JPS62123612A - 接触層を有するｎ−形導電性セラミツク電気構成部分 - Google Patents
接触層を有するｎ−形導電性セラミツク電気構成部分Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ｎ−形導電率を示し、オーム性導電率特性
を有する接触層をそなえるセラミック電気構成部分に関
する。
を有する接触層をそなえるセラミック電気構成部分に関
する。
ｎ−形セラミック材料」二の接触のオーム性導電率特性
を得るためには、少なくとも前記材料に隣接する層が還
元性を有する金属より成るべきことが必要である。
を得るためには、少なくとも前記材料に隣接する層が還
元性を有する金属より成るべきことが必要である。
これは、例えば、米国特許第３０２７５２９号明細書に
、還元性を有する金属、例えば、アルミニウムの薄い蒸
着層」二を銅、銀又は前記金属の合金の電着又は金属化
層で補強したような層を用いると記載される。概して、
最外層は、良好なはんだ付は適性が要求される。
、還元性を有する金属、例えば、アルミニウムの薄い蒸
着層」二を銅、銀又は前記金属の合金の電着又は金属化
層で補強したような層を用いると記載される。概して、
最外層は、良好なはんだ付は適性が要求される。
ある適用にあたって、セラミック表面は、機械的処理、
例えば、研削、研磨又はのこ引きにかけねばならない。
例えば、研削、研磨又はのこ引きにかけねばならない。
ところが、既知の方法による接触層をそなえるような構
成部分は、３５０℃以上の使用温度でじゅうぶんな安定
性を示さないことを確かめた。更に、このような構成部
分は、温かい湿り空気（４０℃−９０％ＲＨ（相対湿度
））中での寿命試験に合格することができないことを確
かめた。
成部分は、３５０℃以上の使用温度でじゅうぶんな安定
性を示さないことを確かめた。更に、このような構成部
分は、温かい湿り空気（４０℃−９０％ＲＨ（相対湿度
））中での寿命試験に合格することができないことを確
かめた。
この発明は、ｎ−形導電率を示し、オーム性導電率特性
を有する接触層をそなえるセラミック電気構成部分を提
供する。
を有する接触層をそなえるセラミック電気構成部分を提
供する。
この発明に従って、上記構成の構成部分は、還元性を有
する蒸着層に隣接する層が次の組成ニガラス質結合剤
１０〜２５重量％ アルミニウム粒子 ≧ ５重量％ 銀粒子 く ５０重量％ の混合物より成ることを特徴とする。
する蒸着層に隣接する層が次の組成ニガラス質結合剤
１０〜２５重量％ アルミニウム粒子 ≧ ５重量％ 銀粒子 く ５０重量％ の混合物より成ることを特徴とする。
この主要な特徴を満たす構成部分は、４５０℃もの使用
温度での繰り返し放置にすぐれた耐性を有し、また」１
記の温かい湿り空気の試験にも耐える。
温度での繰り返し放置にすぐれた耐性を有し、また」１
記の温かい湿り空気の試験にも耐える。
この発明に従う接触層の最」二層における銀の存在は、
それが機械仕」二表面を有する構成部分の耐性に関係す
る場合は必要がない３、還元性を有する層を蒸着により
設けることは、不ｉ＋Ｊ欠である。
それが機械仕」二表面を有する構成部分の耐性に関係す
る場合は必要がない３、還元性を有する層を蒸着により
設けることは、不ｉ＋Ｊ欠である。
しかし、Ａ−導電性セラミック構成部分の若干の適用の
ためには、Ｈｌ−ＩＨ通より高い、接触層の耐摩滅性が
要求される。これは、なかんずく正の抵抗温度係数を有
する抵抗体より成る電動機保護装置における場合であり
、そこでは、電動機をオンにスイッチする度に可動接触
子により接触表面が接触される。
ためには、Ｈｌ−ＩＨ通より高い、接触層の耐摩滅性が
要求される。これは、なかんずく正の抵抗温度係数を有
する抵抗体より成る電動機保護装置における場合であり
、そこでは、電動機をオンにスイッチする度に可動接触
子により接触表面が接触される。
構成部分の接触層の１ｌｉ４磨滅性に関しては、特別の
要求がなされる用途に４１７に向けられるこの発明の好
ましい例によれば、ｈｌ、Ｉ＋構成部分、還元性を有す
る層に隣接する層が次の１１量％組成ニガラス質Ｒ，−
合剤 １０〜２５（Ｆ量％アルミニウム粒子 ≧
５重量％ 銀粒子 ２０〜５０重債％ を有することを特徴とする。
要求がなされる用途に４１７に向けられるこの発明の好
ましい例によれば、ｈｌ、Ｉ＋構成部分、還元性を有す
る層に隣接する層が次の１１量％組成ニガラス質Ｒ，−
合剤 １０〜２５（Ｆ量％アルミニウム粒子 ≧
５重量％ 銀粒子 ２０〜５０重債％ を有することを特徴とする。
ガラス質結合剤としては、ガラスが何らの酸化成分をも
含有せず、かつ軟化温度が約６５０℃より低いことを条
件に任意の組成物を用いることができる。接触層を生じ
る出発物として用いうるペーストにおいては、ガラスは
、例えば、１０μｍの粒度を有する摩砕フリットの形で
用いられ、金属粒子も、例えば、この大きさで用いられ
る。
含有せず、かつ軟化温度が約６５０℃より低いことを条
件に任意の組成物を用いることができる。接触層を生じ
る出発物として用いうるペーストにおいては、ガラスは
、例えば、１０μｍの粒度を有する摩砕フリットの形で
用いられ、金属粒子も、例えば、この大きさで用いられ
る。
適当なガラス組成物の例は：
Ｐｂ０ ３６．０重量％ ７４．０重量％ ５３．５
重量％ ４４．４重量％３ａＱ” ’ ／／
１８．３ ／／ ／／Ｓ’＋０２ ２
０．６ 〃１８．６ 〃２０．２ ” ２６
．１ 〃３ｒＱ ／／ −−／／ ２
１５ ｔｔｅ２ｏ３５．０ 〃５．０ 〃５．４
〃６．１ 〃へ１２０３ ２．４ 〃２
．４ 〃２．６ ／’ ２．９
〃ＢＩ２［］３３６．０ ／／ ／／
−／／ −／／、であり、いわゆる厚膜技術で用
いられる他の既知のガラスも用いることができる。
重量％ ４４．４重量％３ａＱ” ’ ／／
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０．６ 〃１８．６ 〃２０．２ ” ２６
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．４ 〃２．６ ／’ ２．９
〃ＢＩ２［］３３６．０ ／／ ／／
−／／ −／／、であり、いわゆる厚膜技術で用
いられる他の既知のガラスも用いることができる。
ガラス質結合剤の役目は、アルミニウム粒子上に存在す
る自然酸化物層をその中に溶解して、金属を遊離させる
ようにすることである。
る自然酸化物層をその中に溶解して、金属を遊離させる
ようにすることである。
ペーストをかける前に、それを焼成中に揮発及び／又は
燃焼する仮結合剤を混合する。このような結合剤は、ペ
ーストに適当なレオロジー特性を与えるために加えられ
る。このような結合剤の例は、安息香酸ベンジルとエチ
ルセルロースの混合物又はエチルセルロースのブタノー
ル−１及び酢酸プチルカルヒ用・−ルの混合物中の溶液
である。
燃焼する仮結合剤を混合する。このような結合剤は、ペ
ーストに適当なレオロジー特性を与えるために加えられ
る。このような結合剤の例は、安息香酸ベンジルとエチ
ルセルロースの混合物又はエチルセルロースのブタノー
ル−１及び酢酸プチルカルヒ用・−ルの混合物中の溶液
である。
次に、この発明を二つの例によって一層詳細に説明する
。
。
例 １
一Ω−−導電性１１ａ７ｉ０．’Ｊ：の二、三の接触層
、すなわち： ａ） 原子比８０：２０で、０．１ μｍの）ワさに真
空蒸着させたＮｉＣｒ層、０．３μｍの銀蒸着層及び蒸
着銀層」二に５〜１０μｍの厚さでかけた既知の銀ペー
ストの組合せを用い全体を４５０℃で５分間焼成したも
の、 ｂ） ペーストの形でスクリーン印刷によりかけ、１４
．７〜１５．０重量％・のＩｎ、 ３．６５−３．７５
重量％のＧａ。
、すなわち： ａ） 原子比８０：２０で、０．１ μｍの）ワさに真
空蒸着させたＮｉＣｒ層、０．３μｍの銀蒸着層及び蒸
着銀層」二に５〜１０μｍの厚さでかけた既知の銀ペー
ストの組合せを用い全体を４５０℃で５分間焼成したも
の、 ｂ） ペーストの形でスクリーン印刷によりかけ、１４
．７〜１５．０重量％・のＩｎ、 ３．６５−３．７５
重量％のＧａ。
７３．５〜７５，２重量％の銀及び６〜８％のエナメル
粉末を含有するＩｎＪａ Ａｇ層並びにこの」−に同じ
くスクリーン印刷により５〜１０μｍの厚さにかけた醜
−ペーストの組合せを用い、第１唐をかけた後に全体を
６２０℃で２０分間焼成し、第２層をかけた後全体を６
２０℃で１０分間焼成したもの、 Ｃ） スクリーン印刷によりかけ同じく６２０℃で２０
分間焼成した同じ組成のＩｎ−Ｇ計へｇ層並びに乾燥物
質で約２０重量％のガラス粉末及び８０重里％のへ１粉
末を含んで成る層ペーストの５〜１０μｍ厚さの層の組
合せて、全体を６２０℃で２０分間焼成したもの の特性をこの発明に従う次の４種の接触層組合せ：ｄ）
真空蒸着した２μ印厚さのアルミニウムの屑、その七
に乾燥物質で約２０１量％のガラス粉末および８０重里
％のＡ１粉末を含んで成るへ１ペーストの、５〜１０μ
ｍ厚さのスクリーン印刷層を置き、全体を６５０℃で２
０分間焼成したもの、 ｅ） 原子比８０：２０で真空蒸着したＮｉＣｒの０．
１μ印厚さの層、０．３μｍの銀の蒸着層及びその」二
の、ｄ）と同じ厚さ及び組成のへ１ペーストのスクリー
ン印刷層から成り、全体を同様に６５０℃で２０分間焼
成した組合せ、 ｆ） へ１ペースト層をスクリーン印刷でな（スプレー
イングで設けたほかはｄ）と同じもの、ｇ） へ１ペー
スト層をスクリーン印刷でなくスプレーイングで設けた
ほかはｅ）と同じものと比較する。
粉末を含有するＩｎＪａ Ａｇ層並びにこの」−に同じ
くスクリーン印刷により５〜１０μｍの厚さにかけた醜
−ペーストの組合せを用い、第１唐をかけた後に全体を
６２０℃で２０分間焼成し、第２層をかけた後全体を６
２０℃で１０分間焼成したもの、 Ｃ） スクリーン印刷によりかけ同じく６２０℃で２０
分間焼成した同じ組成のＩｎ−Ｇ計へｇ層並びに乾燥物
質で約２０重量％のガラス粉末及び８０重里％のへ１粉
末を含んで成る層ペーストの５〜１０μｍ厚さの層の組
合せて、全体を６２０℃で２０分間焼成したもの の特性をこの発明に従う次の４種の接触層組合せ：ｄ）
真空蒸着した２μ印厚さのアルミニウムの屑、その七
に乾燥物質で約２０１量％のガラス粉末および８０重里
％のＡ１粉末を含んで成るへ１ペーストの、５〜１０μ
ｍ厚さのスクリーン印刷層を置き、全体を６５０℃で２
０分間焼成したもの、 ｅ） 原子比８０：２０で真空蒸着したＮｉＣｒの０．
１μ印厚さの層、０．３μｍの銀の蒸着層及びその」二
の、ｄ）と同じ厚さ及び組成のへ１ペーストのスクリー
ン印刷層から成り、全体を同様に６５０℃で２０分間焼
成した組合せ、 ｆ） へ１ペースト層をスクリーン印刷でな（スプレー
イングで設けたほかはｄ）と同じもの、ｇ） へ１ペー
スト層をスクリーン印刷でなくスプレーイングで設けた
ほかはｅ）と同じものと比較する。
次の第１表に得られた特性、ずなわぢオーム接触の性質
、４０℃、９０％Ｒｌ−１の淵り空気中での寿命試験に
関する安定性及び多くの温度に保った場合の安定性の概
括を示す 結果は、次の認定により記録される： 十」−極めて良好 」−良好 十−許容しろる − 悪い −−極めて悪い １−導電性ｎａＴｌｏ３の表面」―の層の多数の次の組
合せの耐磨滅性に関する特性を測定した：ａ） 厚さ０
．１ μｍのＮ１Ｃｒ（８０：２０） とその−１
−の厚さ０．３ μｍの銀層との（真空）蒸着組合せ、
及び蒸着組合せ」二に４０μｍの１２さてスクリーン印
刷により設けた、２０重量％のガラスと８０重量％のＡ
１を含んで成る層ペースト、 ｂ） ａ）と同じ蒸着組合せの−ににｌ１機物質とし
て４７重量％のへｇｓｔ１．Ｊ重量％の層及び残りの百
分率のガラスフリッ！・を含んで成るペーストをスクリ
ーン印刷により設けたもの、 ｃ） ａ）と同じ蒸着組合せの−１−に無機物質とし
て３５重量％の八１と残りの百分率のガラスを含んで成
るペーストをスクリーン印刷により設けたもの。
、４０℃、９０％Ｒｌ−１の淵り空気中での寿命試験に
関する安定性及び多くの温度に保った場合の安定性の概
括を示す 結果は、次の認定により記録される： 十」−極めて良好 」−良好 十−許容しろる − 悪い −−極めて悪い １−導電性ｎａＴｌｏ３の表面」―の層の多数の次の組
合せの耐磨滅性に関する特性を測定した：ａ） 厚さ０
．１ μｍのＮ１Ｃｒ（８０：２０） とその−１
−の厚さ０．３ μｍの銀層との（真空）蒸着組合せ、
及び蒸着組合せ」二に４０μｍの１２さてスクリーン印
刷により設けた、２０重量％のガラスと８０重量％のＡ
１を含んで成る層ペースト、 ｂ） ａ）と同じ蒸着組合せの−ににｌ１機物質とし
て４７重量％のへｇｓｔ１．Ｊ重量％の層及び残りの百
分率のガラスフリッ！・を含んで成るペーストをスクリ
ーン印刷により設けたもの、 ｃ） ａ）と同じ蒸着組合せの−１−に無機物質とし
て３５重量％の八１と残りの百分率のガラスを含んで成
るペーストをスクリーン印刷により設けたもの。
機械的磨滅は、次の寿命試験により試験された。
いわゆる電動機始動接点の中−ペンを構成部分の表面上
１分当り１６回の度数で０．５ｍｍの距離にわたって往
復させる。ばね接点」二の圧力は約３Ｎである。組立体
を垂直に置き生成しんが逃げるようにする。耐磨滅性の
尺度として、Ｊ−導電性１３ａＴｌｏ＋、正の温度係数
を有する抵抗体により制御される電流のしゃ断が起こる
時間を測定する。
１分当り１６回の度数で０．５ｍｍの距離にわたって往
復させる。ばね接点」二の圧力は約３Ｎである。組立体
を垂直に置き生成しんが逃げるようにする。耐磨滅性の
尺度として、Ｊ−導電性１３ａＴｌｏ＋、正の温度係数
を有する抵抗体により制御される電流のしゃ断が起こる
時間を測定する。
しゃ断が接触ａ）では４０分後に、ｂ）では２５時間後
に、Ｃ）では１００〜４００時間後にやっと起こる。
に、Ｃ）では１００〜４００時間後にやっと起こる。
この発明の範囲内で用いうるへｌＡｇペーストの他の組
成は次のとおりである： Ａｇ ２３ 、八ｌ’ ４Ｑ各重量％、残りガラス（無
機物質中）、 八ｇ５５．５、へ１１６．６各市量％、残りガラス（無
機物質中）。
成は次のとおりである： Ａｇ ２３ 、八ｌ’ ４Ｑ各重量％、残りガラス（無
機物質中）、 八ｇ５５．５、へ１１６．６各市量％、残りガラス（無
機物質中）。
後の方の組成は、例えば、次の形で与えられる二人ｇ４
０．０重量％ へ１１２．０重量％ ガラスフリット２０．０重量％（例えば、前に列挙した
組成３） 有機結合剤の有機溶媒溶液 ２８．０重量％。
０．０重量％ へ１１２．０重量％ ガラスフリット２０．０重量％（例えば、前に列挙した
組成３） 有機結合剤の有機溶媒溶液 ２８．０重量％。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ｎ−形導電率を示し、オーム性導電率特性を有する
接触層をそなえるセラミック電気構成部分であって、接
触層が少なくとも二つの副層から成り、それらのうちセ
ラミック表面に隣接する層が還元性を有し、蒸着により
設けられたセラミック電気構成部分において、還元性を
有する層に隣接する層が次の組成：ガラス質結合剤１０
〜２５重量％ アルミニウム粒子≧５重量％ 銀粒子≦５０重量％ の混合物より成ることを特徴とする接触層を有するｎ−
形導電性セラミック電気構成部分。 ２、還元性を有する層に隣接する層が次の組成：ガラス
質結合剤１０〜２５重量％ アルミニウム粒子≧５重量％ 銀粒子２０〜５０重量％ を有する特許請求の範囲第１項記載のセラミック電気構
成部分。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8503142 | 1985-11-15 | ||
| NL8503142A NL8503142A (nl) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | N-type geleidend keramisch elektrisch onderdeel met contactlagen. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62123612A true JPS62123612A (ja) | 1987-06-04 |
| JPH0357601B2 JPH0357601B2 (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=19846873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61268768A Granted JPS62123612A (ja) | 1985-11-15 | 1986-11-13 | 接触層を有するｎ−形導電性セラミツク電気構成部分 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0223303A1 (ja) |
| JP (1) | JPS62123612A (ja) |
| KR (1) | KR870005417A (ja) |
| NL (1) | NL8503142A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4910544A (en) * | 1988-02-15 | 1990-03-20 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Focus adjusting apparatus in zoom lens camera |
| JP2005184025A (ja) * | 2005-02-03 | 2005-07-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0603565B1 (en) * | 1992-11-24 | 1999-05-12 | TDK Corporation | Chip varistor and its production method |
| ATE405264T1 (de) | 2000-02-08 | 2008-09-15 | Euro Celtique Sa | Zusammensetzungen mit kontrollierter freisetzung, die einen opioid agonist und antagonist enthalten |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1490271A1 (de) * | 1958-04-30 | 1968-12-05 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung sperrschichtfreier Kontaktierungen an keramischen Kaltleitern |
| DE1415406B1 (de) * | 1958-04-30 | 1970-08-20 | Siemens Ag | Keramischer Widerstand mit hohem positiven Temperaturkoeffizienten seines Gesamtwiderstandswertes |
| GB1151648A (en) * | 1966-10-17 | 1969-05-14 | Nat Lead Co | Conductive Coatings |
| US3547835A (en) * | 1969-06-09 | 1970-12-15 | Du Pont | Processes of producing and applying silver compositions,and products therefrom |
| GB1556638A (en) * | 1977-02-09 | 1979-11-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for manufacturing a ceramic electronic component |
-
1985
- 1985-11-15 NL NL8503142A patent/NL8503142A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-11-13 KR KR860009578A patent/KR870005417A/ko not_active Application Discontinuation
- 1986-11-13 EP EP86201990A patent/EP0223303A1/de not_active Withdrawn
- 1986-11-13 JP JP61268768A patent/JPS62123612A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4910544A (en) * | 1988-02-15 | 1990-03-20 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Focus adjusting apparatus in zoom lens camera |
| JP2005184025A (ja) * | 2005-02-03 | 2005-07-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR870005417A (ko) | 1987-06-08 |
| NL8503142A (nl) | 1987-06-01 |
| EP0223303A1 (de) | 1987-05-27 |
| JPH0357601B2 (ja) | 1991-09-02 |
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