JPS62111949A - エトキシル化ビスフエノ−ルａのヒンダ−ドヒドロキシフエニルアルカン酸エステル - Google Patents
エトキシル化ビスフエノ−ルａのヒンダ−ドヒドロキシフエニルアルカン酸エステルInfo
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- JPS62111949A JPS62111949A JP61191565A JP19156586A JPS62111949A JP S62111949 A JPS62111949 A JP S62111949A JP 61191565 A JP61191565 A JP 61191565A JP 19156586 A JP19156586 A JP 19156586A JP S62111949 A JPS62111949 A JP S62111949A
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
- C08K5/134—Phenols containing ester groups
- C08K5/1345—Carboxylic esters of phenolcarboxylic acids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、エトキシル化ビスフェノールＡの新規なヒド
ロキシフェニルアルカン酸エステルに関し、それを宮み
安定化された重合体樹脂に関し、またそのエステル化合
物の製法に関する。本発明はその新規な安定剤化合物と
共にチオシネルギスト及びホスファイト等の補助安定剤
を含む樹脂にも関する。
ロキシフェニルアルカン酸エステルに関し、それを宮み
安定化された重合体樹脂に関し、またそのエステル化合
物の製法に関する。本発明はその新規な安定剤化合物と
共にチオシネルギスト及びホスファイト等の補助安定剤
を含む樹脂にも関する。
本発明のヒンダードヒドロキシフェニルアルカン酸エス
テルは下記の一般式を有する：Ｒ′ （式中、Ｒ及びＲ′は、独立的に水素または炭素原子数
１〜４のアルキル基であり、 ｐ及びｑは１または２であり、 ｐ十ｑの値は２〜３であり、 ｎの値は１〜６である。） 好１しくけ、Ｒ及びＲ′はｔ−ブチルであり、あるいは
Ｒがｔ−ブチルであるときには、Ｒ′はメチルであり、
ｎは１または２の値をＭし、そしてｐ及びｑは１の値を
有する。
テルは下記の一般式を有する：Ｒ′ （式中、Ｒ及びＲ′は、独立的に水素または炭素原子数
１〜４のアルキル基であり、 ｐ及びｑは１または２であり、 ｐ十ｑの値は２〜３であり、 ｎの値は１〜６である。） 好１しくけ、Ｒ及びＲ′はｔ−ブチルであり、あるいは
Ｒがｔ−ブチルであるときには、Ｒ′はメチルであり、
ｎは１または２の値をＭし、そしてｐ及びｑは１の値を
有する。
米国特ｉＦＦ第３，５７７，３８４号明細書には、ビス
（Ｗ分ヒンダー ドヒドロキシフェニル＞ブｐンＨテニ
スチル化したエトキシル化ビスフェノールＡを含む安定
剤が記載されている。
（Ｗ分ヒンダー ドヒドロキシフェニル＞ブｐンＨテニ
スチル化したエトキシル化ビスフェノールＡを含む安定
剤が記載されている。
米国特許第３，６５７，３２１号明細書には、未置換ビ
スフェノールＡのヒンダードヒドロキシフェニルプロピ
オネート誘導体を含む安定剤が記載されている。
スフェノールＡのヒンダードヒドロキシフェニルプロピ
オネート誘導体を含む安定剤が記載されている。
米国特許＠３．９４４，５９４号明細書にはヒンダード
ヒドロキシフェニルプロピオン醗でエステル化されたポ
リアルキレングリコールを含む安定剤が記載されている
。
ヒドロキシフェニルプロピオン醗でエステル化されたポ
リアルキレングリコールを含む安定剤が記載されている
。
本発明の化合物（安定剤）は、先行技術のものと比較し
て予期できない程すぐれている。
て予期できない程すぐれている。
本発明の化合物は、ヒンダードヒドロキシフェニルアル
カン酸の低級アルキルエステルと、適宜なビスフェノー
ルＡエトキシレートと、から適当なビスフェノールＡエ
トキシレートと、から適当な触媒の存在下でのエステル
交換反応によって製造テキる。ヒングードヒドロキシフ
ェニルアルカン酸の低級アルキルエステルは、米国特許
第３，３３０，８５９号及び同第３，３６４，２５０号
明細書に開示された方法に従って製造できる。所望のビ
スフェノールＡエトキシレートはビスフェノールＡとエ
チレンオキサイドとの反応により製造できる。
カン酸の低級アルキルエステルと、適宜なビスフェノー
ルＡエトキシレートと、から適当なビスフェノールＡエ
トキシレートと、から適当な触媒の存在下でのエステル
交換反応によって製造テキる。ヒングードヒドロキシフ
ェニルアルカン酸の低級アルキルエステルは、米国特許
第３，３３０，８５９号及び同第３，３６４，２５０号
明細書に開示された方法に従って製造できる。所望のビ
スフェノールＡエトキシレートはビスフェノールＡとエ
チレンオキサイドとの反応により製造できる。
ビスフェノールＡビスエトキシＶ−）は、米国特許第４
，３１０，７０６号、同第４，３１０．７０７号及び同
第４，３１０，７０８号に記載の如く触媒の存在下テビ
スフェノールＡとエチンンカーボネートトを反応させる
ことにより製造できることも公知である。
，３１０，７０６号、同第４，３１０．７０７号及び同
第４，３１０，７０８号に記載の如く触媒の存在下テビ
スフェノールＡとエチンンカーボネートトを反応させる
ことにより製造できることも公知である。
本発明は、本発明の新規化合物を製造する方法にも関し
ている。本発明の化合物は、上述の通常法で製造できる
けれども、ビスフェノールＡのエトキシル化反応とその
粗生成物のエステル交換反応とを、リチウムアミドのよ
うな適当な触媒の存在下で単一反応容器での逐次反応法
で実施するならば、向上した総合収率を達成できること
がこＣに判明した。
ている。本発明の化合物は、上述の通常法で製造できる
けれども、ビスフェノールＡのエトキシル化反応とその
粗生成物のエステル交換反応とを、リチウムアミドのよ
うな適当な触媒の存在下で単一反応容器での逐次反応法
で実施するならば、向上した総合収率を達成できること
がこＣに判明した。
本発明の化合物は、通常熱的劣化及び酸化劣化を受は易
い／に様物質の安定剤として有用である。
い／に様物質の安定剤として有用である。
本発明の化合物で安定化される物質としては、合成有機
重合体物質、例えばノ・ロゲン化ビニルのようなエチレ
ン不飽和単量体の重合、またけハロゲン化ビニルと、ビ
ニルエステル、α、β−不飽和ケトン、α、β−不飽和
アルデヒド、及び不飽和炭化氷菓（例：ブタジェン、ス
チレン）のような不飽和重合性化合物との共重合から得
られるビニル樹脂類：ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリブチレン等、のポリ−α−オレフィン類及びポリ−
α−オレフィン共重合体類；ポリウレタン類及びポリア
ミド類、例えばポリヘキサメチレンアジパミド及びポリ
カブｐラクタム：ポリエステル類、例えばポリエチレン
テレフメレート：ボリカーボネート類；ポリアセタール
知；ポリスチレン；ポリエチレンオキ丈イド：ポリイン
ブレン：ボリブダジエン；及びブタジェンとスチレンの
共重合体を含む窩耐価撃性ポリスチレン、及びアクリロ
ニトリル、ブタジェン及び／ｌたはスチレンの共重合に
より得られる共重合体類等がある。
重合体物質、例えばノ・ロゲン化ビニルのようなエチレ
ン不飽和単量体の重合、またけハロゲン化ビニルと、ビ
ニルエステル、α、β−不飽和ケトン、α、β−不飽和
アルデヒド、及び不飽和炭化氷菓（例：ブタジェン、ス
チレン）のような不飽和重合性化合物との共重合から得
られるビニル樹脂類：ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリブチレン等、のポリ−α−オレフィン類及びポリ−
α−オレフィン共重合体類；ポリウレタン類及びポリア
ミド類、例えばポリヘキサメチレンアジパミド及びポリ
カブｐラクタム：ポリエステル類、例えばポリエチレン
テレフメレート：ボリカーボネート類；ポリアセタール
知；ポリスチレン；ポリエチレンオキ丈イド：ポリイン
ブレン：ボリブダジエン；及びブタジェンとスチレンの
共重合体を含む窩耐価撃性ポリスチレン、及びアクリロ
ニトリル、ブタジェン及び／ｌたはスチレンの共重合に
より得られる共重合体類等がある。
一般に本発明の安定剤の１種またはそれ以上は、安定化
されるべ＠組成物の約０．００５〜約５重量％の童で使
用する。本発明の安定剤の殊に有利な添加量範囲は、杓
υ、０５〜約２％である。この好筐しい範囲は、ポリオ
レフィン類、例えばポリプロピレンに２いて殊に有効で
ある。
されるべ＠組成物の約０．００５〜約５重量％の童で使
用する。本発明の安定剤の殊に有利な添加量範囲は、杓
υ、０５〜約２％である。この好筐しい範囲は、ポリオ
レフィン類、例えばポリプロピレンに２いて殊に有効で
ある。
本発明化合物は、普通の加工処理操作中に、例えばミー
リングまたは押出処理により、重合体中へ配合できる。
リングまたは押出処理により、重合体中へ配合できる。
安定化された重合体は、フィルム、繊維、フィラメント
、中空成形体等に加工できる。
、中空成形体等に加工できる。
本発明化合物の熱安定化特性は、一般に遭遇する高温度
での（例えば加工中の）劣化に対して重合体を有利に安
定化させる。
での（例えば加工中の）劣化に対して重合体を有利に安
定化させる。
本発明では、本発明の安定剤は別の安定剤または癌加Ａ
′ＩＩ類と組合せても使用できる。特に有用な共（補助
）安定剤はジラウリル−β−チオジプロピオネート及び
ジステアリル−β−チオジプロピオネート（実施例中で
「ＤｓＴＤＰＪと略記）である。
′ＩＩ類と組合せても使用できる。特に有用な共（補助
）安定剤はジラウリル−β−チオジプロピオネート及び
ジステアリル−β−チオジプロピオネート（実施例中で
「ＤｓＴＤＰＪと略記）である。
本発明の安定剤は、ジー及びトリーアルキルホスファイ
ト、及びジー及びトリーアルギルフェニルホスファイト
と組合せて使用でき、そのようなホスファイトの例は、
トリスノニルフェニルホスファイト、トリスジ−ｔ−ブ
チルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ペンタエリトリトジホスファイト、テト
ラ（ジーｔ−）−１−ルフェニルジフェニルー４．４′
−エンージホス７オナイト、及びジステアリルインクエ
リトリトジホスファイトである。
ト、及びジー及びトリーアルギルフェニルホスファイト
と組合せて使用でき、そのようなホスファイトの例は、
トリスノニルフェニルホスファイト、トリスジ−ｔ−ブ
チルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）ペンタエリトリトジホスファイト、テト
ラ（ジーｔ−）−１−ルフェニルジフェニルー４．４′
−エンージホス７オナイト、及びジステアリルインクエ
リトリトジホスファイトである。
その他の抗酸化剤、抗オゾン剤、熱安定剤、紫外線吸収
剤、着色剤、染料、顔料、金属キンート化剤も、本発明
の安定化剤と組合せて樹脂組成吻に２いて便できる。
剤、着色剤、染料、顔料、金属キンート化剤も、本発明
の安定化剤と組合せて樹脂組成吻に２いて便できる。
本発明を以下の実施例により例示するが、本発明はこれ
に限定されるものではない。特に指示しない限り「部」
％ 「％」等の量は重量基準である。
に限定されるものではない。特に指示しない限り「部」
％ 「％」等の量は重量基準である。
実施例１゜
メチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒド
ロシンナメート（６，４２ｇ）を、熱水で６５℃に加熱
した還流コンデン丈−付きフラスコに加えた。この原料
を磁気撹拌しつつ窒素下に１４０℃に加熱した。ナトリ
ウムメトキシド（０，０５４！Ｉ）を添加し、真空（１
０ｍｉｗＨｒ）を掛けた。１５分後、真空をＮ、ガスで
除き、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシ）エトキシ
フェニル〕プロパン（３，１６ｇ）を添加した。真空を
再び掛け、温度をゆっくり１６０℃筐で上昇させた。
ロシンナメート（６，４２ｇ）を、熱水で６５℃に加熱
した還流コンデン丈−付きフラスコに加えた。この原料
を磁気撹拌しつつ窒素下に１４０℃に加熱した。ナトリ
ウムメトキシド（０，０５４！Ｉ）を添加し、真空（１
０ｍｉｗＨｒ）を掛けた。１５分後、真空をＮ、ガスで
除き、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシ）エトキシ
フェニル〕プロパン（３，１６ｇ）を添加した。真空を
再び掛け、温度をゆっくり１６０℃筐で上昇させた。
４時間後、反応を酢酸を用いて停止させ、インプロパツ
ールから目的生成＄７．５ｇ（８９％）を晶出させた。
ールから目的生成＄７．５ｇ（８９％）を晶出させた。
融点Ｆｉ１０４〜１０６℃であった。
理論分析値（Ｃ，、Ｈ７，０，について）Ｃニア６．０
７％、Ｈ：８．６１％ 実測値 Ｃニア５．９４％、Ｈ：８．６６％実施例２
゜ 実施例１と同様にしてメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル
ー４−ヒドロキシヒドロシンナメート上ビスフェノール
Ａ化合物（ビスフェノール４１モル当り平均２．２個の
ヒドロキシエチル基を含むもの）を反応させた。
７％、Ｈ：８．６１％ 実測値 Ｃニア５．９４％、Ｈ：８．６６％実施例２
゜ 実施例１と同様にしてメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル
ー４−ヒドロキシヒドロシンナメート上ビスフェノール
Ａ化合物（ビスフェノール４１モル当り平均２．２個の
ヒドロキシエチル基を含むもの）を反応させた。
生成物をエタノールから析出させて、主としてビスエス
テル化ビスヒドロキシエチルビスフェノールＡ（実施例
１）を含み、いく分かのビスエステル化トリスヒドロキ
シエチルビスフェノールＡを含む組成の固体を得た。
テル化ビスヒドロキシエチルビスフェノールＡ（実施例
１）を含み、いく分かのビスエステル化トリスヒドロキ
シエチルビスフェノールＡを含む組成の固体を得た。
実施例３゜
実施例１と同様にして、メチル３，５−ジーを一フチル
ー４−ヒドロキシヒドロシンナメートの代りにメチル３
−メチル−５−ｔ −フチｙｖ−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメートを用いて、２．２−ビス（４−（２−（３
−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナモイロキシ））エトキシフェニル〕プロパンを得た。
ー４−ヒドロキシヒドロシンナメートの代りにメチル３
−メチル−５−ｔ −フチｙｖ−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメートを用いて、２．２−ビス（４−（２−（３
−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナモイロキシ））エトキシフェニル〕プロパンを得た。
下記の別法により実施例１の化合物を作った。
窒素導入口、温度計、添加ロート及び還流コンテンツ“
−を備えたフラスコに、２．６−ジーｔ−ブチルフェノ
ール（６８，０ｇ）を加えた。フラスコを磁気撹拌しつ
つ１１０℃に加熱し、Ｎ ａ ＯＣＨｓ（０，７１ｇ）
を窒素下に添加した。アクリル酸メチル（３４，４ｇ）
を２時間にわたり滴状に加えた。
−を備えたフラスコに、２．６−ジーｔ−ブチルフェノ
ール（６８，０ｇ）を加えた。フラスコを磁気撹拌しつ
つ１１０℃に加熱し、Ｎ ａ ＯＣＨｓ（０，７１ｇ）
を窒素下に添加した。アクリル酸メチル（３４，４ｇ）
を２時間にわたり滴状に加えた。
反応を３時間継続し、その時に反応フラスコに熱水（６
５℃）で加熱された還流コンデンサーを取付ｆｆ７’ｈ
。ビスヒドロキシエチルビスフェノールＡ（４５，５，
１を反応フラスコに入れ、真空を掛けてゆっくりとＺＯ
ＩＩＩＩＨｙＫ調節した。反応温度を徐々に１７０℃に
上昇させた。揮発物はドライアイス中で冷却したトラッ
プに捕集した。３時間後、反応混合物を酢酸で急冷し、
メタノール中へ注ぎ込んだ。耐却後メタノールからの晶
出によって所望の生成物を得た。
５℃）で加熱された還流コンデンサーを取付ｆｆ７’ｈ
。ビスヒドロキシエチルビスフェノールＡ（４５，５，
１を反応フラスコに入れ、真空を掛けてゆっくりとＺＯ
ＩＩＩＩＨｙＫ調節した。反応温度を徐々に１７０℃に
上昇させた。揮発物はドライアイス中で冷却したトラッ
プに捕集した。３時間後、反応混合物を酢酸で急冷し、
メタノール中へ注ぎ込んだ。耐却後メタノールからの晶
出によって所望の生成物を得た。
実施例５゜
実施例１の化合物の好ましい一製造方法を以下に述べる
。
。
ビスフェノール、！ （３４，２＃ ）＆ヒエチレンカ
ーボネー）（２７，７！りを、窒素導入口及び還流コン
デンサー付きフラスコに入れた。内容物を、ゆっくりし
た窒素流の下で磁気撹拌しつつ１８０℃に加熱した。リ
チウムアマイド（０，１３８ｇ）を添加し、反応混合物
を１．５時間１８０℃に加熱した。還流コンデンサーを
熱水（６５℃）に切り換え、メチル３．５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー） （９Ｌ５＆
）全添加した。真空を２０ ｗｓＨｔ までゆっく
り掛け、揮発物をドライアイス・トラップで捕集した。
ーボネー）（２７，７！りを、窒素導入口及び還流コン
デンサー付きフラスコに入れた。内容物を、ゆっくりし
た窒素流の下で磁気撹拌しつつ１８０℃に加熱した。リ
チウムアマイド（０，１３８ｇ）を添加し、反応混合物
を１．５時間１８０℃に加熱した。還流コンデンサーを
熱水（６５℃）に切り換え、メチル３．５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー） （９Ｌ５＆
）全添加した。真空を２０ ｗｓＨｔ までゆっく
り掛け、揮発物をドライアイス・トラップで捕集した。
反応混合物を０．５時間１８０℃７２０ＢＩＩｆ に
保持した。
保持した。
次いで温度を２１０℃に上げ５時間その温度を維持した
０反応を酢ｆｆ１ｉたけプロピオン酸）で急冷し、メタ
ノールからｘｘ２−３ｇ（総合収率８９％）の目的生成
物を銅結晶により得た。
０反応を酢ｆｆ１ｉたけプロピオン酸）で急冷し、メタ
ノールからｘｘ２−３ｇ（総合収率８９％）の目的生成
物を銅結晶により得た。
実施例６゜
この実施例は、本発明がポリプロピレンの安定化に有用
であることを示す。安定剤は、溶剤（塩化メチレン）ブ
レンディングとそれに続（２００℃での押し出しによっ
て、ポリプロピレン樹脂〔プ１３７アツタ（Ｐｒｏｆａ
ｘ） ６３０１ （商標）〕中へ配合した。２５＜ルの
板片を６０００ ｐａ＜及び１８８℃における圧縮成形
により作った。試料を１５０℃の強制ドラフトオーブン
中で試験した。
であることを示す。安定剤は、溶剤（塩化メチレン）ブ
レンディングとそれに続（２００℃での押し出しによっ
て、ポリプロピレン樹脂〔プ１３７アツタ（Ｐｒｏｆａ
ｘ） ６３０１ （商標）〕中へ配合した。２５＜ルの
板片を６０００ ｐａ＜及び１８８℃における圧縮成形
により作った。試料を１５０℃の強制ドラフトオーブン
中で試験した。
第１の分解の徴候が見られたときに「破損」と断定した
。試験は、−組四試料について実施し、平均値を求めた
。結果を表Ｉに示す。
。試験は、−組四試料について実施し、平均値を求めた
。結果を表Ｉに示す。
表 ■
なし ２４実施例１
０．１０ ６２４実施例２
０．１０ ５７６実施例１／ＤＳＴＤＰ
Ｏ，１０１０，２５２１０６実施例２／ＤＳＴＤＰ
Ｏ，１０１０，２５１６５にの実施例は萬耐衝撃性
ポリスチレ／の安定化に対する本発明の有用性を示す。
０．１０ ６２４実施例２
０．１０ ５７６実施例１／ＤＳＴＤＰ
Ｏ，１０１０，２５２１０６実施例２／ＤＳＴＤＰ
Ｏ，１０１０，２５１６５にの実施例は萬耐衝撃性
ポリスチレ／の安定化に対する本発明の有用性を示す。
安定剤は１８８℃でのミーリングにより高耐衝撃性ポリ
スチレンに配合した。２０ミルの板片を６０００ ｐｓ
ｉ及び１８８℃での圧縮成形により作った。試料を９０
℃の強制ドラフトオーブン中で試験した。板片を１イン
チのマンドレルに掛けて折り曲げた後に亀裂が認められ
たときに「破損」と断定した。試験は一組四試料で行な
い、半均値を求めた。結果を表■に示す。
スチレンに配合した。２０ミルの板片を６０００ ｐｓ
ｉ及び１８８℃での圧縮成形により作った。試料を９０
℃の強制ドラフトオーブン中で試験した。板片を１イン
チのマンドレルに掛けて折り曲げた後に亀裂が認められ
たときに「破損」と断定した。試験は一組四試料で行な
い、半均値を求めた。結果を表■に示す。
表 Ｕ
なし ４８
実施例１ ０．１０ １９２実施例２
０．１０ ２１実施例８゜ この実施例は高密度ポリエチレンに対する本発明の有用
性を示す。安定剤＃″ｉｉ浴剤化メチレン）ブレンディ
ング及びそれに続く２３０℃での押し出しによって高密
度ポリエチレン（ブライド・ケミカル社製ＥＡｓｓ−ｏ
ｏ３）に配合した。試料片を１２０℃の強制ドラフトオ
ーブン中で試験した。折り曲げた後に亀裂が認められた
ときに「破損」と断定した。試験は一組四試料で実施し
、平均値を求めた。結果を表１１１に示す。
０．１０ ２１実施例８゜ この実施例は高密度ポリエチレンに対する本発明の有用
性を示す。安定剤＃″ｉｉ浴剤化メチレン）ブレンディ
ング及びそれに続く２３０℃での押し出しによって高密
度ポリエチレン（ブライド・ケミカル社製ＥＡｓｓ−ｏ
ｏ３）に配合した。試料片を１２０℃の強制ドラフトオ
ーブン中で試験した。折り曲げた後に亀裂が認められた
ときに「破損」と断定した。試験は一組四試料で実施し
、平均値を求めた。結果を表１１１に示す。
表 ■
なし ４８実施例１
０．０５ ３８３４トン６１８ （外５名）
０．０５ ３８３４トン６１８ （外５名）
Claims (8)
- （１）下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ及びＲ′は独立的に水素または炭素原子数１
〜４のアルキル基であり、 ｐ及びｑは１または２であり、 ｐ＋ｑの値は２〜３であり、 ｎの値は１〜６である。） を有するエトキシル化ビスフェノールＡのヒンダードヒ
ドロキシフェニルアルカン酸エステル。 - （２）Ｒ及びＲ′の両者がｔ−ブチルである特許請求の
範囲第１項に記載の化合物。 - （３）ｐ及びｑの両者が１である特許請求の範囲第２項
に記載の化合物。 - （４）ｐ＋ｑの値が２．２である特許請求の範囲第２項
に記載の化合物。 - （５）エチレン不飽和単量体の重合体と、０．００５〜
５重量％の下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ及びＲ′は、独立的に水素または炭素原子数
１〜４のアルキル基であり、 ｐ及びｑは１または２であり、 ｐ＋ｑの値は２〜３であり、 ｎの値は１〜６である。） を有する、エトキシル化ビスフェノールＡのヒンダード
ヒドロキシフェニルアルカン酸エステルと、からなる組
成物。 - （６）重合体がポリエチレン、ポリプロピレン及びポリ
スチレンからなる群より選択されたものである特許請求
の範囲第５項に記載の組成物。 - （７）ジラウリル−β−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−β−チオジプロピオネート、ジステアリルペン
タエリトリトジホスファイト、ペンタエリトリトテトラ
キス〔３−（ドデシルチオ）プロピオネート〕、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トジホスファイト、及びテトラキス（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスフォ
ナイトからなる群より選択される補助安定剤化合物をさ
らに含む特許請求の範囲第６項に記載の組成物。 - （８）リチウムアミドの如き触媒の存在下にエチレンカ
ーボネートを用いてビスフェノールＡをエトキシル化し
、次いでリチウムアミドの存在下にヒンダードヒドロキ
シフェニルアルカン酸の低級アルキルエステルによりエ
ステル交換する単一反応容器での逐次反応からなる、下
記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ及びＲ′は、独立的に水素または炭素原子数
１〜４のアルキル基である。） を有する、エトキシル化ビスフェノールＡのヒンダード
ヒドロキシフェニルアルカン酸エステルの製法。
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