JP2000155430A - Automatic alignment method for double-sided aligner - Google Patents

Automatic alignment method for double-sided aligner

Info

Publication number
JP2000155430A
JP2000155430A JP10332144A JP33214498A JP2000155430A JP 2000155430 A JP2000155430 A JP 2000155430A JP 10332144 A JP10332144 A JP 10332144A JP 33214498 A JP33214498 A JP 33214498A JP 2000155430 A JP2000155430 A JP 2000155430A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
alignment
alignment mark
camera
double
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10332144A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Fukazawa
俊夫 深沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSK Ltd filed Critical NSK Ltd
Priority to JP10332144A priority Critical patent/JP2000155430A/en
Publication of JP2000155430A publication Critical patent/JP2000155430A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily, rapidly and accurately perform processing for loading both of front side and back side masks on both front and back surface sides of a member to be aligned by driving at least two of an image pickup means, the front side mask and the back side mask by a driving means. SOLUTION: A controller calculates relative deviation between alignment marks FAM1 and BAM1 based on a superposed image obtained by superposing the alignment mark FAM1 on the front side mask and the alignment mark BAM1 on the back side mask picked up by a camera 50a, and drives and controls a camera driving mechanism 52a or a surface printing frame driving mechanism 55 so as to correct the relative deviation. It similarly calculates the relative deviation between the alignment marks FAM2 and BAM2 based on the superposed image obtained by superposing the alignment mark FAM2 on the front side mask and the alignment mark BAM2 on the back side mask picked up by a camera 50b, and drives and controls a camera driving mechanism 52b or the mechanism 55 so as to correct the relative deviation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被露光部材の表裏
両面に表裏のマスクを配置して被露光部材の表裏両面を
同時に露光する両面露光装置に関し、特に、表側フォト
マスク(以下、表マスクという)と裏側フォトマスク
(以下、裏マスクという)の位置合せを自動的に行う自
動アライメント装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a double-sided exposure apparatus for arranging front and back masks on both front and back surfaces of a member to be exposed and simultaneously exposing the front and back surfaces of the member to be exposed, and more particularly to a front side photomask (hereinafter referred to as a front mask). The present invention relates to an automatic alignment apparatus for automatically aligning a backside photomask (hereinafter, referred to as a backside mask) with a backside photomask.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の両面露光装置では、表マ
スクとマスクの双方に所定のアライメントマークを2つ
ずつ形成しておき、これら2組のアライメントマークを
2台のカメラで個別に撮像することにより、表マスクと
裏マスクの位置合せを自動的に行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of double-sided exposure apparatus, two predetermined alignment marks are formed on both a front mask and a mask, and these two sets of alignment marks are individually imaged by two cameras. Thus, the alignment between the front mask and the back mask is automatically performed.

【0003】すなわち、2台のカメラで撮像した表マス
クと裏マスクの各組のアライメントマークの画像をマイ
クロコンピュータに取込み、その画像に基づいて表マス
クと裏マスクのアライメントマークのずれ誤差を演算
し、得られたずれ誤差に基づいて一方のマスクをモータ
で微動させて両マスクのアライメントマークのずれを補
正している。
That is, an image of each set of alignment marks of a front mask and a back mask taken by two cameras is taken into a microcomputer, and a deviation error between the alignment marks of the front mask and the back mask is calculated based on the images. On the basis of the obtained deviation error, one of the masks is finely moved by a motor to correct the deviation between the alignment marks of the two masks.

【0004】この場合、2台のカメラは所定位置に固定
したままで、両マスクのうちの一方はXYθ方向に移動
可能な焼枠にセットし、他方のマスクを固定の焼枠にセ
ットして、一方の焼枠を移動制御することにより表マス
クと裏マスクを相対的に移動させ、両マスクの対応する
アライメントマーク同士を一致させてずれ補正を行って
いた。
In this case, with the two cameras fixed at predetermined positions, one of the two masks is set on a grill which can be moved in the XYθ directions, and the other mask is set on a fixed grill. The front mask and the back mask are relatively moved by controlling the movement of one of the burning frames, and the misalignment correction is performed by matching the corresponding alignment marks of both masks.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の両面露
光装置では、カメラ位置は固定し、表裏いずれか一方の
マスクだけが移動可能に構成されているので、表マスク
と裏マスクをそれぞれ焼枠にセットし、各マスク上の各
アライメントマークをそれぞれ対応するカメラの視野内
に入れるべく、まず、XYθテーブル上の焼枠をモータ
により移動してその焼枠にセットされた一方のマスクの
2つのアライメントマークをそれぞれ対応するカメラの
視野に入れ、次に固定の焼枠にセットしたマスクの2つ
のアライメントマークがそれぞれ対応するカメラの視野
に入っていない場合は、そのマスクを指先で焼枠上を移
動させていた。
However, in the conventional double-side exposure apparatus, the camera position is fixed and only one of the front and back masks is movable. In order to put each alignment mark on each mask into the field of view of the corresponding camera, first, the grid on the XYθ table is moved by a motor, and two masks of one mask set on the grid are set. Put the alignment marks in the field of view of the corresponding camera. Then, if the two alignment marks of the mask set in the fixed frame are not in the field of view of the corresponding camera, place the mask on the frame with your fingertips. I was moving.

【0006】このようにマスクをセットする際の位置決
めをマニュアルで行う必要があるため、その位置決めに
長時間を要していた。
As described above, it is necessary to manually perform the positioning when setting the mask, and it takes a long time to perform the positioning.

【0007】また、カメラは、CCDカメラ等により構
成され、その視野は非常に狭くなっているため、2つの
アライメントマークを同時に対応するカメラの視野に入
れるためには、数100μmの精度でマスクを位置決め
する必要があり、この高精度な位置決めをマニュアルで
行うのは困難であった。特に、シャドウマスク、リード
フレーム等の薄板状のエッチング製品を両面露光する場
合に、重量が10Kg程度もあるマスクをマニュアルで
高精度に位置決するには、熟練を必要としていた。
Further, since the camera is constituted by a CCD camera or the like, and its field of view is very narrow, a mask with a precision of several hundred μm is required to simultaneously put two alignment marks in the field of view of the corresponding camera. It is necessary to perform positioning, and it has been difficult to manually perform this highly accurate positioning. In particular, when performing double-sided exposure of a thin plate-shaped etching product such as a shadow mask or a lead frame, skill is required to manually and accurately position a mask having a weight of about 10 kg.

【0008】本発明は、このような背景の下になされた
もので、その課題は、アライメントマークが撮像手段の
視野中央に入るような形で表マスク、裏マスクを被露光
部材の表裏両面側にロードする処理を簡単、迅速、かつ
高精度に行えるようにすることにある。
The present invention has been made under such a background, and an object thereof is to provide a front mask and a back mask in such a manner that the alignment mark enters the center of the field of view of the image pickup means. An object of the present invention is to enable simple, quick, and high-accuracy loading processing.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、被露光部材の表裏両面側にそれぞれ所定
のアライメントマークを形成した表マスク、裏マスクを
ロードし、前記アライメントマークを撮像手段により撮
像して得られた画像情報に基づいて自動的に表マスクと
裏マスクとのアライメントを行う両面露光装置における
自動アライメント方法において、前記撮像手段、前記表
マスク、前記裏マスクのうちの少なくとも2つを駆動手
段により駆動することにより、前記表マスクと裏マスク
にそれぞれ形成された前記アライメントマークが前記撮
像手段の視野中央に入るようにして、前記表マスクと裏
マスクとのアライメントを行うようにしている。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is to load a front mask and a back mask each having a predetermined alignment mark formed on both front and back surfaces of a member to be exposed, and image the alignment mark. Means for automatically aligning the front mask and the back mask based on image information obtained by imaging by the means, in a double-sided exposure apparatus, wherein the imaging means, the front mask, at least one of the back mask By driving the two by the driving unit, the alignment marks formed on the front mask and the back mask are respectively positioned in the center of the visual field of the imaging unit, and the alignment of the front mask and the back mask is performed. I have to.

【0010】[0010]

【作用】本発明では、前記撮像手段、前記表マスク、前
記裏マスクのうちの少なくとも2つを駆動手段により駆
動することにより、前記表マスクと裏マスクにそれぞれ
形成された前記アライメントマークが前記撮像手段の視
野中央に入るように制御される。
According to the present invention, at least two of the image pickup means, the front mask, and the back mask are driven by driving means, so that the alignment marks formed on the front mask and the back mask are image-captured. It is controlled to enter the center of the field of view of the means.

【0011】従って、前記アライメントマークが前記撮
像手段の視野中央に入るような形で前記表マスク、裏マ
スクを被露光部材の表裏両面側にロードする処理の自動
化を図ることができ、この処理を簡単、迅速、かつ高精
度に行えるようになる。
Therefore, it is possible to automate the processing of loading the front mask and the back mask on both the front and back sides of the member to be exposed, such that the alignment mark enters the center of the field of view of the imaging means. It can be done easily, quickly and with high precision.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明の実施の形態に係る両面露
光装置の全体の概略構成を示す構成図である。図1にお
いて、1は被露光部材のベース部材となるステンレス、
鋼板、黄銅、アルミニウム等の帯状の金属薄板のコイル
3を装着した巻戻機であり、モータ1aによって所定値
のバックテンションが与えられている。巻戻機1から巻
戻されたベース部材2は、テンションレベラー4に供給
され、このテンションレベラー4によって繰返し曲げ応
力を与えられて、巻癖が矯正される。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of an entire double-side exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes stainless steel serving as a base member of a member to be exposed;
This is a rewinding machine equipped with a coil 3 of a strip-shaped metal thin plate such as a steel plate, brass, aluminum or the like, and a predetermined back tension is given by a motor 1a. The base member 2 unwound from the unwinding machine 1 is supplied to a tension leveler 4, and is subjected to repeated bending stress by the tension leveler 4, thereby correcting the curl.

【0014】巻癖が矯正されたベース部材2は、レジス
ト塗布装置5に供給され、このレジスト塗布装置5によ
り、ベース部材2の表裏両面には例えばネガ型レジスト
が塗布されて、被露光部材6が形成される。
The base member 2 whose curl has been corrected is supplied to a resist coating device 5, which coats, for example, a negative type resist on both the front and back surfaces of the base member 2, and exposes the exposed member 6. Is formed.

【0015】この被露光部材6は、例えば外表面に樹脂
コーティングを施したローラ状の搬送機構7により、レ
ジスト乾燥用のベーキング炉7a、両面露光部8にステ
ップ搬送される。そして、両面露光部8により所定のパ
ターンP、及び位置合せマークM(図2参照)が露光さ
れて、レジスト層が感光される。
The exposed member 6 is step-transported to a baking furnace 7a for resist drying and a double-sided exposure section 8 by a roller-like transport mechanism 7 having a resin coating on the outer surface, for example. Then, the predetermined pattern P and the alignment mark M (see FIG. 2) are exposed by the double-sided exposure unit 8, and the resist layer is exposed.

【0016】感光された被露光部材6は、両面露光部8
の直後に配設されたマーク読取機9に搬送され、このマ
ーク読取機9により、レジスト層に感光された位置合せ
マークMが読取られ、その読取情報に基づいて、両面露
光部8で光学系及び被露光部材6間の相対位置合せが行
われる。
The exposed member 6 is exposed to a double-sided exposure unit 8.
Is transported to a mark reader 9 disposed immediately after this, the alignment mark M exposed on the resist layer is read by the mark reader 9, and based on the read information, an optical system is And the relative position between the exposure target member 6 is performed.

【0017】マーク読取機9の後段には、感光された被
露光部材6を現像する現像処理部10が配設され、この
現像処理部10の後段側には、現像された被露光部材6
のレジスト層に対してエッチングを行うエッチング処理
部11が配設され、このエッチング処理部11の後段側
に巻取機12が配設されている。この巻取機12は、位
置合せ制御装置30からの搬送機構7の制御信号に同期
する制御信号により、モータドライバ12aを介して駆
動モータ12bを駆動制御することにより、時計方向に
回転駆動される。
A developing section 10 for developing the exposed member 6 is disposed downstream of the mark reader 9, and the developed member 6 is disposed downstream of the developing section 10.
An etching unit 11 for etching the resist layer is provided, and a winder 12 is provided at a stage subsequent to the etching unit 11. The winder 12 is rotationally driven clockwise by controlling the drive of a drive motor 12b via a motor driver 12a by a control signal synchronized with a control signal of the transport mechanism 7 from the alignment control device 30. .

【0018】両面露光部8は、図2及び図3に示したよ
うに、被露光部材6を挟んで対向する位置に、後述する
焼枠にて支持された表マスク13及び裏マスク14が配
置される。また、表マスク13及び裏マスク14の被露
光部材6とは反対側には、コンデンサレンズ等の光学系
17a,17bを介して光源18a,18bが配設され
ている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the double-sided exposure section 8 has a front mask 13 and a back mask 14 supported by a burning frame, which will be described later, at positions opposed to each other with the exposed member 6 interposed therebetween. Is done. Light sources 18a and 18b are disposed on the opposite side of the front mask 13 and the back mask 14 from the exposed member 6 via optical systems 17a and 17b such as condenser lenses.

【0019】表マスク13には、図3に示すように、回
路パターン等の所定のパターンPが形成されていると共
に、被露光部材6に対向しない平面からみて前後位置の
中央部にそれぞれ透光性を有する比較的幅広のL字状の
アライメントマークFAM1及びFAM2が形成され、少
なくともその周辺部が不透光性部とされている。
As shown in FIG. 3, a predetermined pattern P such as a circuit pattern is formed on the front mask 13 and a light transmitting portion is provided at a central portion of the front and rear positions when viewed from a plane not facing the member 6 to be exposed. Relatively wide L-shaped alignment marks FAM1 and FAM2 having a property are formed, and at least a peripheral portion thereof is an opaque portion.

【0020】また、裏マスク14には、図3に示すよう
に、表マスク13と同様に回路パターン等の所定のパタ
ーンが形成されていると共に、表マスク13のアライメ
ントマークFAM1,FAM2に対応する位置に光を透過
させず、且つアライメントマークFAM1,FAM2より
幅狭に選定されたL字状のアライメントマークBAM
1,BAM2が形成され、少なくともその周辺部が透光性
部とされている。
As shown in FIG. 3, a predetermined pattern such as a circuit pattern is formed on the back mask 14 similarly to the front mask 13, and the back mask 14 corresponds to the alignment marks FAM1 and FAM2 of the front mask 13. L-shaped alignment mark BAM that does not transmit light to the position and is narrower than alignment marks FAM1 and FAM2
1, BAM2 is formed, and at least the peripheral portion thereof is a translucent portion.

【0021】一方、両面露光部8の裏マスク14の下面
側には、図2に示すように、アライメントマークFAM
1、FAM2、及びBAM1,BAM2に対向する位置に、
それぞれ凸レンズ19a,19bを介して発光ダイオー
ド等の投光素子20a,20bが配置されている。ま
た、これら投光素子20a,20bに対向する表マスク
13の上面側には、凸レンズ21a,21b、及びハー
フミラー22a,22bを介して、図形読取素子として
の1次元のイメージセンサ23ax,23ay及び23
bx,23byが配設されている。
On the other hand, on the lower surface side of the back mask 14 of the double-sided exposure section 8, as shown in FIG.
1, at the position facing FAM2 and BAM1, BAM2,
Light emitting elements 20a and 20b such as light-emitting diodes are arranged via the convex lenses 19a and 19b, respectively. Also, on the upper surface side of the front mask 13 facing these light emitting elements 20a and 20b, one-dimensional image sensors 23ax and 23ay as graphic reading elements are provided via convex lenses 21a and 21b and half mirrors 22a and 22b. 23
bx and 23by are provided.

【0022】なお、イメージセンサ23ax,23bx
は、各マスク13,14のアライメントマークFAM
1,FAM1、及びBAM1,BAM2の被露光部材6の移
動方向と直交する部分を読取るように、被露光部材6の
移動方向と平行に配設され、イメージセンサ23ay,
23byは、各マスク13,14のアライメントマーク
FAM1,FAM2、及びBAM1、BAM2の被露光部材
6の移動方向と平行な部分を読取るように、被露光部材
6の移動方向と直交して配設されている。そして、各イ
メージセンサ23ax,23ay、及び23bx,23
byから出力されるパルス出力でなる読取情報がコント
ローラ30に入力され、この読取情報に基づいて表マス
ク13と裏マスク14とのアライメントが行われる。
The image sensors 23ax, 23bx
Is the alignment mark FAM of each of the masks 13 and 14.
1, FAM1, and BAM1 and BAM2 are arranged in parallel to the moving direction of the exposed member 6 so as to read a portion orthogonal to the moving direction of the exposed member 6, and the image sensors 23ay,
23by is arranged orthogonal to the moving direction of the exposed member 6 so as to read the portions of the alignment marks FAM1 and FAM2 of the masks 13 and 14, and BAM1 and BAM2 parallel to the moving direction of the exposed member 6. ing. Then, each of the image sensors 23ax, 23ay and 23bx, 23
Read information, which is a pulse output output from by, is input to the controller 30, and the front mask 13 and the back mask 14 are aligned based on the read information.

【0023】[第1の実施形態]図4は、本発明の第1
の実施形態に係る両面露光部8の概略構成を示す構成図
である。 図4において、50a,50bは、マスクア
ライメント用のカメラであり、カメラ50aは、図2に
示した凸レンズ21a、ハーフミラー22a、及び1次
元のイメージセンサ23ax,23ayにより構成さ
れ、カメラ50bは、上記の凸レンズ21b、ハーフミ
ラー22b、及び1次元のイメージセンサ23bx,2
3byにより構成されている。また、51a,51b
は、照明器であり、照明器51aは、図2に示した凸レ
ンズ19aと発光ダイオード等の投光素子20aにより
構成され、照明器51bは、図2に示した凸レンズ19
bと発光ダイオード等の投光素子20bにより構成され
ている。これら2台のカメラ50a,50bは、それぞ
れカメラ駆動機構52a,52bによりXYθ方向に独
立して移動制御可能となっている。
[First Embodiment] FIG. 4 shows a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a schematic configuration of a double-sided exposure unit 8 according to the embodiment. 4, reference numerals 50a and 50b denote mask alignment cameras. The camera 50a includes the convex lens 21a, the half mirror 22a, and the one-dimensional image sensors 23ax and 23ay shown in FIG. The above-mentioned convex lens 21b, half mirror 22b, and one-dimensional image sensor 23bx, 2
It is composed of 3 by. Also, 51a, 51b
Is an illuminator, the illuminator 51a is composed of the convex lens 19a shown in FIG. 2 and the light emitting element 20a such as a light emitting diode, and the illuminator 51b is a convex lens 19a shown in FIG.
b and a light emitting element 20b such as a light emitting diode. The movement of these two cameras 50a and 50b can be independently controlled in the XYθ directions by the camera driving mechanisms 52a and 52b.

【0024】53は表側の焼枠(以下、表焼枠とい
う)、54は裏側の焼枠(以下、裏焼枠という)であ
り、これら表焼枠53、表焼枠54は、それぞれ、表マ
スク13、裏マスク14を真空吸着により保持できるよ
うに構成されている。また、表焼枠53は、表焼枠駆動
機構55によりXYθ方向に微小移動制御可能に構成さ
れ、裏焼枠54は、光源18bと対向する位置に固定さ
れている。表マスク13には、上記のように2つのアラ
イメントマークFAM1,FAM2が形成され、裏マスク1
4には、2つのアライメントマークBAM1,BAM2が形
成されている。
Reference numeral 53 denotes a front-side burning frame (hereinafter, referred to as a front-side burning frame), and reference numeral 54 denotes a rear-side burning frame (hereinafter, referred to as a back-side burning frame). The mask 13 and the back mask 14 are configured to be held by vacuum suction. Further, the case-burning frame 53 is configured to be able to control the minute movement in the XYθ directions by the case-burning frame driving mechanism 55, and the case-burning frame 54 is fixed at a position facing the light source 18b. Two alignment marks FAM1 and FAM2 are formed on the front mask 13 as described above.
In FIG. 4, two alignment marks BAM1 and BAM2 are formed.

【0025】また、カメラ50a,50b、カメラ駆動
機構52a,52b、及び表焼枠駆動機構55は、図1
に示したコントローラ30に接続されている。このコン
トローラ30は、キーボード、表示装置等を有するコン
ピュータシステムにより構成され、キー操作等によりカ
メラ駆動機構52a,52b、及び表焼枠駆動機構55
を制御することも可能になっている。
The cameras 50a and 50b, the camera drive mechanisms 52a and 52b, and the cover frame drive mechanism 55 are shown in FIG.
Is connected to the controller 30 shown in FIG. The controller 30 is constituted by a computer system having a keyboard, a display device, and the like, and has camera driving mechanisms 52a and 52b and a burning frame driving mechanism 55 by key operation or the like.
Can also be controlled.

【0026】コントローラ30は、カメラ50aで撮像
された表マスク13上のアライメントマークFAM1と
裏マスク14上のアライメントマークBAM1との重畳
画像に基づいて、アライメントマークFAM1とアライ
メントマークBAM1との相対的なずれを算出し、カメ
ラ駆動機構52a又は表焼枠駆動機構55を駆動制御す
ることにより、この相対的ずれを補正する。同様に、コ
ントローラ30は、カメラ50bで撮像された表マスク
13上のアライメントマークFAM2と裏マスク14上
のアライメントマークBAM2との重畳画像に基づい
て、アライメントマークFAM2とアライメントマーク
BAM2との相対的なずれを算出し、カメラ駆動機構5
2b又は表焼枠駆動機構55を駆動制御することによ
り、この相対的ずれを補正する。
The controller 30 determines a relative position between the alignment mark FAM1 and the alignment mark BAM1 based on a superimposed image of the alignment mark FAM1 on the front mask 13 and the alignment mark BAM1 on the back mask 14 captured by the camera 50a. This relative shift is corrected by calculating the shift and controlling the drive of the camera driving mechanism 52a or the cover making frame driving mechanism 55. Similarly, the controller 30 determines a relative position between the alignment mark FAM2 and the alignment mark BAM2 based on a superimposed image of the alignment mark FAM2 on the front mask 13 and the alignment mark BAM2 on the back mask 14 captured by the camera 50b. The shift is calculated and the camera driving mechanism 5
The relative displacement is corrected by controlling the driving of the burning frame driving mechanism 55 or 2b.

【0027】次に、本発明に特有なマスクロード処理を
説明する。両面露光部8にマスクをロードする場合は、
まず、裏マスク14を裏焼枠54に載置する。そして、
コントローラ30の表示画面に表示された画像を見て、
裏マスク14上のアライメントマークBAM1,BAM2
が、それぞれカメラ50a,50bの視野に入っている
か否かを確認する。この結果、アライメントマークBA
M1,BAM2が、それぞれカメラ50a,50bの視野
に入っていない場合は、コントローラ30の表示画面を
見ながらキー操作を行うことによりカメラ駆動機構52
a,52bをコントロールして、アライメントマークB
AM1,BAM2が、それぞれカメラ50a,50bの視
野に入るようにする。この場合、アライメントマークB
AM1,BAM2を同時に表示するのが好ましい。
Next, the mask load processing unique to the present invention will be described. When loading a mask on the double-sided exposure unit 8,
First, the back mask 14 is placed on the back firing frame 54. And
Looking at the image displayed on the display screen of the controller 30,
Alignment marks BAM1, BAM2 on back mask 14
Is in the field of view of the cameras 50a and 50b, respectively. As a result, the alignment mark BA
When M1 and BAM2 are not in the fields of view of the cameras 50a and 50b, respectively, a key operation is performed while looking at the display screen of the controller 30 so that the camera driving mechanism 52 is operated.
a, 52b to control the alignment mark B
AM1 and BAM2 are set to be within the visual fields of the cameras 50a and 50b, respectively. In this case, the alignment mark B
It is preferable to display AM1 and BAM2 simultaneously.

【0028】このキー操作により、アライメントマーク
BAM1,BAM2が、それぞれカメラ50a,50bの
視野に入った後は、コントローラ30の制御の下に、自
動的にアライメントマークBAM1,BAM2が、カメラ
50a,50bの視野中心に来るように、カメラ50
a,50bの位置決め制御が行われる。このように、カ
メラ50a,50bの視野中心でアライメントマークB
AM1,BAM2を撮像するようにしたのは、視野の周辺
部では光学系の収差により、アライメントマークBAM
1,BAM2が歪んで撮像され、マスクアライメントが正
確に行われなくなるのを防止するためである。
After the alignment marks BAM1 and BAM2 enter the field of view of the cameras 50a and 50b, respectively, by the key operation, the alignment marks BAM1 and BAM2 are automatically changed to the cameras 50a and 50b under the control of the controller 30. Camera 50
Positioning control of a and 50b is performed. As described above, the alignment mark B is set at the center of the visual field of the cameras 50a and 50b.
The reason why the images of AM1 and BAM2 are taken is that the alignment mark BAM is formed due to the aberration of the optical system at the periphery of the visual field.
This is to prevent the image of BAM2 from being distorted and mask alignment not to be performed accurately.

【0029】次に、表マスク13を表焼枠53に載置す
る。そして、コントローラ30の表示画面に表示された
画像を見て、表マスク13上のアライメントマークFA
M1,FAM2が、それぞれカメラ50a,50bの視野
に入っているか否かを確認する。この結果、アライメン
トマークFAM1,FAM2が、それぞれカメラ50a,
50bの視野に入っていない場合は、コントローラ30
の表示画面を見ながらキー操作を行うことにより表焼枠
駆動機構55をコントロールして、アライメントマーク
FAM1,FAM2が、それぞれカメラ50a,50bの
視野に入るようにする。この場合も、アライメントマー
クBAM1,BAM2を同時に表示するのが好ましい。
Next, the front mask 13 is placed on the front frame 53. Then, looking at the image displayed on the display screen of the controller 30, the alignment mark FA on the front mask 13 is displayed.
It is checked whether M1 and FAM2 are in the field of view of the cameras 50a and 50b, respectively. As a result, the alignment marks FAM1 and FAM2 are set to the camera 50a and the camera 50a, respectively.
If not in the field of view 50b, the controller 30
By operating the keys while viewing the display screen, the printing frame drive mechanism 55 is controlled so that the alignment marks FAM1 and FAM2 fall within the fields of view of the cameras 50a and 50b, respectively. Also in this case, it is preferable to display the alignment marks BAM1 and BAM2 simultaneously.

【0030】このキー操作により、アライメントマーク
FAM1,FAM2が、それぞれカメラ50a,50bの
視野に入った後は、コントローラ30の制御の下に、ア
ライメントマークFAM1とBAM1、及びアライメント
マークFAM2とBAM2のアライメントが自動的に行わ
れる。
After the alignment marks FAM1 and FAM2 enter the visual fields of the cameras 50a and 50b, respectively, by the key operation, under the control of the controller 30, the alignment marks FAM1 and BAM1 and the alignment marks FAM2 and BAM2 are aligned. Is done automatically.

【0031】このように、カメラと一方の焼枠を移動可
能に構成することにより、一方のマスクをマニュアルで
直接移動させずに済み、表マスクと裏マスクの双方のア
ライメントマークを簡単、短時間、高精度にカメラの視
野中央に入れることが可能となる。
As described above, by making the camera and one of the burning frames movable, it is not necessary to manually move one of the masks, and the alignment marks on both the front mask and the back mask can be easily and quickly formed. It is possible to place the camera in the center of the field of view with high accuracy.

【0032】なお、アライメントマークがカメラの視野
に入っていない場合の処理を、上記のようにキー操作で
行うことなく、カメラにて撮像された画像に基づいて、
コントローラ30により自動的に行うことも可能であ
る。
It should be noted that the processing when the alignment mark is not in the field of view of the camera is performed based on the image taken by the camera without performing the key operation as described above.
It is also possible to perform this automatically by the controller 30.

【0033】[第2の実施形態]図5は、本発明の第2
の実施形態に係る両面露光部8の概略構成を示す構成図
である。 本実施形態では、カメラ50a,50bは固
定し、表焼枠53と裏焼枠54の双方を移動可能にして
いる。すなわち、図5に示したように、表焼枠53を焼
枠駆動機構55によりXYθ方向に微小移動制御可能に
構成すると共に、裏焼枠54も、裏焼枠駆動機構57に
よりXYθ方向に微小移動制御可能に構成している。
[Second Embodiment] FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a schematic configuration of a double-sided exposure unit 8 according to the embodiment. In the present embodiment, the cameras 50a and 50b are fixed, and both the front and back burning frames 53 and 54 are movable. That is, as shown in FIG. 5, the front grill 53 is configured to be capable of minute movement control in the XYθ direction by the grill driving mechanism 55, and the back grill 54 is also minutely moved in the XYθ direction by the back grill driving mechanism 57. It is configured to be able to control movement.

【0034】本実施形態でのマスクロード処理において
は、表焼枠53、または裏焼枠54のどちらか一方を、
まず最初に、表焼枠駆動機構55、または裏焼枠駆動機
構57により移動して、表マスク13上のアライメント
マークFAM1,FAM2、または裏マスク14上のアラ
イメントマークBAM1,BAM2を、それぞれ第1実施
形態と同様の処理により、カメラ50a,50bの視野
中央に入れるようにする。
In the mask loading process according to the present embodiment, one of the front and back burning frames 53 and 54 is
First, the alignment marks FAM1 and FAM2 on the front mask 13 or the alignment marks BAM1 and BAM2 on the back mask 14 are respectively moved by the front and rear burning frame driving mechanism 55 or 57 to the first position. By the same processing as in the embodiment, the camera 50a, 50b is placed at the center of the visual field.

【0035】次に、他方の裏焼枠54、または表焼枠5
3を裏焼枠駆動機構57、または表焼枠駆動機構55に
より移動して、裏マスク14上のアライメントマークB
AM1,BAM2、または表マスク13上のアライメント
マークFAM1,FAM2を、それぞれ第1実施形態と同
様の処理により、カメラ50a,50bの視野中央に入
れるようにする。このような処理により、第1の実施形
態と同様の効果が得られることは言うまでもない。
Next, the other back-burning frame 54 or the front-burning frame 5
3 is moved by the back-burning frame drive mechanism 57 or the front-burning frame drive mechanism 55, and the alignment mark B on the back mask 14 is moved.
AM1, BAM2, or alignment marks FAM1, FAM2 on the front mask 13 are respectively placed in the center of the field of view of the cameras 50a, 50b by the same processing as in the first embodiment. It goes without saying that the same effect as in the first embodiment can be obtained by such processing.

【0036】なお、本発明は、上記の実施形態に限定さ
れることなく、種々応用変形可能である。例えば、第1
の実施形態においては、異なる回路パターン等が形成さ
れた複数種のマスクに対応できるようにするため、2台
のカメラは、それぞれ独立に移動可能に構成したが、2
台のカメラを1つのフレームに取付けて2台のカメラを
1つの駆動機構で一体に移動可能に構成することも可能
である。また、巻出し巻取り動作により搬送される長尺
部材の被露光部材に対して両面露光を行う両面露光装置
だけでなく、シート状の被露光部材に対して両面露光を
行う両面露光装置に適用することも可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously applied and modified. For example, the first
In the embodiment, the two cameras are configured to be independently movable in order to be able to cope with a plurality of types of masks on which different circuit patterns and the like are formed.
It is also possible to attach two cameras to one frame so that the two cameras can be moved integrally by one driving mechanism. In addition, the present invention is applicable not only to a double-sided exposure apparatus that performs double-sided exposure on a long member to be exposed to be conveyed by an unwinding operation, but also to a double-sided exposure apparatus that performs double-sided exposure on a sheet-shaped member to be exposed. It is also possible.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被露光部材の表裏両面側にそれぞれ所定のアライメント
マークを形成した表マスク、裏マスクをロードし、前記
アライメントマークを撮像手段により撮像して得られた
画像情報に基づいて自動的に表マスクと裏マスクとのア
ライメントを行う両面露光装置における自動アライメン
ト方法において、前記撮像手段、前記表マスク、前記裏
マスクのうちの少なくとも2つを駆動手段により駆動す
ることにより、前記表マスクと裏マスクにそれぞれ形成
された前記アライメントマークが前記撮像手段の視野中
央に入るようにして、前記表マスクと裏マスクとのアラ
イメントを行っているので、前記アライメントマークが
前記撮像手段の視野中央に入るような形で前記表マス
ク、裏マスクを被露光部材の表裏両面側にロードする処
理の自動化を図ることができ、この処理を簡単、迅速、
かつ高精度に行うことが可能となる。
As described above, according to the present invention,
A front mask and a back mask each having a predetermined alignment mark formed on both the front and back surfaces of the member to be exposed are loaded, and the front mask and the back mask are automatically set based on image information obtained by imaging the alignment mark by an imaging unit. In an automatic alignment method in a double-sided exposure apparatus that performs alignment with a mask, at least two of the imaging unit, the front mask, and the back mask are driven by a driving unit to form the front mask and the back mask, respectively. The alignment of the front mask and the back mask is performed such that the alignment mark is located in the center of the field of view of the imaging unit, so that the alignment mark is located in the center of the field of view of the imaging unit. Automating the process of loading front and back masks on both front and back surfaces of the exposed member Can be, this process simple, quick,
And it can be performed with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の両面露光装置における自動アライメン
ト方法を適用した両面露光装置の全体の概略構成を示す
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an overall schematic configuration of a double-side exposure apparatus to which an automatic alignment method in a double-side exposure apparatus of the present invention is applied.

【図2】両面露光部のカメラの構成を示す構成図であ
る。
FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a configuration of a camera of a double-sided exposure unit.

【図3】表マスク、及び裏マスクを示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a front mask and a back mask.

【図4】本発明の第1の実施形態を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

13:表マスク、14:裏マスク、30:コントロー
ラ、50a,50b:カメラ、53:表焼枠、54:裏
焼枠、52a,52b:カメラ駆動機構、55:表焼枠
駆動機構、57:裏焼枠駆動機構、FAM1,FAM2:
表マスク上のアライメントマーク、BAM1,BAM2:
裏マスク上のアライメントマーク。
13: Front mask, 14: Back mask, 30: Controller, 50a, 50b: Camera, 53: Front printing frame, 54: Back printing frame, 52a, 52b: Camera driving mechanism, 55: Front printing frame driving mechanism, 57: Back-burning frame drive mechanism, FAM1, FAM2:
Alignment marks on table mask, BAM1, BAM2:
Alignment mark on the back mask.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被露光部材の表裏両面側にそれぞれ所定
のアライメントマークを形成した表マスク、裏マスクを
ロードし、前記アライメントマークを撮像手段により撮
像して得られた画像情報に基づいて自動的に表マスクと
裏マスクとのアライメントを行う両面露光装置における
自動アライメント方法において、 前記撮像手段、前記表マスク、前記裏マスクのうちの少
なくとも2つを駆動手段により駆動することにより、前
記表マスクと裏マスクにそれぞれ形成された前記アライ
メントマークが前記撮像手段の視野中央に入るようにし
て、前記表マスクと裏マスクとのアライメントを行うよ
うにしたことを特徴とする両面露光装置における自動ア
ライメント方法。
1. A front mask and a back mask each having a predetermined alignment mark formed on both the front and back surfaces of a member to be exposed are loaded, and the alignment mark is automatically obtained based on image information obtained by imaging the alignment mark with an imaging unit. An automatic alignment method in a double-sided exposure apparatus that performs alignment between the front mask and the back mask, wherein at least two of the imaging unit, the front mask, and the back mask are driven by a driving unit, and An automatic alignment method in a double-side exposure apparatus, wherein the alignment of the front mask and the back mask is performed such that the alignment marks formed on the back mask enter the center of the field of view of the imaging unit.
JP10332144A 1998-11-24 1998-11-24 Automatic alignment method for double-sided aligner Pending JP2000155430A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10332144A JP2000155430A (en) 1998-11-24 1998-11-24 Automatic alignment method for double-sided aligner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10332144A JP2000155430A (en) 1998-11-24 1998-11-24 Automatic alignment method for double-sided aligner

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000155430A true JP2000155430A (en) 2000-06-06

Family

ID=18251644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10332144A Pending JP2000155430A (en) 1998-11-24 1998-11-24 Automatic alignment method for double-sided aligner

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000155430A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030055837A (en) * 2001-12-27 2003-07-04 한맥전자 (주) Exposure machine for lead frame printed circuit board
JP2005537656A (en) * 2002-08-27 2005-12-08 オブデュキャット、アクチボラグ Device for transferring a pattern to an object
KR100562413B1 (en) * 1999-12-22 2006-03-17 삼성테크윈 주식회사 Light-exposure machine
JP2006267191A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd Exposure device
KR100918600B1 (en) * 2001-02-15 2009-09-25 사이픽스 이미징, 인코포레이티드 Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web
CN102968000A (en) * 2012-11-21 2013-03-13 京东方科技集团股份有限公司 Dual-sided processing method and exposure device
KR20190049561A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
KR20190049562A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus
KR20190049563A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
KR20190064472A (en) 2017-11-30 2019-06-10 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Mask pair, double-sided exposure apparatus and mask exchange method
JP2022033962A (en) * 2017-10-31 2022-03-02 株式会社アドテックエンジニアリング Double-sided exposure device and double-sided exposure method

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100562413B1 (en) * 1999-12-22 2006-03-17 삼성테크윈 주식회사 Light-exposure machine
KR100918600B1 (en) * 2001-02-15 2009-09-25 사이픽스 이미징, 인코포레이티드 Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web
KR20030055837A (en) * 2001-12-27 2003-07-04 한맥전자 (주) Exposure machine for lead frame printed circuit board
JP2005537656A (en) * 2002-08-27 2005-12-08 オブデュキャット、アクチボラグ Device for transferring a pattern to an object
US7754131B2 (en) 2002-08-27 2010-07-13 Obducat Ab Device for transferring a pattern to an object
JP2006267191A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd Exposure device
CN102968000A (en) * 2012-11-21 2013-03-13 京东方科技集团股份有限公司 Dual-sided processing method and exposure device
US9141000B2 (en) 2012-11-21 2015-09-22 Boe Technology Group Co., Ltd. Double-surface manufacturing method and exposure apparatus
KR20190049561A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
KR20190049562A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus
KR20190049563A (en) 2017-10-31 2019-05-09 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
JP2022033962A (en) * 2017-10-31 2022-03-02 株式会社アドテックエンジニアリング Double-sided exposure device and double-sided exposure method
JP7121184B2 (en) 2017-10-31 2022-08-17 株式会社アドテックエンジニアリング Double-sided exposure device and double-sided exposure method
KR102622294B1 (en) 2017-10-31 2024-01-08 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
KR20240005244A (en) 2017-10-31 2024-01-11 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Double sided exposure apparatus and double sided exposure method
KR20190064472A (en) 2017-11-30 2019-06-10 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Mask pair, double-sided exposure apparatus and mask exchange method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3224041B2 (en) Exposure method and apparatus
JP2007102094A (en) Aligner
KR20090017585A (en) Exposure method and exposure apparatus
WO2007049640A1 (en) Exposure method and exposure apparatus
JP5633021B2 (en) Alignment method, alignment apparatus, and exposure apparatus
JP2000155430A (en) Automatic alignment method for double-sided aligner
TWI391796B (en) Exposure apparatus and exposed substance
EP1293836B1 (en) Device for exposure of a strip-shaped workpiece with a meander correction device
JP3466893B2 (en) Positioning apparatus and projection exposure apparatus using the same
CN111856886A (en) Direct writing type exposure device
JP3936546B2 (en) Exposure apparatus, substrate positioning method in the apparatus, and flat display panel manufacturing method
JP5076233B2 (en) Method for adjusting initial position and orientation of exposure mask
JP2003186201A (en) Exposure device equipped with foreign matter inspecting function and foreign matter inspecting method of the same device
JP2014071315A (en) Alignment mark detection device, proximity exposure apparatus, and alignment method of substrate
JP3180004B2 (en) Exposure film alignment method and alignment apparatus
JPH02147182A (en) Laser beam trimming device
JP4609167B2 (en) Exposure system, exposure method, and microdevice manufacturing method
JP4631497B2 (en) Proximity exposure equipment
JP2815762B2 (en) Method of aligning film and reticle in film exposure apparatus
JP2001022098A (en) Alignment device, substrate to be exposed and alignment mark in aligner
JPH03289662A (en) Device and method for film exposure
JPH09283403A (en) Aligner
JP3246300B2 (en) Automatic alignment method and apparatus for mask and workpiece
JP7041201B2 (en) Exposure method
JP3593467B2 (en) Alignment method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051117

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20060425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080722

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081125