JPS62109992A - 部分メツキ方法 - Google Patents

部分メツキ方法

Info

Publication number
JPS62109992A
JPS62109992A JP25026085A JP25026085A JPS62109992A JP S62109992 A JPS62109992 A JP S62109992A JP 25026085 A JP25026085 A JP 25026085A JP 25026085 A JP25026085 A JP 25026085A JP S62109992 A JPS62109992 A JP S62109992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
metal
anode
contact
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25026085A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Shioiri
塩入 重雄
Tomohide Shimoya
下屋 智秀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP25026085A priority Critical patent/JPS62109992A/ja
Publication of JPS62109992A publication Critical patent/JPS62109992A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 口既要〕 先端が枝分れして形成されている金属片の枝分れ部の内
面の一部のみにメッキを行う方法として、枝分れ部の間
に絶縁被覆された陽極板を挿入し、陽極板に開けられて
いる穴と金属片のメッキ位置とが位置合わせされた時の
み電流を通じてメッキを行う処理方法。
(産業上の利用分野〕 本発明は先端が分岐している被処理金属片先端の対向部
のみに選択的にメッキを行う処理方法に関する。
メッキは酸化され易い金属に耐蝕性を持たせたり、外観
を良くするために行われることが多いが、特定の部分の
特性を向上するために行う場合がある。
例えば非処理金属片を代表するものとしてコネクタをと
ると、このものは装置相互間或いは装置とユニットなど
の回路接続を行う部品であって、ケーブルコネクタ、プ
リント板コネクタなど各種のものあるが、大部分のもの
は雄型のコンタクトが弾性構造を持つ雌型のコンタクト
に挿抜して電気的接続を行う形式のものが多い。
この場合、雄型コンタクトと雌型コンタクトは接触抵抗
を少なくするために接触面が非酸化性で低抵抗の金属か
らなることが必要であるが、それ以外に硬度が高く、耐
摩耗性の優れた金属からなることが信頼性確保の点から
必要である。
そのために燐青銅のような銅合金を基材として雄型コン
タクトと雌型コンタクトを作る場合は、この上に例えば
ニッケル(Ni)メッキ、パラジウム(Pd)メッキ、
金(Au)フラッシュメッキと順次に層形成して特性を
向上することが行われている。
ここでNiメッキは不精性とするため、Pdメッキは硬
度を増すため、Auは接触抵抗を減らすと共に金属相互
間のなじみを良くするためである。
然しなから硬度を増すために行うPdメッキは本質的に
は挿抜が行われる接触部のみに付ければよい。
本発明はこのコネクタの場合のように被処理金属片で必
要とする局所位置のみにメッキを行う処理方法に関する
ものである。
〔従来の技術〕
第2図ば本発明を実施する雌型コンタクトが打抜き成形
されているリードフレーム2の正面図であって、この例
の場合は銅合金よりなる雌型コンタクトlをメッキ液中
に、リードフレーム2を液上に保持して陰極に接続して
通常の方法でNiメッキを行った後の状態を示すもので
ある。
ここでPdメッキは破線で示す雄型コンタクト3の挿抜
が行われる隆起部4にのみ局所的に行うことができると
理想的である。
然し、この対向する隆起部4のみ選択的にメッキを行う
方法はなく、隆起部4を含む雌型コンタクト1の先端部
のメッキが行われていた。
第4図は従来の噴流式メッキ装置の構成を示すもので雌
型コンタクトlが打抜き成形されているリードフレーム
2を合成樹脂からなるマスク5のメッキ室6に設けられ
ているフレームホルダにセ7卜する。
このフレームホルダはメッキ電源の陰極に接続されてお
り、メッキ室6を紙面に直角に移動するように構成され
ている。
一方、メッキを行う雌型コンタクト1の左右には不溶性
金属からなる棒状の陽極7が固定して設けられている。
また、マスク5の中には外部に設けられているメッキ液
タンクに備えられているポンプに連絡されているパイプ
8があり、ノズル部9よりメッキ液をメッキ室6に噴出
するようになっている。
そしてノズル部9より噴出したメッキ液は陽極7と雌型
コンタクト1に衝突した後、メッキ室6に落下し、排出
管10を経てメッキ液タンクに集まり、再びポンプによ
り循環する。
この場合陽極7と雌型コンタクト1との間には電界が掛
かっているため噴出するメ・7キ液ニよって電解回路を
生じ、電流密度の大きな雌型コンタクトの先端部が優先
的にメッキされている。
また、このような噴流方式に代わって従来のような液面
制御方式も行われている。
すなわち第2図に示すリードフレーム2をメッキ電源の
陰極に接続した状態で雌型コンタクト1の先端部をメッ
キ浴に浸漬し、電界を加えることによりメッキが行われ
ている。
ここで両者のメッキ法を比較すると前者は電流効率は低
いものの、電流密度は格段に太き(とることができ、量
産的である。
然し、これら何れの方法も部分的にメッキばできるもの
の第2図に示す隆起部4のみを選択的にメッキすること
は不可能であった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
以上記したように雌型コンタクト1の相対向する隆起部
4のような局所を選択的にメッキすることは従来の方法
では不可能であるが、これを実現する方法を見いだすこ
とが課題である。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題は先端が分岐している被処理金属片が一定の
間隔で打抜き成形されている金属フレームがあり、該被
処理金属片の分岐している対向部の一部のみに選択的に
メッキを行う処理方法として、メッキを行う分岐部の間
隔よりも狭い幅をもつと共に絶縁被覆が施されており、
前記被処理金属片と等しい間隔で複数個の微小孔を有す
る陽極金属板を前記被処理金属片の分岐対向部に挿入し
て固定し、メッキを行う金属片の側面よりメッキ液を噴
射させながら金属フレームを被処理金属片の間隔ずつ移
行せしめ、被処理金属片が陽極金属板の微小孔位置に対
向する度毎に両者の間にパルス電流を通じてメッキを行
い、被処理金属片の分岐している対向部を選択的にメッ
キすることを特徴とする部分メッキ方法により解決する
ことができる。
〔作用〕
本発明は部分メッキ法として優れている噴流方式を改良
したもので、第1図に示すように棒状の陽極11をメッ
キを行う隆起部4の間に固定して設け、この陽極11と
雌型コンタクト1との間に電界を加えると共に雌型コン
タクト1の側面よりメッキ液を噴出させることにより隆
起部4を選択的にメッキするものである。
第3図は本発明を実施する噴流式のメッキ装置の構成を
示している。
ここで、雌型コンタクト1の隆起部4の間隔は微少であ
り、この間に挿入する陽極とは短絡する可能性が大きい
そこで第1図に示すように陽極11は絶縁被覆12して
雌型コンタクトと接触しても短絡を生じない構造とし、
第2図に示すようにリードフレーム2に打抜きされた雌
型コンタクトlのピンチ毎に複数個の穴13が開けられ
ていて電解メッキに際して電流通路を形成している。
そしてメッキ処理は固定されている陽極11に対してリ
ードフレームが移行し、陽極11に開けられている穴1
3と雌型コンタクト1の隆起部4とが対向する毎にパル
ス電流が流れてメッキが行われるよう構成されている。
なお、この位置合わせはリードフレーム2に備えである
位置合わせ穴14を光センサで検出することにより行わ
れている。
次に、本発明に係る部分メッキを行う場合は雌型コンタ
クト1ば総てリードフレーム2に対し直角に曲げられて
供給されており、またメッキ処理中ば従来と同様にメッ
キ液はノズル部9より連続的に噴射されている。
このような構成をとると陽極11の穴13と雌型コンタ
クト1の隆起部4とは微少距離を隔てて対向しており、
この部分が電流密度が大きいので選択的にメッキされる
ことになる。
〔実施例〕 陽極11として厚ざが0.2 vaで長さが60cmの
白金板を使用し、これにテフロン被覆を行って絶縁した
後、雌型コンタクト1のピンチ毎に径0.31の穴を4
個づつ設けてメッキ室6に固定した後、電源の陽極に回
路接続した。
一方、雌型コンタクト1を直角に曲げたリードフレーム
2はメッキ室6の中で電源の陰極に回路接続されている
搬送治具に取付けた。
そしてポンプによりPdメッキ液をノズル9より噴出さ
せ、液を循環させなから40A/dm2の電流密度で電
解メッキを行い、隆起部4に厚さが0.5〜1μmのP
d膜を形成した。
なお、メッキは陽極11の穴13にi′Ji型コンタク
ト1が移動してきて隆起部4と対向する状態でのみ行わ
れるため、メッキ時間はリードフレーム2の移行速度に
よって決まるが、本実施例の場合は電解時間を251秒
に速度を調節し、これを約200回繰り返すことにより
所期のメッキ厚を得るようにした。
〔発明の効果〕

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 先端が分岐している被処理金属片が一定の間隔で打抜き
    成形されている金属フレームがあり、該被処理金属片の
    分岐している対向部の一部のみに選択的にメッキを行う
    処理方法として、メッキを行う分岐部の間隔よりも狭い
    幅をもつと共に絶縁被覆が施されており、前記被処理金
    属片と等しい間隔で複数個の微小孔を有する陽極金属板
    を前記被処理金属片の分岐対向部に挿入して固定し、メ
    ッキを行う金属片の側面よりメッキ液を噴射させながら
    金属フレームを移行せしめ、被処理金属片が陽極金属板
    の微小孔位置に対向する度毎に両者の間にパルス電流を
    通じてメッキを行い、被処理金属片の分岐している対向
    部を選択的にメッキすることを特徴とする部分メッキ方
    法。
JP25026085A 1985-11-08 1985-11-08 部分メツキ方法 Pending JPS62109992A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25026085A JPS62109992A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 部分メツキ方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25026085A JPS62109992A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 部分メツキ方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62109992A true JPS62109992A (ja) 1987-05-21

Family

ID=17205238

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25026085A Pending JPS62109992A (ja) 1985-11-08 1985-11-08 部分メツキ方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62109992A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4615094B2 (ja) * 1999-06-03 2011-01-19 古河電気工業株式会社 部分めっき方法
CN104282457A (zh) * 2013-07-04 2015-01-14 株式会社东海理化电机制作所 开关装置、板弹簧的制造方法、及板弹簧

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4615094B2 (ja) * 1999-06-03 2011-01-19 古河電気工業株式会社 部分めっき方法
CN104282457A (zh) * 2013-07-04 2015-01-14 株式会社东海理化电机制作所 开关装置、板弹簧的制造方法、及板弹簧
JP2015015134A (ja) * 2013-07-04 2015-01-22 株式会社東海理化電機製作所 スイッチ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4033833A (en) Method of selectively electroplating an area of a surface
KR930010062B1 (ko) 수평 안내 회로 기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법 및 장치
US6210555B1 (en) Electrodeposition of metals in small recesses for manufacture of high density interconnects using reverse pulse plating
US3644181A (en) Localized electroplating method
US4600480A (en) Method for selectively plating plastics
GB1422466A (en) Method of plating holes
US4001093A (en) Method of electroplating precious metals in localized areas
CN102347542A (zh) 一种线形接插端子及其制造方法
CA1314519C (en) Method and apparatus for electroplating a metallic deposit on interconnected metallic components and/or metallized products
US4076599A (en) Method and composition for plating palladium
JPH0149795B2 (ja)
CN111041544A (zh) Btb连接器端子的连续电镀工艺
EP0398735A2 (en) Plating system
JP2019044262A (ja) 部分めっき方法
US4100039A (en) Method for plating palladium-nickel alloy
GB1569994A (en) Process for the selective electrodeposition of metals
JPS62109992A (ja) 部分メツキ方法
JPS58500765A (ja) パラジウムと銅およびニツケルの少くとも一方の金属とを含むめつき層を化学的に剥離する方法および該方法に使用する浴
KR20210001623A (ko) 칩온보드 타입 pcb의 도금용 지그
US4405410A (en) Masking of elongate three dimensional objects for the exposure of preselected areas for surface treatment
US4409071A (en) Masking for selective electroplating jet method
US4230538A (en) Strip line plating cell
JPH09246695A (ja) プリント基板等の銅パターンの表面処理方法及び装置
JP2611431B2 (ja) 均一部分電気メッキ法
TWI355219B (en) Micro-etching process of pcb without causing galva