JPS621236A - 半導体装置の製法 - Google Patents
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- JPS621236A JPS621236A JP61082001A JP8200186A JPS621236A JP S621236 A JPS621236 A JP S621236A JP 61082001 A JP61082001 A JP 61082001A JP 8200186 A JP8200186 A JP 8200186A JP S621236 A JPS621236 A JP S621236A
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- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
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- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
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- H01L2924/01082—Lead [Pb]
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- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
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- H01L2924/181—Encapsulation
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- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体分野、特にその分野における電気的
、機械的、及び又は化学的な保護のための被膜を有する
半導体装置の製法に関するものである。
、機械的、及び又は化学的な保護のための被膜を有する
半導体装置の製法に関するものである。
半導体主面保護のためにポリイミド系有機被膜を形成す
ることが知られている。例えば、その−例は特開昭52
−58469号公報によって知られている。
ることが知られている。例えば、その−例は特開昭52
−58469号公報によって知られている。
上に述べた公知技術においては、プラスチック封止(モ
ールド)の際に半導体主面に与えられるストレスを上記
ポリイミド系樹脂被膜で充分吸収することができない。
ールド)の際に半導体主面に与えられるストレスを上記
ポリイミド系樹脂被膜で充分吸収することができない。
またそのストレスにより上記ポリイミド系樹脂被膜も損
傷を受けることがある。
傷を受けることがある。
本発明は信頼性のすぐれた半導体装置を提供することを
目的としてなされたものである。
目的としてなされたものである。
さらに具体的には、本発明は半導体装置の外部あるいは
封止材料からの水分の侵入、ストレス、α線等高速粒子
によるダメージから半導体素子ペレットを保護し、信頼
性を向上させることを目的とする。
封止材料からの水分の侵入、ストレス、α線等高速粒子
によるダメージから半導体素子ペレットを保護し、信頼
性を向上させることを目的とする。
本発明は、上記目的を達成するために、ウェーハ状態の
半導体基体主面をポリイミド系有機膜で覆い、そしてさ
らにそのウェーハ状態の半導体基体を半導体ペレットに
分割した後に、半導体ペレット主面に樹脂を被覆して半
導体ペレット主面を充分保護し、この後プラスチック封
止(レジンモールド)するものである。
半導体基体主面をポリイミド系有機膜で覆い、そしてさ
らにそのウェーハ状態の半導体基体を半導体ペレットに
分割した後に、半導体ペレット主面に樹脂を被覆して半
導体ペレット主面を充分保護し、この後プラスチック封
止(レジンモールド)するものである。
本発明によれば、半導体ペレット主面へのダメージは緩
和される。すなわち、ウェーハ状態で被覆した保護膜(
ポリイミド系有機被膜)と半導体ペレットにした後に、
その半導体ペレット主面に被覆した保護膜(樹脂塗布膜
)との重ね膜によりプラスチック封止の際のストレスを
吸収し、半導体ペレット主面に対してダメージを与える
ことがなくなり、また耐湿性向上をはかることができる
。
和される。すなわち、ウェーハ状態で被覆した保護膜(
ポリイミド系有機被膜)と半導体ペレットにした後に、
その半導体ペレット主面に被覆した保護膜(樹脂塗布膜
)との重ね膜によりプラスチック封止の際のストレスを
吸収し、半導体ペレット主面に対してダメージを与える
ことがなくなり、また耐湿性向上をはかることができる
。
したがって、本発明によれば、高信頼度のプラスチック
封止型半導体装置を得ることができる。
封止型半導体装置を得ることができる。
以下、実施例にもとづいて本発明の詳細な説明する。
まず、第1図に示すように通常のプロセスによりシリコ
ンからなる半導体基板lの主面に半導体素子領域(図示
せず)を形成し、5iOz膜等の絶縁膜を介して素子領
域間の電気的接続用AQ配線3及び外部との電気的接続
のためのAQ電極パッド2を形成する。このようにして
形成された半導体素子表面に、ピロリドン溶媒の15%
濃度のポリイミドワニスをスピンナで塗布し、100℃
30分、200℃ 30分、350℃ 30分窒素雰
囲気中でベークし、重合反応させ、約2μmの厚さのポ
リイミド被膜4を形成する。この後、外部との電気的接
続用バット部2及びスクライブライン部IOのポリイミ
ド被膜4をホトエツチング技術により除去する。エツチ
ングはヒドラジンヒトラードを用い、30℃で約15分
である。この工程によりパッド部2及びスライプライン
部10以外はポリイミド被膜4で覆われた構造を得る。
ンからなる半導体基板lの主面に半導体素子領域(図示
せず)を形成し、5iOz膜等の絶縁膜を介して素子領
域間の電気的接続用AQ配線3及び外部との電気的接続
のためのAQ電極パッド2を形成する。このようにして
形成された半導体素子表面に、ピロリドン溶媒の15%
濃度のポリイミドワニスをスピンナで塗布し、100℃
30分、200℃ 30分、350℃ 30分窒素雰
囲気中でベークし、重合反応させ、約2μmの厚さのポ
リイミド被膜4を形成する。この後、外部との電気的接
続用バット部2及びスクライブライン部IOのポリイミ
ド被膜4をホトエツチング技術により除去する。エツチ
ングはヒドラジンヒトラードを用い、30℃で約15分
である。この工程によりパッド部2及びスライプライン
部10以外はポリイミド被膜4で覆われた構造を得る。
このように形成された半導体装置を上記スクライブライ
ン部に沿ってスクライブし個々のペレット(小片)に分
割し、第2図に示すようにリードフレームのタブ6上に
金(Au)箔5を用い金−St共品にて固定し、その後
外部との電気的接続のため通常のワイヤボンディング法
によりパッド2とフレームのリード端子7間をAu線等
のコネクタワイヤ8で接続する。
ン部に沿ってスクライブし個々のペレット(小片)に分
割し、第2図に示すようにリードフレームのタブ6上に
金(Au)箔5を用い金−St共品にて固定し、その後
外部との電気的接続のため通常のワイヤボンディング法
によりパッド2とフレームのリード端子7間をAu線等
のコネクタワイヤ8で接続する。
こののち、例えば水性ディスパージョンタイプの4フッ
化エチレン−6フツ化プロピレン共重合を、上記のよう
に組立てられた半導体装置上に塗布し、100°C30
分、300℃ 30分窒素雰囲気中でベータし、被膜9
を形成する。この被膜厚さは前記ポリイミド被膜4の厚
さの10倍以上とすることが望ましく、具体的には10
μm以上とするのが望ましい。特にワイヤボンディング
した後の塗布により被覆するためこの被膜は容易に厚く
形成される。
化エチレン−6フツ化プロピレン共重合を、上記のよう
に組立てられた半導体装置上に塗布し、100°C30
分、300℃ 30分窒素雰囲気中でベータし、被膜9
を形成する。この被膜厚さは前記ポリイミド被膜4の厚
さの10倍以上とすることが望ましく、具体的には10
μm以上とするのが望ましい。特にワイヤボンディング
した後の塗布により被覆するためこの被膜は容易に厚く
形成される。
その後は通常の方法により点線13で示すようにモール
ド樹脂体によりリードフレームのリード先端部、タブ部
、ワイヤ及び半導体素子部を一体にプラスチック封止し
、本発明による半導体装置が形成される。
ド樹脂体によりリードフレームのリード先端部、タブ部
、ワイヤ及び半導体素子部を一体にプラスチック封止し
、本発明による半導体装置が形成される。
ポリイミド上に塗布することにより同様の効果が得られ
るフッ素系樹脂として、4フツ化エチレン樹脂、4フッ
化エチレン−エチレン共重合樹脂、4フッ化エチレン−
パーフロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂などがあ
る。これらはいずれもポリマー分子の構成要素としてフ
ッ素を含有するポリマーである。
るフッ素系樹脂として、4フツ化エチレン樹脂、4フッ
化エチレン−エチレン共重合樹脂、4フッ化エチレン−
パーフロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂などがあ
る。これらはいずれもポリマー分子の構成要素としてフ
ッ素を含有するポリマーである。
本発明によりフッ素系樹脂のもつ非吸湿性及びポリイミ
ドとの接着性が良好のため、各被膜間のはがれの問題を
なくし、外部から、半導体基板上の金属配線への水分の
侵入速度を遅らせ、半導体装置の耐湿信頼性を向上させ
ることができる。
ドとの接着性が良好のため、各被膜間のはがれの問題を
なくし、外部から、半導体基板上の金属配線への水分の
侵入速度を遅らせ、半導体装置の耐湿信頼性を向上させ
ることができる。
本発明の耐湿信頼性に対する効果を第3図に示す。同図
よりプレッシャクツキング(HlOガス圧22気圧、温
度120℃)による強制劣化試験による不良発生は従来
技術により作成したもの(曲線If)より本発明適用品
(曲線12)の方が明らかにすぐれていることがわかる
。
よりプレッシャクツキング(HlOガス圧22気圧、温
度120℃)による強制劣化試験による不良発生は従来
技術により作成したもの(曲線If)より本発明適用品
(曲線12)の方が明らかにすぐれていることがわかる
。
なお、本願発明の効果は特に耐湿性を問題とするプラス
チック封止型の半導体装置に適用してその効果が大きい
。
チック封止型の半導体装置に適用してその効果が大きい
。
第1図は、半導体素子の保護膜としてポリイミド被膜を
有する半導体素子要部の断面図である。 第2図は、本発明に係る半導体装置を説明するための要
部断面図である。 第3図は、従来品及び本発明適用品とのプレッシャクツ
キング耐湿試験の結果を示す特性図であ1・・・半導体
基板、2・・・電極(ボンディングパッド)、3・・・
配線、4・・・ポリイミド被膜、訃・・Au−8i共晶
、6・・・タブ部、7・・・リード部、8・・・コネク
ティンクワイヤ、9・・・フッ素系樹脂被膜、I3・・
・モールド樹脂体。
有する半導体素子要部の断面図である。 第2図は、本発明に係る半導体装置を説明するための要
部断面図である。 第3図は、従来品及び本発明適用品とのプレッシャクツ
キング耐湿試験の結果を示す特性図であ1・・・半導体
基板、2・・・電極(ボンディングパッド)、3・・・
配線、4・・・ポリイミド被膜、訃・・Au−8i共晶
、6・・・タブ部、7・・・リード部、8・・・コネク
ティンクワイヤ、9・・・フッ素系樹脂被膜、I3・・
・モールド樹脂体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ウェーハ状態にある半導体基体主面にボンディング
パッドを形成する工程と、 そのボンディングパットを露出するように上記半導体基
体主面上にポリイミド系有機被膜を形成する工程と、 上記半導体基体を複数の半導体ペレットに分割する工程
と、 タブ部およびリード部を有するリードフレームを準備し
、そのタブ部に上記半導体ペレットを取り付ける工程と
、 上記半導体ペレット主面のボンディングパッドとリード
部とをコネクタワイヤで接続する工程と、しかる後、上
記半導体ペレット主面に樹脂被膜を形成する工程と、 上記半導体ペレットをプラスチック封止する工程と、 からなることを特徴とする半導体装置の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61082001A JPS621236A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 半導体装置の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61082001A JPS621236A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 半導体装置の製法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7468079A Division JPS55166942A (en) | 1979-06-15 | 1979-06-15 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS621236A true JPS621236A (ja) | 1987-01-07 |
Family
ID=13762260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61082001A Pending JPS621236A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 半導体装置の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS621236A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06104615A (ja) * | 1992-05-07 | 1994-04-15 | Hughes Aircraft Co | モールドされた導波管部品 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51147962A (en) * | 1975-06-02 | 1976-12-18 | Fairchild Camera Instr Co | Method of mounting semiconductor devices |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP61082001A patent/JPS621236A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51147962A (en) * | 1975-06-02 | 1976-12-18 | Fairchild Camera Instr Co | Method of mounting semiconductor devices |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH06104615A (ja) * | 1992-05-07 | 1994-04-15 | Hughes Aircraft Co | モールドされた導波管部品 |
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