体において、この媒体層
の表面は多数の凹穴が形成されており、かつこの表面に
液体潤滑剤が少なくともこの凹穴中に存在するように付
着せしめられて成る磁気記録媒体。
(1) In a magnetic recording medium in which a medium layer containing a magnetic thin film is formed on the surface of a disk-shaped substrate, the surface of this medium layer has many concave holes and is lubricated with liquid. A magnetic recording medium in which an agent is attached so that it exists at least in the recessed hole.
(2)媒体層は、基板上に形成された非磁性の下地層と
、この下地層の上側に設けられた磁性合金薄膜とを含ん
で成り、かつ非磁性の下地層に凹穴が形成され、これに
より媒体層の表面に凹穴が形成されている特許請求の範
囲第1項に記載の磁気記録媒体。
(2) The medium layer includes a nonmagnetic underlayer formed on the substrate and a magnetic alloy thin film provided above the underlayer, and a recessed hole is formed in the nonmagnetic underlayer. 2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein recessed holes are formed on the surface of the medium layer.
(3)媒体層は前記下地層及び磁性合金薄膜と、この磁
性合金薄膜の表面側に設けられた炭素保護膜とを含んで
成る特許請求の範囲第2項に記載の磁気記録媒体。
(3) The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the medium layer includes the underlayer, the magnetic alloy thin film, and a carbon protective film provided on the surface side of the magnetic alloy thin film.
(4)下地層は、多孔質アルマイト層又はクロム蒸着層
である特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか1
項に記載の磁気記録媒体。
(4) Any one of claims 1 to 3, wherein the base layer is a porous alumite layer or a chromium vapor deposited layer.
The magnetic recording medium described in section.
JP6172785A 1985-03-26 1985-03-26 Magnetic recording medium Pending JPS61220128A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63144419A (en) * 1986-12-05 1988-06-16 Brother Ind Ltd Magnetic recording medium and its production
JPH01182920A (en) * 1988-01-13 1989-07-20 Hitachi Ltd Magnetic recording medium

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