JPS62107094A - ニツケルめつき材の製造方法 - Google Patents
ニツケルめつき材の製造方法Info
- Publication number
- JPS62107094A JPS62107094A JP24717285A JP24717285A JPS62107094A JP S62107094 A JPS62107094 A JP S62107094A JP 24717285 A JP24717285 A JP 24717285A JP 24717285 A JP24717285 A JP 24717285A JP S62107094 A JPS62107094 A JP S62107094A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel plating
- nickel
- skin pass
- stainless steel
- bright
- Prior art date
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- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(目 的)
本発明は、オーステナイト系ステンレス鋼上に半光沢ニ
ッケルめっきあるいは光沢ニッケルめっきを施すニッケ
ルめっき材の製造方法に関する。
ッケルめっきあるいは光沢ニッケルめっきを施すニッケ
ルめっき材の製造方法に関する。
(従来技術及び問題点)
ステンレス鋼は、それ自体耐食性に富んでいるので、耐
食性を改善する目的のためにめっきを施す必要はほとん
どないが2表面を美麗にする装飾の目的やはんだ付性を
改善するためあるいは接触抵抗を改善する等のためにめ
っきを施す場合がある。
食性を改善する目的のためにめっきを施す必要はほとん
どないが2表面を美麗にする装飾の目的やはんだ付性を
改善するためあるいは接触抵抗を改善する等のためにめ
っきを施す場合がある。
その例としてはリチウム電池のケースや太陽電池基板が
ある。リチウム電池のケースは加工性に富むことが要求
され、深絞り加工を受けた際にクラックや肌荒れが生じ
ないことが必要であり、また接触抵抗が小さく光沢があ
って外観にも優れていることが要求されている。また、
太陽電池基板では表面の平滑性及び光沢性が優れており
、さらに微小な欠陥やピット等が存在しないことが必要
とされている。このようなことから、上記のようなリチ
ウム電池のケースや太陽電池の基板にニッケルめっきを
施すことが提案されている。
ある。リチウム電池のケースは加工性に富むことが要求
され、深絞り加工を受けた際にクラックや肌荒れが生じ
ないことが必要であり、また接触抵抗が小さく光沢があ
って外観にも優れていることが要求されている。また、
太陽電池基板では表面の平滑性及び光沢性が優れており
、さらに微小な欠陥やピット等が存在しないことが必要
とされている。このようなことから、上記のようなリチ
ウム電池のケースや太陽電池の基板にニッケルめっきを
施すことが提案されている。
一方、ニッケルめっきの適用を考慮すると半光沢あるい
は光沢ニッケルめっきで析出したニッケルの結晶は、一
般に光沢剤を含まない無光沢浴から析出した結晶とは異
なり、微細で層状組織になっており、平滑性、かたさ、
伸び、内部応力のような物理的性質も異なっている。半
光沢又は光沢ニッケルめっきの結晶の微細化は光沢剤が
品物′(陰極)の表面に吸着されたり、光沢剤自身の還
元あるいはさらに分解、共析によるものと考えられてい
る。このような役割を担う光沢剤としては。
は光沢ニッケルめっきで析出したニッケルの結晶は、一
般に光沢剤を含まない無光沢浴から析出した結晶とは異
なり、微細で層状組織になっており、平滑性、かたさ、
伸び、内部応力のような物理的性質も異なっている。半
光沢又は光沢ニッケルめっきの結晶の微細化は光沢剤が
品物′(陰極)の表面に吸着されたり、光沢剤自身の還
元あるいはさらに分解、共析によるものと考えられてい
る。このような役割を担う光沢剤としては。
通常第1次及び第2次光沢剤が用いられ、それらの添加
量の違いにより半光沢ニッケルめっきあるいは光沢ニッ
ケルめっきと称される。第1次光沢剤としては、サッカ
リン、スルホンベンズアルデヒド、ナフタレンスルホネ
ート、アリールスルホネート、脂肪族及び芳香族脂肪酸
、スルホンアミド、スルホンイミドなどが使用される。
量の違いにより半光沢ニッケルめっきあるいは光沢ニッ
ケルめっきと称される。第1次光沢剤としては、サッカ
リン、スルホンベンズアルデヒド、ナフタレンスルホネ
ート、アリールスルホネート、脂肪族及び芳香族脂肪酸
、スルホンアミド、スルホンイミドなどが使用される。
また、第2次光沢剤としては、プロパギルアルコールや
1.4−ブチンジオールのようなアセチレンアルコール
やジオールと酸化エチレン及びエピクロルヒドリンとの
縮合生成物、ペテロ環式窒素を含む第4級塩特にサルフ
ェートなどが使用される。
1.4−ブチンジオールのようなアセチレンアルコール
やジオールと酸化エチレン及びエピクロルヒドリンとの
縮合生成物、ペテロ環式窒素を含む第4級塩特にサルフ
ェートなどが使用される。
ステンレス鋼上に半光沢ニッケルめっきあるいは光沢ニ
ッケルめっきを施す方法としては、一般的には公知の方
法でステンレス鋼の表面を脱脂。
ッケルめっきを施す方法としては、一般的には公知の方
法でステンレス鋼の表面を脱脂。
酸洗処理後ウッド浴を用いて活性化ストライクニッケル
めっき処理し、さらに前記第1次光沢剤及び第2次光沢
剤を適当量添加した半光沢ニッケルめっき浴あるいは光
沢ニッケルめっき浴を用いてめっきする方法がある。
めっき処理し、さらに前記第1次光沢剤及び第2次光沢
剤を適当量添加した半光沢ニッケルめっき浴あるいは光
沢ニッケルめっき浴を用いてめっきする方法がある。
以上のように、一般的なニッケルめっきの適用が考えら
れるが、実際には加工性に優れた再結晶組織を持つオー
ステナイト系ステンレス鋼上では。
れるが、実際には加工性に優れた再結晶組織を持つオー
ステナイト系ステンレス鋼上では。
光沢良好なニッケルめっき皮膜を得ることはできず、し
たがって上記の方法で高価なニッケルを厚くめっきした
後に、ニッケル面を研摩して光沢面を得るというような
方法が行われている。
たがって上記の方法で高価なニッケルを厚くめっきした
後に、ニッケル面を研摩して光沢面を得るというような
方法が行われている。
(構 成)
本発明は、かかる現状に鑑み鋭意研究を行った結果、1
μ程度の薄めつきでも光沢が良好でかつ加工性にも富む
ニッケルめっき皮膜を得る方法を見出したものである。
μ程度の薄めつきでも光沢が良好でかつ加工性にも富む
ニッケルめっき皮膜を得る方法を見出したものである。
すなわち2本発明は、再結晶組織を持つオーステティ1
〜系ステンレス鋼にスキンパス加工を加えた後、半光沢
ニッケルめっきあるいは光沢ニッケルめっきを施すこと
を特徴とするニッケルめっき材の製造方法に関するもの
である。さらにはスキンパス加工を加える圧延ロールと
して超硬ロールを使用し、さらに好ましくは無潤滑圧延
で30m/min以下の低速においてスキンパス加工を
加えた後に半光沢ニッケルめっきあるいは光沢ニッケル
めっきを施すことを特徴とするニッケルめっき材の製造
方法に関するものである。スキンパス加工は、最終焼鈍
後の工程において圧延率0.1%〜10%で圧延するこ
とによって行う。なお。
〜系ステンレス鋼にスキンパス加工を加えた後、半光沢
ニッケルめっきあるいは光沢ニッケルめっきを施すこと
を特徴とするニッケルめっき材の製造方法に関するもの
である。さらにはスキンパス加工を加える圧延ロールと
して超硬ロールを使用し、さらに好ましくは無潤滑圧延
で30m/min以下の低速においてスキンパス加工を
加えた後に半光沢ニッケルめっきあるいは光沢ニッケル
めっきを施すことを特徴とするニッケルめっき材の製造
方法に関するものである。スキンパス加工は、最終焼鈍
後の工程において圧延率0.1%〜10%で圧延するこ
とによって行う。なお。
再結晶組織とは再結晶温度以上にステンレス鋼を加熱し
て得られる組織であり、結晶粒子の大きさによらず適用
できる。また、オーステティ1−系ステンレスとは常温
で安定なオーステナイト組織を有するステンレス鋼であ
り、Fe、C,Ni、Cr。
て得られる組織であり、結晶粒子の大きさによらず適用
できる。また、オーステティ1−系ステンレスとは常温
で安定なオーステナイト組織を有するステンレス鋼であ
り、Fe、C,Ni、Cr。
Mn、Ni等を適当量含み、かつその他特性に応じてP
e S、Se、Ti、Nb、Ta、Mo、Cuを適宜
加えられたステンレスを含むものである。
e S、Se、Ti、Nb、Ta、Mo、Cuを適宜
加えられたステンレスを含むものである。
以下、実施例に基づき本発明を説明する。
(実施例)
G、810.0(7)再結晶組織を持っ5Us304゜
0.2mの素条にタングステンカーバイドの超硬ロール
(ロール表面粗さRmax=0.12μ)を使用して無
潤滑圧延、30m/minの低速圧延によりスキンパス
加工を実施した後2通常の前処理により脱脂、酸洗処理
後、ウッド浴によりストライクニッケルめっきを施し、
その後、下記に示すめっき条件で半光沢ニッケルめっき
及び光沢ニッケルめっきを1μ施した。また、比較とし
てスキンパス加工を加えない5US304にも同様に半
光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケルめっきを1μ施し
た。さらに圧延率10%を超える条件で圧延加工を施し
た5US304に半光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケ
ルめっきを1μ施し、深絞り性を調べた。
0.2mの素条にタングステンカーバイドの超硬ロール
(ロール表面粗さRmax=0.12μ)を使用して無
潤滑圧延、30m/minの低速圧延によりスキンパス
加工を実施した後2通常の前処理により脱脂、酸洗処理
後、ウッド浴によりストライクニッケルめっきを施し、
その後、下記に示すめっき条件で半光沢ニッケルめっき
及び光沢ニッケルめっきを1μ施した。また、比較とし
てスキンパス加工を加えない5US304にも同様に半
光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケルめっきを1μ施し
た。さらに圧延率10%を超える条件で圧延加工を施し
た5US304に半光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケ
ルめっきを1μ施し、深絞り性を調べた。
めっき条件は以下に示す通りである。
ストライクニッケルめっき条件
塩化ニッケル 240g/ Q
塩 酸 100m Q / Q電
流密度 3〜5A/dイ 浴 温 30℃ 半光沢ニッケルめっき条件 硫酸ニッケル 280g/ Q 塩化ニッケル 50g/ρ は う 酸 45g/ Qナイカ
ルPC−330g/ Q (ジャパンロナール製) 浴 温 50〜60°C電流密度
2〜8A/dイ 光沢ニッケルめっき条件 硫酸ニッケル 280g/ Q 塩化ニッケル 50g/ Q は う 酸 45g/ QYニッ
ケルRH−11m Q / Q (日鉱メタルブレーティング製) ■ニッケルRH−210m Q / Q(日鉱メタルブ
レーティング製) 浴 温 50〜60℃電流密度
2〜8A/dm これらの結果を第1表に示す。
流密度 3〜5A/dイ 浴 温 30℃ 半光沢ニッケルめっき条件 硫酸ニッケル 280g/ Q 塩化ニッケル 50g/ρ は う 酸 45g/ Qナイカ
ルPC−330g/ Q (ジャパンロナール製) 浴 温 50〜60°C電流密度
2〜8A/dイ 光沢ニッケルめっき条件 硫酸ニッケル 280g/ Q 塩化ニッケル 50g/ Q は う 酸 45g/ QYニッ
ケルRH−11m Q / Q (日鉱メタルブレーティング製) ■ニッケルRH−210m Q / Q(日鉱メタルブ
レーティング製) 浴 温 50〜60℃電流密度
2〜8A/dm これらの結果を第1表に示す。
光沢性については、30°正反射率を測定した。
また、深絞り性については、絞り比2.00で絞った後
の材料の深絞り部の割れ及び肌荒れの有無をl1lN察
した。
の材料の深絞り部の割れ及び肌荒れの有無をl1lN察
した。
第1表から明らかなように2本発明のスキンパス加工を
施したものは半光沢ニッケルめっき、光沢ニッケルめっ
きの正反射率はスキンパス加工を施さないものに比べて
著しく高くなっており、光沢性に優れている。
施したものは半光沢ニッケルめっき、光沢ニッケルめっ
きの正反射率はスキンパス加工を施さないものに比べて
著しく高くなっており、光沢性に優れている。
なお、スキンパス加工を超える条件すなわち圧延率が1
5あるいは20では深絞り性が悪くなるので好ましくな
い。
5あるいは20では深絞り性が悪くなるので好ましくな
い。
(効 果)
本発明は2以上のように光沢性に著しく優れ。
また深絞りの際にも割れや肌荒れがなく、優れたニッケ
ルめっき材が得られる。
ルめっき材が得られる。
第1表 30°正反射率及び深絞り性試験結果(注)○
・・・・・・良好 X・・・・・肌荒れあるいは割れが認められる。
・・・・・・良好 X・・・・・肌荒れあるいは割れが認められる。
Claims (3)
- (1)再結晶組織を持つオーステナイト系ステンレス鋼
にスキンパス加工を加えた後、半光沢ニッケルめっきあ
るいは光沢ニッケルめっきを施すことを特徴とするニッ
ケルめっき材の製造方法。 - (2)超硬ロールを用いた圧延によってスキンパス加工
を加える特許請求の範囲第(1)項記載のニッケルめっ
き材の製造方法。 - (3)無潤滑圧延により30m/min以下の低速でス
キンパス加工を加える特許請求の範囲第(1)項又は第
(2)項記載のニッケルめっき材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24717285A JPS62107094A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | ニツケルめつき材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24717285A JPS62107094A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | ニツケルめつき材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62107094A true JPS62107094A (ja) | 1987-05-18 |
Family
ID=17159509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24717285A Pending JPS62107094A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | ニツケルめつき材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62107094A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0387785A2 (en) * | 1989-03-14 | 1990-09-19 | Nippon Steel Corporation | Process for producing cold-rolled strips and sheets of austenitic stainless steel |
JPH03287795A (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-18 | Katayama Tokushu Kogyo Kk | 深絞り電池ケース用の光沢Niメッキ鋼帯およびその製造方法 |
JP2010037804A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Ykk Ap株式会社 | 建具 |
WO2011122235A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 光沢ニッケルめっき材、光沢ニッケルめっき材を用いた電子部品、及び、光沢ニッケルめっき材の製造方法 |
-
1985
- 1985-11-06 JP JP24717285A patent/JPS62107094A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0387785A2 (en) * | 1989-03-14 | 1990-09-19 | Nippon Steel Corporation | Process for producing cold-rolled strips and sheets of austenitic stainless steel |
JPH03287795A (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-18 | Katayama Tokushu Kogyo Kk | 深絞り電池ケース用の光沢Niメッキ鋼帯およびその製造方法 |
JP2010037804A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Ykk Ap株式会社 | 建具 |
WO2011122235A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 光沢ニッケルめっき材、光沢ニッケルめっき材を用いた電子部品、及び、光沢ニッケルめっき材の製造方法 |
JP2011214066A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 光沢ニッケルめっき材、光沢ニッケルめっき材を用いた電子部品、及び、光沢ニッケルめっき材の製造方法 |
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