JPS62104131A - Wafer measuring device - Google Patents
Wafer measuring deviceInfo
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- JPS62104131A JPS62104131A JP24278085A JP24278085A JPS62104131A JP S62104131 A JPS62104131 A JP S62104131A JP 24278085 A JP24278085 A JP 24278085A JP 24278085 A JP24278085 A JP 24278085A JP S62104131 A JPS62104131 A JP S62104131A
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- wafer
- loader
- transport mechanism
- belt
- unloader
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、ウェハ」−のパターンの寸法測定、合わせ
精度7!I11定などを杼うウェハ測定装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Fields] This invention is applicable to wafer pattern dimension measurement and alignment accuracy of 7! It relates to a wafer measuring device that carries I11 constants, etc.
[従来の技術]
従来のウェハ4ll定装置においては、モニタテレビの
画面を観察しながら、ウェハがセットされたX−Yステ
ージ機構をマニュアル操作し、各チップの基準点(例え
ばチップのコーナ)をパターン検出光学系に位置決めし
、その峙のX−Yステージの位置座標を装置に読み取ら
せて内部メモリに記憶させて、これを基準として各測定
対象チップのマークパターンとか、測定対象パターンを
パターン検出光学系の観測位置に順次位置決めして測定
することが行われる。[Prior Art] In a conventional 4ll wafer placement device, the reference point of each chip (for example, the corner of the chip) is determined by manually operating the X-Y stage mechanism on which the wafer is set while observing the screen of a monitor television. The pattern detection optical system is positioned, and the device reads the position coordinates of the X-Y stage opposite to it, stores it in the internal memory, and uses this as a reference to detect the mark pattern of each chip to be measured or the pattern to be measured. Measurements are performed by sequentially positioning the optical system at observation positions.
従来、このようなウェハの寸法測定は、バッチ処理にて
行なわれ、半導体製造ライン等から得た特定の選択され
たウェハを順次測定して行くというものである。Conventionally, such dimensional measurement of wafers has been carried out in a batch process, in which specific selected wafers obtained from a semiconductor manufacturing line or the like are sequentially measured.
[解決しようとする問題点]
ところで、最近では、半導体の高密度化とそのイ、1頼
性の点から1枚1枚の枚低処理による測定が安水され、
その製造量の増加とともに、バッチ処理では追いつかな
い状況にある。[Problems to be Solved] Recently, due to the increasing density of semiconductors and their reliability, measurement using low-processing of each semiconductor has become more and more popular.
As the production volume increases, batch processing cannot keep up.
そこで ;l=導体製造プロセスのラインにこのような
検査装置を配置することが考えられるが、製品の種類が
多様化している現杖から見ると、依然としてバッチ的な
測定処理も必要であり、半導体製造プロセスのラインに
ウェハ測定装置を設けると、この測定装置は、バッチ処
理としての、いわゆるオフラインでの使用ができず、重
複した設備が7殼となるという問題点が生じる。Therefore, it is conceivable to place such an inspection device on the line of the conductor manufacturing process, but from the current perspective of the diversification of product types, batch-like measurement processing is still required, and semiconductor When a wafer measuring device is provided in a manufacturing process line, this measuring device cannot be used for batch processing, so-called off-line, and a problem arises in that there are seven duplicate facilities.
[発明の目的]
この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決
するとともに、オフラインで使用するウェハ測定装置を
bl′、導体製造プロセスのラインに配置して随時イ
ンラインとして使用することができるウェハ7I*1定
装置を提供することにある。[Objective of the Invention] The object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, and to provide a wafer measuring device for offline use by placing it in the line of the conductor manufacturing process and using it as an in-line device at any time. The object of the present invention is to provide a wafer 7I*1 fixing device that can perform the following.
[問題点を解決するための手段コ
このような目的を達成するために、この発明は、測定対
象となるウェハを測定装置筐体の内部へ搬入するために
筐体に設けられた第1の開口部及び測定済みのウェハを
筐体の外部に搬出するために筐体に設けられた第2の開
口部を(f していて、筐体内部に配置され、第1の開
口部から搬入されたウェハをX−Yステージに搬送する
第1の搬送機構と、第1の開口部に連通して着脱可能に
設置され、ウェハを第1の搬送機構へと移送する第2の
搬送機構を有するウェハローダ機構と、筐体内部に配置
され、X−Yステージから送出されたウェハを第2の開
口部に搬送する第3の搬送機構と、第2の開口部に連通
して着脱可能に設置され、送出されたウェハを第3の搬
送機構から笛体外部へと搬出する第4の搬送機構を有す
るウェハアンローダ機構とを備えていて、ウェハローダ
機構及びウェハアンローダ機構を取り外して、゛1′−
導体製造プロセスの製造ラインに配置することができる
というものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve such an object, the present invention provides a first casing provided in the casing for carrying the wafer to be measured into the casing of the measuring device. The opening and the second opening provided in the housing for transporting the measured wafer to the outside of the housing are arranged inside the housing and carried in through the first opening. a first transport mechanism that transports the wafer transferred to the X-Y stage; and a second transport mechanism that is removably installed in communication with the first opening and that transports the wafer to the first transport mechanism. a wafer loader mechanism; a third transport mechanism disposed inside the housing for transporting the wafer sent out from the X-Y stage to the second opening; and a third transport mechanism that is removably installed in communication with the second opening. , and a wafer unloader mechanism having a fourth transport mechanism for transporting the delivered wafer from the third transport mechanism to the outside of the whistle body, and the wafer loader mechanism and the wafer unloader mechanism are removed,
It can be placed on the manufacturing line of the conductor manufacturing process.
[作用コ
このように筐体側とローダ/アンローダ側とにそれぞれ
搬送機構を設けることにより、容易にローダ/アンロー
ダを筐体側から着脱分離でき、゛11導体製造プロセス
のラインに専用のウェハ測定装置を設けな(でも、バッ
チ処理用のウェハ4ull定装置を随時゛1へ導体製造
プロセスのラインに挿入してインラインとして使用する
ことができる。[Function] By providing a transport mechanism on the case side and the loader/unloader side in this way, the loader/unloader can be easily attached and detached from the case side. However, a wafer 4ull fixing device for batch processing can be inserted into the conductor manufacturing process line at any time and used in-line.
その結東、ウェハ1itll定装置を重複して設ける必
要がない。As a result, there is no need to provide duplicate wafer fixing devices.
[実施例コ
以下、図面を参照し、この発明の・実施例について説明
する。[Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図に、この発明によるウェハ測定装置の一実施例の
外観図であり、第2図は、その内部の主要部分のブロッ
ク図、第3図は、第1図におけるI−I断面図、第4図
は、インラインとしての使用時の状態を示す、第1図に
おけるI−I断面図である。なお、これら各図において
同一のものは、同一の符号で示す。FIG. 1 is an external view of an embodiment of a wafer measuring device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram of the main internal parts thereof, and FIG. 3 is a sectional view taken along line II in FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along the line II in FIG. 1, showing the state when used as an in-line device. Note that the same parts in each of these figures are indicated by the same reference numerals.
第1図に見るごとく、ウェハ測定装置1は、その最下部
に第2図に見るX−Yステージ10等を制御する制御ユ
ニット2が設けられていて、その上部の中央部筐体3の
内部にX−YステージlOが配置されていて、このX−
Yステージ10には、ウェハ12が載置される。As shown in FIG. 1, the wafer measuring device 1 is provided with a control unit 2 at the bottom thereof that controls the X-Y stage 10 etc. shown in FIG. An X-Y stage lO is placed at the
A wafer 12 is placed on the Y stage 10.
中央部筺体3の内部上側には、第2図に見るような光学
系と検出系とか配置され、中央部筐体3の上部外側には
、操作パネル4が設けられ、この中央部筺体3のヒには
、CRTディスプレイ装置5が載置されている。An optical system and a detection system as shown in FIG. 2 are arranged on the inside upper side of the central housing 3, and an operation panel 4 is provided on the outside of the upper part of the central housing 3. A CRT display device 5 is placed on the top.
そして、中央部筺体3の左右両側には、ローダ/アンロ
ーダユニット6.7がそれぞれ装着されている。ここで
、左右両側のローダ/アンロータユニット6.7のうち
一方は、ローダとして使用され、他方がアンローダとし
て使用される。8は、ウェハ12を積層したカセットで
あって、一定間隔で−!−下方向に配置された棚状の支
持縁を有している。そしてこの支持縁に各ウェハ12を
順次保持して一定距離隔てて積層状態で収納している。Loader/unloader units 6.7 are mounted on both left and right sides of the central housing 3, respectively. Here, one of the left and right loader/unrotor units 6.7 is used as a loader, and the other is used as an unloader. 8 is a cassette in which wafers 12 are stacked at regular intervals -! - has a shelf-like support edge arranged downwards; The wafers 12 are sequentially held on this support edge and stored in a stacked manner with a certain distance between them.
今仮に、例えばローダ側のユニットをローダ/アンロー
ダユニット6としてアンロータ側のユニットをローダ/
アンローダユニット7とすると、ローダ/アンローダユ
ニット6に装着されたカセット8のウェハ12は、ド側
のウェハ12から1枚1枚X−YステージlOに搬送さ
れ、測定済みのウェハ12は、ロータ/アンローダユニ
ット7側に移送されて下側から1枚1枚順次積層されて
行く。また、この逆にローダ側のユニットヲローダ/ア
ンローダユニット7としてアンローダ側のユニットをロ
ーダ/アンローダユニット6として動作させることもで
きる。For example, suppose that the loader side unit is the loader/unloader unit 6, and the unrotor side unit is the loader/unloader unit 6.
Assuming that the unloader unit 7 is used, the wafers 12 in the cassette 8 loaded in the loader/unloader unit 6 are transferred one by one from the wafers 12 on the side to the X-Y stage IO, and the measured wafers 12 are transferred to the rotor/ The sheets are transferred to the unloader unit 7 and stacked one by one from the bottom. Moreover, on the contrary, the unit on the loader side can be operated as the loader/unloader unit 7 and the unit on the unloader side can be operated as the loader/unloader unit 6.
9 a e 9 bは、それぞれ制御ユニット2の両側
に配置された電源部及び印字部であって、その上部には
、前記ローダ/アンローダユニット6.7がそれぞれ載
置される構成を採る。そして、これらは、このローダ/
アンローダユニッ)E317ヲ中央部筺体3に対して着
脱可能に支持している。9 a e 9 b are a power supply section and a printing section, which are arranged on both sides of the control unit 2, respectively, and the loader/unloader units 6 and 7 are placed on top of the power supply section and the printing section, respectively. And these are this loader/
The unloader unit (E317) is detachably supported on the central housing 3.
さて、ウェハ測定装置1は、ウェハ上のパターンの寸法
測定、パターンの合わせ精度測定などを行うものであっ
て、中央部筐体3の内部には、第2図に見るようにウェ
ハ測定装置1の主要な部分が内蔵されている。Now, the wafer measuring device 1 measures dimensions of patterns on a wafer, measures alignment accuracy of patterns, etc. Inside the central housing 3, as shown in FIG. The main parts are built-in.
すなわち、ローダ/アンローダ6によりX−Yステージ
10のチャック部に搬入されたウェハ12は、X−Yス
テージ10においてウェハ12のオリフラ(オリエンテ
ーションフラット)13を基準として位置決めされて保
持されるようになっている。That is, the wafer 12 carried into the chuck section of the X-Y stage 10 by the loader/unloader 6 is positioned and held on the X-Y stage 10 with reference to the orientation flat 13 of the wafer 12. ing.
このようにしてウェハ12の座標系と、x−yステージ
10との座標系とを一致させるようにしている。そして
ウェハ12の上面は、ハロゲンランプ16によりミラー
18.アクロマチックレンズ20およびハーフミラ−2
2を介して照明される。このようにして照明されたウェ
ハ12のに面の局所的明暗像は、パターン検出光学系2
4およびモニタ系25によって観/1t11される。In this way, the coordinate system of the wafer 12 and the coordinate system of the xy stage 10 are made to match. Then, the upper surface of the wafer 12 is illuminated by a mirror 18. Achromatic lens 20 and half mirror 2
2. The locally bright and dark image of the surface of the wafer 12 illuminated in this way is detected by the pattern detection optical system 2.
4 and the monitor system 25/1t11.
パターン検出光学系24は、対物レンズ26、前記ハー
フミラ−21,22、ハーフミラ−28、スリット30
X、30Y1 リレーレンズ32X。The pattern detection optical system 24 includes an objective lens 26, the half mirrors 21 and 22, a half mirror 28, and a slit 30.
X, 30Y1 Relay lens 32X.
32Y1 ミラー34、シリンドリカルレンズ36X、
36Y、1次元のイメージセンサであるCCDリニアイ
メージセンサ38X、38Yかう構成されている。32Y1 Mirror 34, cylindrical lens 36X,
36Y, and CCD linear image sensors 38X and 38Y, which are one-dimensional image sensors.
対物レンズ26で決まるウェハ而」−の円形視野内の明
暗像は、スリブ)30X、30Yを介して視野をさらに
絞られてCCDリニアイメージセンサ38X、38Yに
撮像され、また、対物レンズ26の視野内の明暗像は、
ハーフミラ−21によってモニタ系25側へも入射し、
ミラー27およびリレーレンズ29を介してテレビカメ
ラ31の撮像面に結像される。このテレビカメラ25か
ら出力されるビデ第43号は、第1図のCRTディスプ
レイ装置5の画面に表示される。The bright and dark images within the circular field of view of the wafer determined by the objective lens 26 are further narrowed down through the slabs 30X and 30Y and captured by the CCD linear image sensors 38X and 38Y. The bright and dark image inside is
It also enters the monitor system 25 side by the half mirror 21,
An image is formed on the imaging surface of the television camera 31 via the mirror 27 and the relay lens 29. Video No. 43 outputted from this television camera 25 is displayed on the screen of the CRT display device 5 shown in FIG.
次に、第3図に従ってウェハ12の搬送処理について説
明する。第3図は、第1図におけるI−I断面図であり
、ローダ/アンローダユニット6は、第1の搬送機構と
してベルト61を備える搬送機構60を有していて、ベ
ル)81は、それぞれ一対のプーリ62.82.63.
63に架けわたされ、プーリ62を駆動するモータ64
により駆動される。ここで、プーリ83,63は、ロー
ダ/アンローダユニット6の開口部6aから外側に突出
している。Next, the transfer process of the wafer 12 will be explained according to FIG. FIG. 3 is a sectional view taken along the line II in FIG. Pulley 62.82.63.
A motor 64 that is connected to the motor 63 and drives the pulley 62.
Driven by. Here, the pulleys 83 and 63 protrude outward from the opening 6a of the loader/unloader unit 6.
一方、中央部筺体3の左右両側には、開口部3a、3b
が設けられていて、ローダ/アンローダユニット6を中
央部筺体3に装着する際に、ローダ/アンローダユニッ
ト6の開口部6aが開口部3aと嵌合して、前記の突出
したプーリ63.63側は、この開口部3aの内部に挿
入されている。On the other hand, openings 3a and 3b are provided on both left and right sides of the central housing 3.
is provided, and when the loader/unloader unit 6 is attached to the central housing 3, the opening 6a of the loader/unloader unit 6 fits into the opening 3a, and the protruding pulley 63, 63 side is inserted inside this opening 3a.
また、中央部筐体3の内部には、開口部3aに対峙し、
x−yステージ10との間に、第2の搬送機構としてベ
ルト41を備える搬送機構40が設けられている。ベル
ト41は、それぞれ一対のプーリ42.42.43.4
3に架けわたされ、プーリ42を駆動するモータ44に
より駆動される。ここで、プーリ42,42は、ローダ
/アンローダユニット6側の突き出したプーリ63,6
3を挟さみ込むようにその両側に配置されていて、プー
リ42.42は、それぞれプーリ63,63の下側に配
置された軸と歯l[〔(これらは図示せず)を介して結
合され、モータ44の回転が伝達される構成を採る。Also, inside the central housing 3, facing the opening 3a,
A conveyance mechanism 40 including a belt 41 is provided as a second conveyance mechanism between the xy stage 10 and the conveyance mechanism 40 . The belt 41 has a pair of pulleys 42, 42, 43, 4, respectively.
3 and is driven by a motor 44 that drives a pulley 42. Here, the pulleys 42, 42 are the pulleys 63, 6 protruding from the loader/unloader unit 6 side.
The pulleys 42 and 42 are arranged on both sides of the pulleys 63 and 63 so as to sandwich them, and the pulleys 42 and 42 are connected to shafts and teeth l [(these are not shown) disposed below the pulleys 63 and 63, respectively. A configuration is adopted in which the rotation of the motor 44 is transmitted.
同様に、ローダ/アンローダユニット7は、第4の搬送
機構としてベル)71を備える搬送機構70をイ、「シ
ていて、ベル1−71は、それぞれ一対のプーリ72.
72,73,73に架けわたされ、プーリ72を駆動す
るモータ74により駆動される。ここで、プーリ73.
73は、ローダ/アンローダユニット7の開口部7aか
ら外側に突出している。そして前記と同様にローダ/ア
ンo−タユニット7を中央部筐体3に装着する際に、ロ
ーダ/アンローダユニット7の開口部7aが開口部3b
と嵌合して、前記の突出したブーIJ73.73側は、
中央部筺体3の開口部3bの内部に挿入されている。Similarly, the loader/unloader unit 7 has a transport mechanism 70 including a bell 71 as a fourth transport mechanism, and each bell 1-71 is connected to a pair of pulleys 72.
72 , 73 , and 73 , and is driven by a motor 74 that drives pulley 72 . Here, pulley 73.
73 projects outward from the opening 7a of the loader/unloader unit 7. Similarly to the above, when the loader/unloader unit 7 is attached to the central housing 3, the opening 7a of the loader/unloader unit 7 is replaced by the opening 3b.
The protruding boo IJ73.73 side is fitted with
It is inserted into the opening 3b of the central housing 3.
また、中央部筐体3の内部には、開口部3bに対峙し、
前記第2の搬送機構40七X−YステージlOを挾んで
対称位置に、第3の搬送機構としてベルト51を備える
搬送機構50が設けられている。ベルト51は、それぞ
れ一対のブーIJ52゜52.53.53に架けわたさ
れ、プーリ52を駆動するモータ54により駆動される
。ここで、ブーIJ52,52は、プーリ42.42と
同様に、ローダ/アンローダユニット7側の突き出した
ブーIJ73.73を挟さみ込むようにその両側に配置
ξされていて、ブーIJ52,52は、それぞれブー+
J73.73の下側に配置された軸と歯11t (これ
らは図示せず)を介して結合されモータ54の回転が伝
達される構成を採る。Also, inside the central housing 3, facing the opening 3b,
A transport mechanism 50 including a belt 51 is provided as a third transport mechanism at a symmetrical position with the second transport mechanism 407 and the X-Y stage 10 interposed therebetween. The belt 51 is stretched over a pair of boots IJ52, 52, 53, and 53, respectively, and is driven by a motor 54 that drives a pulley 52. Here, like the pulleys 42.42, the boos IJ52, 52 are arranged on both sides of the protruding boo IJ73.73 on the loader/unloader unit 7 side so as to sandwich it. are respectively boo+
A configuration is adopted in which the rotation of the motor 54 is transmitted by being connected to a shaft disposed on the lower side of the J73.73 via teeth 11t (these are not shown).
次に、ウェハ12のオフラインにおける測定処理の際の
ウェハの搬入/搬出動作について説明する。Next, the wafer loading/unloading operation during off-line measurement processing of the wafer 12 will be described.
まず、ウェハ12をX−Yステージ10ヘロードする場
合には、X−Yステージ10は、中央部から図面右側の
第2のベルト搬送機構40側へと移動して、第2のベル
ト搬送機構40からウニ/X12を受は取る位置に待機
する。First, when loading the wafer 12 onto the X-Y stage 10, the X-Y stage 10 moves from the center to the second belt transport mechanism 40 side on the right side of the drawing. The Uke waits in a position to pick up the Uni/X12.
一方、ロータ/アンローダユニット6に挿着すれたカセ
ット8の最F部から取り出されたウエノ112がベルト
61の上に載置され、モータ64が駆動されてこのウェ
ハ12が中央部筐体3の開口部3a方向へと移送される
。この移送は、プーリ63、63.ブーIJ42.42
の地点で第1のベルト搬送機構60から第2のベルト搬
送機構40へとリレーされ、ウェハ12はモータ44に
より駆動される第2のベルト搬送機構40へと渡される
。On the other hand, the wafer 112 taken out from the F-most part of the cassette 8 inserted into the rotor/unloader unit 6 is placed on the belt 61, and the motor 64 is driven to transfer the wafer 12 to the center housing 3. It is transferred toward the opening 3a. This transfer is performed by pulleys 63, 63. Boo IJ42.42
At the point, the first belt conveyance mechanism 60 is relayed to the second belt conveyance mechanism 40, and the wafer 12 is transferred to the second belt conveyance mechanism 40 driven by the motor 44.
ここで、第2のベルト搬送機構40は、ウェハ12をX
−Yステージ10の方向へと搬送してX−Yステージ1
0へと渡す。X−Yステージ10に受は渡されたウェハ
12は、X−Yステージ10」二の中央部に吸着固定さ
れ、X−Yステージ10は、中央部筐体3の中央位置へ
と移動する。Here, the second belt conveyance mechanism 40 transports the wafer 12 by
- Transport it in the direction of Y stage 10 and X-Y stage 1
Pass to 0. The wafer 12 transferred to the X-Y stage 10 is sucked and fixed to the center of the X-Y stage 10'', and the X-Y stage 10 moves to the center position of the center housing 3.
筐体中央位置においてX−Yステージ10」―のウェハ
12は、そのパターンの寸法等の測定が1tわれ、この
測定が終了したときに、X−YステージlOは、中央か
ら今度は、図面左側の第3のベルト搬送機構50の方向
へと移動して、第3のベルト移動機構50に測定済みの
ウエノ112を受け渡し、元の中央部位置へと戻る。The wafer 12 on the X-Y stage 10'' is placed at the center of the housing, and its pattern dimensions, etc., are measured 1t, and when this measurement is completed, the X-Y stage 10 is moved from the center to the left side of the drawing. The measured Ueno 112 is transferred to the third belt moving mechanism 50, and returned to the original central position.
第3のベルト搬送機構50は、X−YステージlOから
測定済みのウェハ12をそのベルト51にて受け、これ
を第4のベルト搬送機構70の方向へと移送する。The third belt transport mechanism 50 receives the measured wafer 12 from the X-Y stage 1O with its belt 51, and transports it toward the fourth belt transport mechanism 70.
そして、プーリ53.53.プーリ72.72の地点で
第3のベルト搬送機構50から第4のベルト搬送機構7
0へとウェハ12がリレーされて第4のベルト搬送機構
70へと受は渡される。And pulley 53.53. From the third belt transport mechanism 50 to the fourth belt transport mechanism 7 at the point of pulley 72.72
0, and the wafer 12 is transferred to the fourth belt conveyance mechanism 70.
第4のベルト搬送機構70は、測定済みのウェハ12を
中央部筺体3の開口部3bから外へと搬出シテローダ/
アンローダユニット7側に取り出し、ローダ/アンロー
ダユニット7にセットされているカセット8へとウェハ
12を収納する。The fourth belt transport mechanism 70 transports the measured wafer 12 to the outside through the opening 3b of the central housing 3.
The wafer 12 is taken out to the unloader unit 7 side and stored in a cassette 8 set in the loader/unloader unit 7.
次に、オンラインとしての動作について説明する。Next, the online operation will be explained.
このウェハ測定装置1をオンラインとして使用する場合
には、着脱できるローダ/アンローダユニット6.7が
取り外される。そして第4図に見るように、半導体製造
ラインに設けられた。ベルト移送機構に連結される補助
移送機構80.81が中央部筺体3の両側にローダ/ア
ンローダユニット6.7に代えて装着される。When using the wafer measuring device 1 online, the removable loader/unloader unit 6.7 is removed. As shown in FIG. 4, it was installed on a semiconductor manufacturing line. Auxiliary transport mechanisms 80.81 connected to the belt transport mechanism are mounted on both sides of the central housing 3 instead of the loader/unloader unit 6.7.
この補助移送機構は、ローダ/アンローダユニット6.
7の第1.第4のベルト搬送機構60゜70と同様な関
係にあるベルト搬送機構82.83とこれらベルト搬送
機構82.83からウェハ12をリレー移送するベルト
搬送機構84.85とを備えている。This auxiliary transfer mechanism includes a loader/unloader unit 6.
Part 1 of 7. It is provided with belt conveyance mechanisms 82.83 having a similar relationship to the fourth belt conveyance mechanism 60.70, and belt conveyance mechanisms 84.85 that relay transfer the wafer 12 from these belt conveyance mechanisms 82.83.
そして、このベルト搬送機構84.85がそれぞれ半導
体製造ラインのベルト移送機構に連結される。The belt transport mechanisms 84 and 85 are each connected to a belt transport mechanism of a semiconductor manufacturing line.
さて、製造ライン上において搬送されて宋るウェハ12
は、ベルト搬送機+/184からベルト搬送機構82へ
と受は渡されて、第2のベルト搬送機構40へとリレー
され、x−yステージ10へと渡される。そして測定を
終了したウェハ12は、X−Yステージ10から第3の
ベルト搬送機構50へと移送されて、この第3のベルト
搬送機構50からベルト搬送機構83へと渡され、ベル
ト搬送機構85を経て、製造ライン上のベルト搬送機構
に受は渡される。Now, the wafer 12 is being transported and singing on the production line.
is passed from the belt conveyor +/184 to the belt conveyance mechanism 82, relayed to the second belt conveyance mechanism 40, and then passed to the xy stage 10. The wafer 12 that has been measured is transferred from the X-Y stage 10 to the third belt conveyance mechanism 50, and then passed from the third belt conveyance mechanism 50 to the belt conveyance mechanism 83. After that, the receiver is delivered to the belt conveyance mechanism on the production line.
このようにローダ/アンローダユニット6.7側と中央
部筐体3側とにそれぞれウエノ1を移送する搬送機構を
設けることにより、筺体側とローダ/アンローダユニッ
ト側とが容易に着脱でき、オンライン使用時に同様な搬
送機構をライン側に設けることで、簡qLにインライン
として製造ラインに組み込めるものである。In this way, by providing a transport mechanism for transferring the urethane 1 to the loader/unloader unit 6.7 side and the central casing 3 side, the casing side and the loader/unloader unit side can be easily attached and detached, allowing online use. Sometimes, by providing a similar transport mechanism on the line side, it can be incorporated into the production line as an in-line system for simple qL.
以に説明してきたが、この実施例では、ローダ/アンロ
ーダユニット6をローダ側とし、ローダ/アンローダユ
ニット7をアンローダfillとして説明しているば、
これは、とちらをローダ側とし、どちらをアンローダ側
としてもよい。As described above, in this embodiment, the loader/unloader unit 6 is described as the loader side, and the loader/unloader unit 7 is described as the unloader fill.
In this case, one side may be set as the loader side, and either side may be set as the unloader side.
このようにどちらにもできることにより、インライン配
置としたときに、左右どちら611を搬入側にもでき、
操作パネルを常にオペレータの正面側とすることができ
るという利点がある。By being able to do both in this way, when arranging it inline, either the left or right 611 can be used as the carry-in side.
There is an advantage that the operation panel can always be placed in front of the operator.
また、これらローダ/アンローダユニット6゜7は、中
央部筺体3の左右に配置して、直線上としているが、こ
れは、例えばローダ/アンローダユニット6及び/又は
7を中央部筺体3の裏面側に配置してもよい。Furthermore, these loader/unloader units 6 and 7 are arranged on the left and right sides of the central housing 3 so as to be in a straight line. It may be placed in
さらに、ベルト搬送機構を用いているので、ベルトの移
動方向を逆転させることにより、ウェハを入り[lから
出すことができ、ローダとして使用しているローダ/ア
ンローダユニットをアンローダとして使用することがで
きる。このようにすれば、ローダ/アンローダユニット
は、1つでローダ及びアンローダとして使用することが
できる。Furthermore, since a belt conveyance mechanism is used, wafers can be loaded and unloaded by reversing the moving direction of the belt, and the loader/unloader unit used as a loader can also be used as an unloader. . In this way, one loader/unloader unit can be used as a loader and an unloader.
したがって、これらは1つ設けるだけでもよい。Therefore, it is sufficient to provide only one of these.
しかし、実施例ではこのベルトによる搬送機構を採用し
ているが、搬送機構は、ベルトによるものに限定される
ものではない。However, although the embodiment employs this belt-based conveyance mechanism, the conveyance mechanism is not limited to a belt-based conveyance mechanism.
以上、一実施例について説明したが、この発明はそれだ
けに限定されるものではなく、適宜変形して実施し得る
ものである。Although one embodiment has been described above, the present invention is not limited thereto, and can be implemented with appropriate modifications.
[発明の効果]
以」−説明したように、この発明によれば、測定対象と
なるウェハを測定装置筐体の内部へ搬入するために筐体
に設けられた第1の開口部及び測定済みのウェハを筐体
の外部に搬出するために筐体に設けられた第2の開口部
を有していて、筺体内部に配置され、第1の開「1部か
ら搬入されたウェハをX−Yステージに搬送する第1の
搬送機構と、第1の開口部に連通して着脱可能に設置さ
れ、ウェハを第1の搬送機構へと移送する第2の搬送機
構を有するウェハローダ機構と、筐体内部に配置され、
X−Yステージから送出されたウェハを第2の開口部に
搬送する第3の搬送機構と、第2の開口部に連通して着
脱可能に設置され、送出されたウェハを第3の搬送機構
から筐体外部へと搬出する第4の搬送機構を有するウェ
ハアンローダ機構とを備えていて、ウェハローダ機+M
及びウェハアンローダ機構を取り外して、半導体製造プ
ロセスの製造ラインに配置することができるようにして
いるので、′1コ導体製造プロセスのラインに専用のウ
ェハ測定装置を設けな(でも、バッチ処理用のウェハ測
定装置を随時半導体製造プロセスのラインに挿入してイ
ンラインとして使用することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, there is a first opening provided in the housing for carrying a wafer to be measured into the inside of the measuring device housing, and a wafer that has been measured. The housing has a second opening provided in the housing for transporting the wafers to the outside of the housing, and the wafers placed inside the housing and carried in through the first opening are a wafer loader mechanism having a first transport mechanism that transports the wafer to the Y stage; a second transport mechanism that is removably installed in communication with the first opening and that transports the wafer to the first transport mechanism; placed inside the body,
A third transport mechanism that transports the wafer sent out from the X-Y stage to the second opening; and a third transport mechanism that is removably installed in communication with the second opening and transports the delivered wafer. and a wafer unloader mechanism having a fourth transport mechanism for unloading the wafer from the wafer to the outside of the casing.
Since the wafer unloader mechanism and wafer unloader mechanism can be removed and placed on the production line of the semiconductor manufacturing process, there is no need to install a dedicated wafer measuring device on the line of the semiconductor manufacturing process (but it is not necessary to install a dedicated wafer measurement device on the line of the semiconductor manufacturing process). The wafer measuring device can be inserted into the semiconductor manufacturing process line at any time and used as an in-line device.
その結果、ウェハ測定装置を重複して設ける必要がない
。As a result, there is no need to provide duplicate wafer measuring devices.
第1図に、この発明によるウェハ測定装置の一実施例の
外観図であり、第2図は、その内部の主要部分のブロッ
ク図、第3図は、第1図におけるI−I断面図、第4図
は、インラインとしての使用時の杖態を示す、第1図に
おけるI−I断面図である。
l・・・ウェハ測定装置、2・・・制御ユニット、3・
・・中央部筐体、4・・・操作パネル、5・・・CRT
ディスプレイ装置、
8.7・・・ロータ/アンローダユニット、8・・・カ
セット、9a・・・電源部、9b・・・印字部、10・
・・X−Yステージ、12・・・ウェハ、24・・・パ
ターン検出光学系、26・・・対物レンズ、30X、3
0Y・・・スリット、31・・・テレビカメラ、38X
、38Y・・・CCDリニアイメージセンサ、
40・・・第1のベルト搬送機構、
50・・・第2のベルト搬送機構、
60・・・第3のベルト搬送機構、
70・・・第4のベルト搬送機構、
82.83,84.85・・・ベルト搬送機構。FIG. 1 is an external view of an embodiment of a wafer measuring device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram of the main internal parts thereof, and FIG. 3 is a sectional view taken along line II in FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along line II in FIG. 1, showing the cane state when used as an in-line device. l... Wafer measurement device, 2... Control unit, 3.
...Central housing, 4...Operation panel, 5...CRT
Display device, 8.7... Rotor/unloader unit, 8... Cassette, 9a... Power supply section, 9b... Printing section, 10.
...X-Y stage, 12... Wafer, 24... Pattern detection optical system, 26... Objective lens, 30X, 3
0Y...Slit, 31...TV camera, 38X
, 38Y... CCD linear image sensor, 40... First belt conveyance mechanism, 50... Second belt conveyance mechanism, 60... Third belt conveyance mechanism, 70... Fourth belt conveyance mechanism. Belt conveyance mechanism, 82.83, 84.85... Belt conveyance mechanism.
Claims (3)
るウェハ測定装置において、測定対象となるウェハを前
記筺体の内部へ搬入するために前記筐体に設けられた第
1の開口部及び測定済みの前記ウェハを前記筐体の外部
に搬出するために前記筐体に設けられた第2の開口部を
有し、前記筺体内部に配置され、前記第1の開口部から
搬入されたウェハを前記X−Yテーブルに搬送する第1
の搬送機構と、前記第1の開口部に連通して着脱可能に
設置され、前記ウェハを第1の搬送機構へと移送する第
2の搬送機構を有するウェハローダ機構と、前記筺体内
部に配置され、前記X−Yステージから送出されたウェ
ハを第2の開口部に搬送する第3の搬送機構と、第2の
開口部に連通して着脱可能に設置され、前記送出された
ウェハを第3の搬送機構から前記筐体外部へと搬出する
第4の搬送機構を有するウェハアンローダ機構とを備え
、前記ウェハローダ機構及び前記ウェハアンローダ機構
が取り外されて半導体製造プロセスの製造ラインに配置
されることを特徴とするウェハ測定装置。(1) In a wafer measuring device having an X-Y stage inside the casing of the measuring device main body, a first opening provided in the casing for carrying a wafer to be measured into the casing and measurement. The housing has a second opening provided in the housing for transporting the finished wafer to the outside of the housing, and the wafer placed inside the housing and carried in through the first opening is The first
a wafer loader mechanism having a second transport mechanism that is removably installed in communication with the first opening and that transfers the wafer to the first transport mechanism; , a third transport mechanism that transports the wafer sent out from the X-Y stage to the second opening, and a third transport mechanism that is removably installed in communication with the second opening and transports the delivered wafer a wafer unloader mechanism having a fourth transport mechanism for transporting the wafer from the transport mechanism to the outside of the casing; Features of wafer measurement equipment.
ベルト搬送機構であり、このベルトの方向が逆転制御可
能であって、第1の搬送機構は逆転制御されたときに第
3の搬送機構として動作し、第2の搬送機構は逆転制御
されたときに第4の搬送機構として動作し、第1の開口
部と第2の開口部とは同一のものであって、ウェハロー
ダ機構は、ウェハアンローダ機構としても機能すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のウェハ測定装
置。(2) Each of the first conveyance mechanism and the second conveyance mechanism is a belt conveyance mechanism, and the direction of the belt can be controlled in reverse, and when the first conveyance mechanism is controlled in reverse, the direction of the belt can be controlled in reverse. The second transport mechanism operates as a fourth transport mechanism when controlled in reverse, the first opening and the second opening are the same, and the wafer loader mechanism 2. The wafer measuring device according to claim 1, wherein the wafer measuring device also functions as a wafer unloader mechanism.
構及び第4の搬送機構は、それぞれベルト搬送機構であ
り、ウェハローダとウェハアンローダとは、ローダ/ア
ンローダユニットにより構成され、搬入・搬出方向を選
択できることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
ウェハ測定装置。(3) The first transport mechanism, the second transport mechanism, the third transport mechanism, and the fourth transport mechanism are each a belt transport mechanism, and the wafer loader and wafer unloader are configured by a loader/unloader unit, The wafer measuring device according to claim 1, wherein the wafer measuring device is capable of selecting a loading/unloading direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24278085A JPS62104131A (en) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | Wafer measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24278085A JPS62104131A (en) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | Wafer measuring device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62104131A true JPS62104131A (en) | 1987-05-14 |
Family
ID=17094172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24278085A Pending JPS62104131A (en) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | Wafer measuring device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62104131A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6423170A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Tokyo Electron Ltd | Positioning mechanism |
JPH0475524U (en) * | 1990-11-15 | 1992-07-01 | ||
JP2010169607A (en) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Denso Corp | Surface acoustic wave type pressure sensor |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP24278085A patent/JPS62104131A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6423170A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Tokyo Electron Ltd | Positioning mechanism |
JPH0475524U (en) * | 1990-11-15 | 1992-07-01 | ||
JP2010169607A (en) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Denso Corp | Surface acoustic wave type pressure sensor |
US8006563B2 (en) | 2009-01-26 | 2011-08-30 | Denso Corporation | Surface acoustic wave pressure sensor |
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