JPS62106987A - 炭化水素からの硫黄除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はＨ２Ｓ、、ＣＯ２、ＣＯＳ及び、存在する場合
には、メルカプタンなどの酸性ガスを含む液状及びガス
状炭化水素からこれらの酸性ガスを除去する方法に関す
る。

従来の技術及びその問題点 天然ガスおよび液体（液化）炭化水素は、二酸化炭素の
如き酸性ガスおよび硫化カルボニル（ＣＯＳ）、硫化水
素（Ｈ２Ｓ）、メルカプタンおよびこれらの類似物の如
き１種または２種以上の硫黄含有成分を含有しているこ
とが知られており、これらの多くのものは、これらのガ
スが製品および環境での種々の要素に有害な影響を及ぼ
すために、重合、燃焼および類似の如き多くの用途に適
した炭化水素を作るために除去しな（ではならない。な
お、本願明細書及び特許請求の範囲で使用する「液体（
又は液化）」なる用語は通常液化石油ガス（ＬＰＧ）と
呼ばれている液化石油製品をも包含するものである。

硫化カルボニル（ＣＯ５−）は天然ガス中に少量、即ち
５０〜５００ｐｐｍで含有され、液体（液化）炭化水素
流中に１〜ＬＯＯｐｐｍ　（ｐｐｍ　＝　１００万分の
１部）範囲の濃度で含有されている。処理された生成物
中のスペックレベル（ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ　　
１ｅｖｅｌ）は天然ガスおよび多くの液体流にとって１
　ｐｐｍの範囲またはそれ以下である。このような水準
にまでＣＯＳを除去するために有用ないくつかの方法が
ある。

しかしながら、液体（液化）炭化水素製品にとってのい
くつかのスペックは５０〜１０００ｐｐｂ　　（ＰＰｂ
＝１０億分の１部）範囲である。例えばポリエチレンお
よびポリプロピレン用のエチレンおよびプロピレンは、
夫々一般に５ｏｐｐｂまたはそれ以下の限界値を有する
。このような低い水準、例えばｐｌ）ｂにまでＣＯＳを
除去する商業的に実施できる技術は知られていない。硫
化カルボニル（ＣＯＳ）の除去は苛性溶液中では非常に
僅かである。１０〜１５％より多くない除去は、従来設
計された接触器中で従来の苛性溶液を使用して期待でき
る。

勿論、ＣＯＳをその成分ｃｏ２及びＨ２Ｓに加水分解す
ることを助ける物理的溶剤および／または共溶剤を使用
するいくつかの方法があるが、これらの方法の大部分は
、溶剤および／または共溶剤が液体炭化水素中に過剰の
メークアップ（補給）を必要とする種々の度合で溶解す
るので高いメータアンプ比を有しており、かくして商業
的方法においては経済的でない。

更に、ＣＯＳをｐｐｍレベルにまで除去するための物質
の多くは、不純物があって非常に安い価格の値打ちのも
のであるかまたは環境上の観点から好ましくない製品を
形成する。

メルカプタン（ＲＳ　Ｈ）はいくつかの天然ガスに含ま
れている一方、本質的に全てのりファイナリー液体く液
化）炭化水素流はメルカプタンを含有している。リファ
イナリー用およびこれらの製品を使用する重合反応のた
めのスペックは、一般に１〜２０ｐｐｍ範囲にあるメル
カプタンレベルを必要とする。

メルカプタンを除去するための公知の技術は、ある種の
溶解剤を含有する苛性水溶液と１〜３段階で接触させる
ことから成る。分離ユニットがこれらの操作のために必
要である。このような方法の１つの例は、メルカプタン
類がそれらのジスルフィド類に変えられる分離ユニット
を必要とするメロックス法（Ｍｅｒｏｘ　　Ｐｒｏｃｅ
ｓｓ）である。メロックス溶液は、Ｒ３ＨのＲ３５Ｒへ
の経済的転化に必要である適性触媒を含有する苛性溶液
である。

実施される技術は、Ｒ３Ｈ除去は苛性単独中では特に高
分子量メルカプタン、例えばブチルおよびより高いアル
キルメルカプタンに関しては僅かであるので、配合、即
ち触媒又は少量の共溶媒を配合してＲ５Ｈの溶解度を改
良するか及び／又は苛性溶液中での反応速度を増大せし
める。

硫黄またはメルカプタン除去のために考慮されたいくつ
かのアミンについて以下述べる。

リファイナリーにおいてモノエタノールアミン（ＭＥＡ
）を使用する有利性および不利性は次の通りである。

有利性 ■、これは、製品中のＨ２ＳおよびＣ０２が最低レベル
であるものを製造する能力を有しているが、テールガス
硫黄製造プロセスに必要である選択性は低いか無い。

２、これは、特に熱分解または熱安定性塩の形成の場合
に再生できるが、これらの再生操作（ＣＯＳとＭＥＡの
不可逆反応によって必要である）の結果しばしばＭＥＡ
使用割合は高（なり、同様にＭＥＡの製品中の溶解性の
ためにＭＥＡは製品に失われる。

３、これはＣＯＳを加水分解することができ、かくして
製品はかなり低いＣＯＳスペックを満足する。

不利性 １、これは、Ｈ２ＳとＣＯ２との高い反応熱を有する。

２、これは選択性に欠け、これが優先する応用において
は、エネルギー必要量はさらに増大する。

３、これは、多くの他のアミンよりも液体炭化水素流へ
の溶解度が高い。

４．１６食潜在力は溶解強度を約１５重量％に制限する
。

５、除去されたＣＯＳの一部はＭＥＡと不可逆的に反応
してＭＥＡを損失する。

ジェタノールアミン（ＤＥＡ）がＭＥＡの置き換えとし
て考慮される時、その有利性および不利性には次のもの
が含まれる。

有利性 １、これは、より低い反応熱を有する。

２、これはＣＯ２よりもＨ２Ｓに対して僅かに選択性を
有する。

３、これは、液体炭化水素中に僅かに少く溶解する。

４、これは、ある場合には受は入れられるレベルでＣＯ
Ｓを除去できる。

不利性 １、これは、テールガス処理に対して不十分な選択性を
有する。

２、再生は通常の直進（ｓｔｒａｉｇｈｔ−ｆｏｒｗａ
ｒｄ）プロセスではない。

３、これは、吸収剤の損失をもたらすＣＯ２との不可逆
生成物を形成する。

４、これは、ＭＥＡのように低い処理ガススペックをも
たらさない。

ＭＥＡおよび／またはＤＥＡの置き換えとしてメチルジ
ェタノールアミンを選択するりファイナリーは、不利性
に優さる次の有利性に基いている。

有利性 １、これはＭＥＡまたはＤＥＡのいずれよりもなお低い
反応熱を有する。　　。

２、これは、テールガス処理及びＣ０２とＨ２Ｓを含有
する他のガス流のために要求される必要なＣＯ２に対す
るＨ２Ｓ選択性を有している。

３、これは液体炭化水素に僅かに少く溶解する。

４、これは化学的分解により抵抗性がある。

５、これは腐食性ではない。

６．５０％までの溶解強度が添加酸性ガス除去容量のた
めに使用できる。

不利性 １、これは、ＭＥＡまたはＤＥＡのように低い処理ガス
スペックをもたらさない。

２．これは、そのＣＯＳ除去能力について知らされてい
ない。

３、再生は可能であるが、ＤＥＡのように複雑ではない
がＭＥＡよりもいくらか難しい。

４、溶剤コストはより高い。

多くの後のプロセスに有用である炭化水素製品を製造す
る、前述のレベルにまで前記酸性ガスの全てを除去する
ために設計されたプラントを持つことは有利であろう。

このように設計された酸性ガス処理プラント〔液体（液
化）およびガスは、用語“ガス処理プラント”中にトレ
ード（ｔｒａｄｅ　）によって示される〕は、操作の様
式と重合、燃焼および類似のもののための商業的に可溶
な製品を作るために使用される装置から共に存在するプ
ロセス中に集積する一連の単位操作からなると記述され
る。

本発明の詳細な説明 添付する第１図において、軽質炭化水素酸性ガス除去プ
ロセスのフローダイアグラムが、本発明に従って示され
ており、そこでは、酸性ガス含量は約１００ｐｐｂ以下
にまで減少できる。

本明細書において、全てのパーセント（％）は、特にこ
とわらない限り重量基準である。また、一般的に使用さ
れる略語は次の意味である。

ＭＥＡ＝モノエタノールアミン ＤＥＡ−ジェタノールアミン ＭＤＥＡ＝メチルジェタノールアミン ＤＩＰＡ＝ジイソプロパノールアミン 本発明によって、Ｈ２５ＳＣＯ２、ＣＯＳ，メルカプタ
ン（メチル、エチル、プロピル、ブチルおよび更にそれ
以上のアルキル部分）の如き酸性ガスを含有する、天然
または合成ガス流または例えばりファイナリー脱ブタン
塔からのＣ３／Ｃ４流の如き液体（液化）炭化水素流を
、次の操作によってこれらの好ましくない成分がないよ
うにすることができる。

■）ガスまたは液体流を選択的Ｈ２Ｓ吸収剤、例えばＭ
ＤＥＡ、および高活性ＣＯＳ吸収剤／加水分解剤、例え
ばＤ’ＩＰＡを含有する配合水性吸収剤で処理：そこで
は、Ｈ２Ｓは選択的に吸収され、ＣＯＳはＨ２Ｓおよび
ＣＯ２に加水分解され、生成物は望ましい選択的範囲内
で選択的Ｈ２Ｓ吸収剤に吸収される。配合吸収剤は再生
（ストリップ）され吸収塔に還えされる。ＣＯＳ吸収剤
／加水分解剤のあるメークアップは、これらのクラスの
化合物の液体炭化水素中への溶解度のために、液体（液
化）炭化水素が処理される時は必要である。

か＜シテ、本発明は、Ｈ２８％　ＣＯ２、ＣＯＳおよび
、存在する場合には、メルカプタンを包含する酸性ガス
を含む液体およびガス状炭化水素流を、該酸性ガスの実
質的部分を除去するために処理することに関し、Ｈ２Ｓ
１ＣＯ２、ＣＯＳおよび、存在する場合には、メルカプ
タンを含む該炭化水素流を、ＣＯ２よりもＨ２Ｓに対し
て選択的吸収剤であり、溶液が有機液体ＣＯＳ吸収剤／
加水分解剤をも含むアルカノールアミンと接触させるこ
とから成る。

このように処理されたガス流または液体炭化水素は、選
択的アミンが単独で使用された時の１０〜３０％に比べ
て、３０〜８０％のＣＯＳが除去されることがわかる。

さらに、プロセスのこの段階で選択的Ｈ２Ｓ吸収剤を使
用することによって、該吸収剤によって捕えられたＨ２
Ｓ対ｃｏ２比を、最も商業的な硫黄回収プロセス例えば
クラウスユニット（Ｃ１ａｕｓＵｎｉｔ）の経済的操作
に通した再生ガス生成物を提供するように調節すること
ができる。さらに、ＣＯＳは部分的にＨ２ＳおよびＣ０
２に変換されるので他の酸性ガスを除去するための後の
処理は、より少ない不純物の魔法を生成することができ
、その多くは有用な製品に後処理でき、処理溶液をさら
に経済的な操作に提供するよう再生することができる。

実質的に、いかなる第２級および／または第３級アルカ
ノールアミンもこの段階で使用することができ、それぞ
れは、吸収剤操作、供給流條件および有用できるバッテ
リーユーティリティーズの運転パラメーターの下で顕著
な有利性を有する。

例示的検討では、再生オフガスがリファイナリーにおい
て現存するタラウスユニット運転パラメータに適合する
Ｈ２　Ｓ対ＣＯ２比を有しているなら、供給流における
Ｈ２　ＳとＣ０２との比に基いたＭＤＥＡが使用される
。異なった規模における同様のプロセスと同様に、他の
硫黄転化プロセスでは、選択的吸収剤の選択を定めるＨ
２Ｓ対ＣＯ２の他の比が必要である。種々の吸収剤、特
にアミン類、さらに特に第２級および第３級アルカノー
ルアミン類の選択性については文献に十分記載されてお
り、存在する装置を最も効果的に使用するために余分の
実験をしないで見出すことができる。

さらに、有機液体ＣＯＳ溶剤（吸収剤）を含有するよう
配合された選択的Ｈ２Ｓｌｌ収剤を使用することによっ
て、はとんどの選択的Ｈ２Ｓ吸収剤は液体（液化）炭化
水素流に僅かしか溶けず、ＣＯＳ吸収剤／加水分解剤の
より少量はその損失を減少させ得るので、両溶剤吸収剤
の損失は減少する。

２）得られる製品ガスまたは液体−（液化）流を配合さ
れたアルカリ　（苛性）水溶液で処理：そこでは、接触
時間は残留するＣＯＳの５０〜８０％を除去するが大部
分のメルカプタンは“スリップする（ｓｌｉｐ）　　″
ようなものである。苛性の濃度は通常５〜５０重量％の
範囲内であり、アルカノールアミン、好ましくは第１級
アルカノールアミンは、約０．５〜２０重量％である。

単段接触器を使用することが有利であるとわかった。こ
こでＮａ２ＳおよびＮａ２ＣＯ：＋に変えられるＣＯＳ
は元素硫黄およびＣＯ２を生成するために使用すること
ができ、またはそれ自体いくつかの工業的プロセス、例
えば紙製造に使用することができる。

３）次いでガスまたは液体流を、いくつかの段階、好ま
しくは最低６段階の“構造化”　（ｓｔｒｕ−ｃｔｕｒ
ｅｄ）充填域中で、５〜５０重量％、好ましくは１０〜
２５重量％の未配合アルカリ水溶液（ＮａＯＨ）と接触
。ここで、残留するＣＯＳの付加的７０〜９０％以上と
同様に、本質的にすべてのメルカプタンが除去される。

この処理からの魔法は公知の方法で再生できる。

４）これらの処理に続いて、該流は、若し液体であれば
、残留アルカリを除去するために水で洗浄し、再び若し
液体流が例えば脱ブタン塔からのものであればその成分
、例えばＣ３とＣ４およびＣ３またはガスに分離し、若
し天然または合成源であれば、実質的にＣＯ５が無くな
るように“ポリッシュ”され、ＣＯＳは勿論、構造化多
段接触器内で最終の配合されたアルカリ／アルカノール
アミン水溶液と接触させることによって、低沸点成分（
Ｃ３）と共に進むかまたはガス流中に残留する。

生成物は、最終的にアルカリまたはアルカノールの如何
なる痕跡も除去するために洗浄され、有機および無機の
酸性ガスを含む硫黄は実質的に無く、ＣＯＳは１０００
ｐｐｂより少ない範囲、一般に約１００ｐｐｂより少な
い範囲であることがわかった。

勿論、より多くの硫黄除去が必要であるか、またはより
少ない硫黄除去が受容できるかによって、夫々、より大
きなまたは減少した接触時間、循環速度および／または
強さによってパスするか含ませることによって、上記工
程のいずれかは省略することができる。

本発明において使用される配合溶液は、２つの一般的範
囲がある。

ａ）ＭＥＤＡの如き選択的Ｈ２Ｓ吸収剤、およびＤ　ｒ
　ＰＡの如き選択的Ｈ２Ｓ吸収σ條件下でのＣＯＳ吸収
剤／加水分解剤、および、ｂ）種々の量の少なくとも１
種のアルカノールアミンを含有する水酸化アルカリ金属
。

更に、配合アルカリ／アルカノールアミン処理工程にお
いてＧｏｏｄｌｏｅ　Ｑ組充填物（Ｇｏｏｄｌｏｅ　ｋ
ｎｉ−ｔｔｅｄ　ｐａｃｋｉｎｇ）の如き高い表面積対
容積比を有する“構造化”充裟物を使用することが有利
である。

各成分の除去パーセントは、処理溶液の強さ、接触時間
に関係し、負荷は循環速度に依存する。

第１工程処理、すなわち組合された第１Ｈ２Ｓ除去工程
とＣＯＳ最初の加水分解工程は、ガスまたは液体（液化
）炭化水素を配合Ｈ２Ｓ／ＣＯＳ吸収／加水分解溶液と
５０〜１２０秒接触させるよう設計された多段接触器ま
たは吸収器内で通常行なねれる。このような接触時間は
、ＣＯＳ除去を増大させ、Ｈ２Ｓ対ｃｏ２の選択的除去
を最大にし、液体炭化水素中へのＣＯＳ加水分解剤の溶
解度を最小にし、さらに、選択的Ｈ２Ｓ吸収剤１モル当
り約０．２モルＨ２ＳのＨ２Ｓ負荷を許容する。

、選択的吸収／ＣＯＳ加水分解接触の温度は、４０〜９
０℃の範囲内である。

アルカリ処理の温度は、配合および未配合共に４０〜７
０℃の範囲である。

種々の配合の成分の濃度は、次のとおりである。

ｆａ）　　５〜６０重量％の配合Ｈ２Ｓ／ＣＯＳ加水分
解溶液が運転可能であるが、好ましくは、これらの溶液
は２０〜５０重量％のＨ２Ｓ吸収剤と通常０．５〜１５
重量％、好ましくは１〜１０重量％のＣＯＳ吸収剤加水
分解剤を含む。

（ｂｌ　　配合アルカリ／アルカノールアミン溶液は、
通常５〜５０％、好ましくは５〜２５％の水酸化アルカ
リ金属と、通常０．５〜２０％、好ましくは２〜１５％
の第１級アルカノールアミンを含む。

（Ｃ１未配合アルカリスクラッパーは、通常５〜５０重
量％、好ましくは１０〜２５重量％の水酸化アルカリ金
属溶液を含む。

Ｈ２Ｓ吸収剤／ＣＯＳ加水分解剤溶液の負荷は、一般に
、吸収剤１モル当り約０．２５モルＨ２Ｓより低く、好
ましくは約０．２モルに維持される。

本発明に従って運転可能である選択的Ｈ２Ｓ吸収剤の範
囲は公知技術と同様に広いが、エネルギー節約のために
、総熱所要量は２０％濃度で例えばＭＥＡの約半分であ
るので、選択的吸収剤、ＭＤＥＡまたはジエチルエタノ
ールアミンの如き第３級アミンが好ましい。他の選択的
アルカノールアミン吸収剤は熱所要量に関してよく文献
に記載されており、各装置設計に基づいて選定すること
ができ、本発明のバッテリー外の熱源および冷源を有用
にし捕集を選択的にできる。

リファイナリーの軽質炭化水素プロセスプラントの一部
の構成図である図面第１図に関する代表的例において、
天然または合成ガス流または液体または液化石油系炭化
水素流１を、酸性ガスを除去するためにアルカノールア
ミンを使用するための通常の設計の多段吸収器Ａに装入
した。代表的例において、最初の吸収剤はモノエタノー
ルアミン（Ｍ’ＥＡ）であった。本発明に従った吸収剤
流２は先に使用したＭＥＡ吸収剤と置換した貧（１ｅａ
ｎ）配合選択的Ｈ２Ｓアルカノールアミン吸収剤〔ジイ
ソプロパノールアミン（ＤＩＰＡ）を含有するメチルジ
ェタノールアミン（’ＭＤＥＡ））であった。富（ｒｉ
ｃｈ）吸収剤４を吸収器の底から取出し、これは吸収液
、吸収剤に包含されたＨ２ＳおよびＣ０２を含んでいた
。ＣＯＳの大部分はＨ２ＳおよびＣ０２に加水分解され
、Ｈ２ＳおよびＣＯ２は勿論それらの選択比で吸収剤に
捕集された。冨吸収剤４をストリッパーＢ中で再生し、
得られた熱貧吸収剤を十字交換器により冷富流４で冷却
し、貧流２を吸収器Ａに返した。ストリッパーからのオ
フガスである流５には、Ｈ２ＳおよびＣ０２が、例えば
クラウス硫黄装置での硫黄回収に通した比率で含有され
ていた。吸収器を出る炭化水素流である流３には非常に
僅かのＨ２Ｓ、“スリップしたＣＯ２、メルカプクンが
含まれており、まだ、装入された炭化水素流１にあった
ＣＯＳの７０〜２０％のＣＯＳが含まれていた。

処理した炭化水素を、単段接触器Ｃに送り、そこでモノ
エタノールアミン（ＭＥＡ）を含有する水性水酸化ナト
リウムの配合苛性水溶液流６と接触させる。流速は、残
留するＣＯＳの５０〜８０％以上およびＣＯ２（ＣＯＳ
＋Ｎａ０Ｈ−ＮａＳ＋Ｎａ２Ｃ０３）の大部分を捕集し
、大部分のメルカプタンをスリップするように調節する
。炭化水素流８には、ここでＨ２ＳおよびＣ０２の痕跡
（ｐｐｍ）のみと、大部分のメルカプタンとわずかの残
留ＣＯＳとが含まれている。

この流、部ち流８を塔り内の構造化充填材、例えばＧｏ
ｏｄ　ｌｏｅの編組メソシュ上で苛性水溶液と接触させ
た。ここで、該流が苛性溶液と密接に多段接触すること
によって、メルカプタンはその塩に変り、苛性水処理溶
液と共に下方に通過し、一方炭化水素は上方に通過し処
理器から出る。

塔りからの炭化水素ガスオーバーヘッド１１は塔Ｅ内で
水１２で洗浄する。婦洗浄水１４には苛性とＭＥＡの痕
跡が含まれている。処理済の炭化水素ガス１３には、実
質的に全ての酸性ガスがなくて１００ｐｐｂよりも少く
、どの処理溶液の残留物もない。

塔りの後のこの点で、大分の硫黄含有化合物（酸性ガス
）は除去されており、多くの場合に、こちらのガスの残
留物は僅かであり、炭化水素は下流のプロセスに直接使
用することができる。しかしながら、もっと低いレベル
の酸性ガス含量が必要であるときは、炭化水素流を、構
造化充填物を充填した接触器で配合苛性水溶液で後処理
することによって、酸性ガス、特にｃｏｓ＠ｐｐ　ｂま
で除去するためにポリッシュし得る。例えば、リファイ
ナリーの液体炭化水素部分においては、混合炭化水素の
処理流を分溜することは普通のことであり、著しこのよ
うに設計されていれば、ＣＯＳおよび大部分の他の酸性
ガスが炭化水素の軽溜分と一緒に行くことは明らかであ
る。このような処理は、軽末端（ｌｉｇｈｔ　ｅｎｄ　
）における酸性ガスの濃度を増加させ、脱ブタン塔流ま
たはＣ３と０４との混合物を処理するりファイナリーの
場合に、ＣＯＳの濃度は０３オーバーヘツドの約２倍に
なり、若しこの流が重合反応に使用されるならば、ＣＯ
Ｓを５０ｐｐｂより少くなるまで除去するために、再び
処理しなくてはならない。ここで述べたような工程によ
って、炭化水素流中のＣＯＳおよび全硫黄は５０ｐｐｂ
より少くなるまで減少させることができる。

次の第１表は上述のように第１図における各段階で存在
する化合物を示す。

以下余白 〔第■表脚注〕 １＝モノエタノールアミン ２＝メチルジエタノールアミン ３＝ジイソプロパノールアミン ４＝痕跡量 ５＝ＣＯ５人量の１／２〜１／８が流３中にある。

６　＝　１００ｐｐｂより少ない各ａおよびｇが１１お
よび１３中にあった。

７＝アミンのＨ２ＳまたはＣＯ２塩が形成され□　る。

８＝Ｒ５Ｎａが形成。

第■表の次のデータは１つのりファイナリーの軽炭化水
素プロセス流からの酸性ガス除去における重要な改良を
示している。

Ｈ２Ｓ、ＣＯＳおよびメルカプタン（ＣＩ−４＋）を含
有する主としてＣ３お孝びＣ４液化石油ガスから成るリ
ファイナリー脱ブタン塔生成物が使用された。プラント
のこの部分は、本発明に従ってＭＥＡ、次にＭＤＥＡそ
して最後に配合アルカリと共に配合ＭＤＥＡを使用して
運転した。次の第■表では、本発明の種々の配合溶液を
使用した結果が、ＭＥＡで出発し、ＭＥＡをＭＤＥＡに
変え、次いで配合ＭＤＥＡ溶液に変えた元の溶液に比較
して証明されている：実施例Ａは、より高い濃度のＭＤ
ＥＡと２％のＤＩＰＡを使用した実施例３に基く経験か
ら計画されている。

以下余白 第■表 実験番号　　　　１　２　３　４ ｒｄブＰＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　ＭＥＡ　　　　　　　　ＭＤＥ
Ａ　　　　　　　ＭＤＥＡ’　　　　　　　ＭＤＥＡ’
献、重量％　　　　　１５　　２０　　２０　　５０循
環速度ｇ　ｐ　ｍ５１１７９　　　１１７９　　　１１
７９　　　４６２Ｘ−Ｅｘｃ　ｈ、　”ａＪｒ　Ｆ　　
　３０　　３０　　３０　　３０還流Ｈ２０／酸性ガス
　　　　　　１．２　　　１．２　　　１．２　　　１
．２反応熱、計算値ＭＭＢＴＵＨ８７４１９４３０４４
３０４４３０４還流：潜熱ＭＭＢＴＵＨ６２１８５５６
１５５６１５５６１きＭＭＢＴＵＨ１７２９２１６９８
９１６９８９６５１６リボイラ一負荷ＭＭＢＴＵＨ３０
９２９５１２０４２６Ｂ５４　　１６３ＢＩＣＯＳ接触
器前（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　　３　　　　３　
　　　３喘因＆（ｐｐｍ）　　　　　　２　　１　　１
苛性スクラバー後（ｐｐｍ＞　　　　　　　２２０．０
５−０．１３０．０５−０．１３１、約２％ＤＩＰＡで
配合 ２．１５％ＮａＯＨ ３，１５％配合ＮａＯＨ ４、Ｘ−Ｅｘｃｈは熱交換器 ５、ガロン／分 ６、ＭＭＢＴＵＨは１００万ＢＴＵ／Ｖｆを意味する。

他の実施例において、Ｈ２Ｓ　３．５容量％、ＣＯＳ５
００ｐｐｍ、メチルおよびエチルメルカプタンを夫々２
５００ｐｐｍを含有する合成ガス流を、５０℃および５
０ｐｓｉｇで容積当り高い表面積の構造化充填材（Ｇｏ
ｏｄ　ｆｏｅユニットバッキング）を通して、Ｒ８Ｈ（
メルカプタン）およびＨ２Ｓの存在下に１０％水酸化ナ
トリウム９０％水の溶液によるＣＯＳ除去におけるガス
に対する液体比（Ｌ／Ｇ）および温度の効果を得るため
に、種々のＬ／Ｇおよび温度で供給した。結果を、単段
接触器の結果と同様に下記第■表に記載する。第■表は
、本発明の好ましい実施態様におけるような単位操作を
含むことの利益を示している。

以下余白

【図面の簡単な説明】

第１図は、リファイナリーの軽炭化水素プロセスプラン
トの一部のフローチャートである。 １は酸性ガスを含む炭化水素流、２は貧吸収剤流、３は
炭化水素流、４は富吸収剤流、５はオフガス流、６は配
合苛性水溶流、８は炭化水素流、９は苛性水溶液、１１
は炭化水素ガスオーバーヘッド、１２は水、１３は処理
剤炭素水素ガス、Ａは多段吸収器、Ｂはストリッパー、
Ｃは単段接触器、Ｄは充壜材塔、Ｅは洗浄塔である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ｈ＿２Ｓ、ＣＯ＿２、ＣＯＳおよび、存在する場合
   には、メルカプタンを含む酸性ガスを含有する液状およ
   びガス状炭化水素流を処理して該酸性ガスの実質的部分
   を除去するにあたり、Ｈ＿２Ｓ、ＣＯ＿２、ＣＯＳおよ
   び、存在する場合には、メルカプタンを含有する炭化水
   素流を、ＣＯ＿２に対してＨ＿２Ｓの選択的吸収剤であ
   る水性アルカノールアミンと有機液体ＣＯＳ吸収剤／加
   水分解剤を含有する溶液と接触させてＣＯＳをＨ＿２Ｓ
   及びＣＯ＿２に転化せしめ、この転化物をＨ＿２Ｓ吸収
   剤によってその選択範囲で吸収することを特徴とする方
   法。 ２、アルカノールアミンがメチルジエタノールアミンで
   あり、ＣＯＳ吸収剤がジイソプロパノールアミンである
   特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３、組成物の全重量を基準にして、アルカノールアミン
   が５〜６０重量％で使用され、ＣＯＳ吸収剤／加水分解
   剤が０．５〜１５重量％で使用され、残りが水である特
   許請求の範囲第１または２項に記載の方法。 ４、Ｈ＿２Ｓ吸収剤濃度が２０〜５０重量％であり、Ｃ
   Ｏ＿２吸収剤／加水分解剤濃度が１〜１０重量％である
   特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５、処理された炭化水素流を多段接触器で５０〜１２０
   秒間接触させる追加の工程を更に含む特許請求の範囲第
   １、２、３又は４項記載の方法。 ６、接触を４０〜９０℃で実施する特許請求の範囲第５
   項記載の方法。 ７、得られた炭化水素流を、第１級アルカノールアミン
   を含有する苛性水溶液と接触させることにより、処理す
   る追加の工程を含む特許請求の範囲第１項又は第５項記
   載の方法。 ８、第１級アルカノールアミンがモノエタノールアミン
   であり、０．５〜２０重量％で存在し、苛性物質が５〜
   ５０重量％で存在し、実質的にＨ＿２ＳおよびＣＯ＿２
   の全部が除去される特許請求の範囲第７項記載の方法。 ９、ａ）炭化水素流が酸性ガスを含有する液化石油Ｃ＿
   ３／Ｃ＿４炭化水素流であり、 ｂ）処理された流をＣ＿３／Ｃ＿４分離器中で処理し、
   そしてその後に、 ｃ）分離器からのオーバーヘッド軽質分の 少なくとも一部を多段接触器中で第１級アルカノールア
   ミンを含有する苛性溶液で処理する追加の工程を更に含
   む特許請求の範囲第５項記載の方法。 １０、各苛性溶液が５〜５０重量％水溶液であり、第１
   級アルカノールアミンがモノエタノールアミンで０．５
   〜２０重量％で存在する特許請求の範囲第９項記載の方
   法。 １１、第１級アルカノールアミンがモノエタノールアミ
   ンであり０．５〜２０重量％で存在し、苛性溶液の各々
   の苛性濃度が５〜５０重量％である特許請求の範囲第９
   項記載の方法。 １２、炭化水素流生成物が１，０００ｐｐｂより少ない
   ＣＯＳを含有する特許請求の範囲第７〜１１項のいずれ
   か１項に記載の方法。