JPS62103396A - 耐レトルト性に優れるテインフリ−スチ−ルの効率的な製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業］二の利用分野〉 本発明は金属クロム被膜とクロム水和耐化物被膜との密
着性およびクロム水和醇化物故ｌりと４月との密着性に
優れたレトルト処理用ティンフリースチールの製造方法
に係り、特に、１液法による酎レトルト処理性に優れる
ティンフリースチールの製造方法に関する。

〈従来技術とその問題点〉 一般に、ティンフリースチールの製造方法には、２液法
と１液法がある。２液法は、金属クロムとクロム水和酸
化物被膜とを別々の処理液を用いて析出させるものであ
り、１液法は１種類の処理液のみで、金１ぷクロムとク
ロム水和酸化物被膜を形成させる方法である。

２液法の場合、クロムめっき後水洗を行ってから電解ク
ロム処理を行うが　水洗だけではクロムめっき掖の電解
クロム酸処理浴への持込みは防１Ｆできるが、クロムめ
っき時に生成したクロム水和醇化物中にＪ（析しためっ
き助剤アニオンの除去は困難である。特に硫耐やその化
合物を助剤とするクロムめっきにおいては、その後の電
解クロム酸処理を行っても最終的に生成したクロム水和
醇化物中に硫酸根が析出して塗膜との密着性を阻害して
いる。また製缶後内容物を充填した後のレトルト処理中
や、更に経時後、と述したようにクロム水利酸化物中に
共析したアニオンが溶出して耐レトルト処理性を劣化さ
せる要因となっている。このような問題を解決するもの
として特願昭５６−６２７６６号が提案しているように
クロムめっき後、クロムめっき浴中で逆電解処理（陽極
処理）を施し、ついで電解クロム酸処理を施す方法があ
る。

しかしながら２液法は金属クロムとクロム水和酸化物被
１２を別々に制御できるという長所があるものの、薬液
濃度管理が繁雑になり、また設備的、メンテナンス上ｌ
液性と比べ不利である。

一方ｌ液法は上記のように薬液濃度管理、設備メンテナ
ンス上、２液法より有利であるが、２液法と同様にクロ
ム水利酸化物中に析出するアニオンの問題があり、また
、１種類の液にて、金属クロムとクロム水和酸化物被膜
を形成させなければならず、従って非常に厳格な１度管
理が必要となり、耐レトルト処理性に優れたティンフリ
ースチールを製造することは、非常に困難であった。

〈発明の目的〉 本発明はト述した各問ｍ屯、即ち、処理液濃度管理の繁
雑さ或いは困難さ、また、設備の複雑さ、メンテナンス
性などの問題点を解消して、なおかつ、耐レトルト性に
優れたティンフリースチールを得るためのティンフリー
スチールの製造方法を提供することを目的とする。

〈発明の構成〉 本発明は、耐レトルト処理性に優れたティンフリースチ
ールを”ＪＪ　造するに際し。

（１）下記組成 ＣｒＯ３４０〜１２０　ｇｅｌ Ｈ２ＳＯ４／ＣｒＯ３０，４〜１．２　ｗｔ％Ｆ／Ｃｒ
Ｏ３０，１”　Ｌ、Ｓ　ｗｔ％を有する複数のめっき浴
を用い、複数のめっき浴の電極の内最初と最後の電極以
外の少なくとも１個の電極で陽極処理を行い、それ以外
の電極では陰極処理を行うことを特徴とする耐レトルト
処理性に優れたティンフリースチールの製造方法を提供
するものである。

以ｒに本発明を更に詳細に説明する。

、、４：、発明においては、耐レトルト処理性に優れた
ティンフリースチールを製造するに際し、下記のクロム
めっき液の組成 ＣｒＯ３４０〜１２０　ｇｅｌ Ｈ２ＳＯ４／ＣｒＯ３０，４〜１．２　ｗｔ％Ｆ／Ｃｒ
Ｏ３０，１〜Ｌ、６ｗｔ％ を右する複ａ個のめっき浴を用い、例えば第１図に示す
ようなめっきラインによりクロムめっきを行う。このめ
っき浴は、めっき効率２０％以上を確保できる。第１図
において、１０はめっき浴、１．２，３．４．５および
６は電極、７はコンダクタ−ロール、８はめっき液、９
はターンロー１し、１１は鋼板である。

これらのめっき浴において、まず第１のめっき浴１０−
１の゛心極１でクロムめっき後′心棒２で陽極処理を施
し、゛心極ｌの電流をコントロールすることによりクロ
ム酸化）１り品をコントロールする。

第２のめっき浴１０−２の電極でも同様に電極でクロム
めっきし、電極４で陽極処理を行ない、第３のめっき浴
１０−３の’ＣＣ５０よび６では陰極処理（クロムめっ
き）を行ない、耐レトルト処理性に優れた金属クロム、
クロム酸化膜を形成させることができる。第１図に示す
例ではめっき浴は３個の例を示すが、めっき浴は複数で
あれぽいくつでもよい。

すなわち、本発明においては、最終的にクロム水和醇化
膜を析出させる曲のクロムめっき過程において、すなわ
ち、複数のめっき浴の電極の内最初と最後の゛心棒を除
く少なくとも１個の電極で陽極処理をｉ！ｌ続または断
続的に実施する。この陽極処理は、クロムめっき過程で
析出させたクロム水和耐化１１りおよび金属クロムの−
・部を溶出させ、耐経めっき前の板面を活性化させると
同時に、アニオンを低減させるために行う。次の最終陰
極処理では活性化ｙれた板１Ｉ７ｉに緻密なりロム醇化
膜が形成され　］酎耐レトルト性の良好なティンフリー
スチールか得られる。

次に本発明で用いるクロムめっき液の成分の限定理由に
つき述べる。

ＣｒＯ３か４０ｇ１文未満では電流効率が低く、金属ク
ロムが析出しにくく、また１２０ｇ／ｉ超では経済上下
別となるのでＣ「０３は４０〜１２０ｇ／文とした。

Ｈ２Ｓ０４　／ＣｒＯ３が０．４　ｖｔ％未猫ではクロ
ム水和酸化物の析出効率が低く、ばらつきが生じ、まだ
１．２　ｗｔ％超では逆にクロム水和酸化物被膜を溶解
する作用が大きくなると同時に経済的にも不利である。

従って、）！２　ＳＯ４／ＣｒＯ３の比を０．４〜１．
２ｗｔ％とすれば、クロム水和酸化物被膜を安定して確
保することができる。

また、　Ｆ／ＣｒＯ：＋を０．１　ｗｔ％以上とするこ
とにより、クロム水利酸化物被膜の析出効率をＨ２ＳＯ
４のみの場合よりも安定させることができる。但し、Ｌ
、Ｓ　ｗｔ％超とすると、Ｈ２ＳＯ４と同様クロム水和
酸化物を溶解する作用が大きくなり、クロム水和酸化物
被膜の安定確保が困難になると同時に、経済的にも不利
となるので、Ｆ／ＣｒＯ３は０．１〜１．６誓ｔ％とし
た。

〈実施例〉 第２図に示すように、第１および第２めっき浴１ｏ−１
および１０−２を右するクロムめっき設備において、第
１のめっき浴１０−１の電極１゜２で陰極処理し、第２
のめっき浴１０−２の電極３で陽極処理し、その後、第
２のめっき浴１０−２の電極４で陰極処理した。液組成
は、第３図に示したように、本発明例はＯ印で示し、ま
た比較例はＸ印で示した。なお第３図の斜線内は本発明
の範囲を示す。この時のＣｒＯ３濃度は６０ｇ／Ｍであ
った。

第３図に示す組成をイ４するめっき浴を用い、第２図に
示すめっきラインにより」−述の如く鋼板にめっきした
。得られた種々の鋼板について、下記の耐レトルト処理
性試験を行った。

その試験結果を第４図に示す。これから明らかなように
、本発明方法により得られたティンフリースチールは比
較例で得られたティンフリースチールに比べて耐レトル
ト処理性が優れていることがわかる。

（１）　１ｆＦｌレトルト処理性試験 ２枚のティンフリー鋼板を塗装して焼付けた後、板どう
しの一部を重ねて接着する。これを曲げた状態（接着部
が頂点となるようにする）でし［・ルト釜に入れて、所
定の温度に加熱する。この加熱してから接着部が剥離す
るまでの時間を調べた。

〈発明の効果〉 本発明方法においては、複数のめっき浴の浴組成を、　
ＣｒＯ３４０−１２０ｇ／ｌ、　Ｈ２ＳＯ４／ＣｒＯ３
０．４〜１．２　ｗｔ％、　Ｆ／ＣｒＯ３０，１〜１．
Ｅｉ　ｖｔ％とし、複数のめっき浴の電極の内、最初と
最後の電極以外の少なくとも１個の電極で陽極処理し、
それ以外の電極では陰極処理することにより、耐レトル
ト処理性に優れたティンフリースチールが製造される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法を説明するためのクロムめっきライ
ンの線図である。 第２図は実施例で用いためっきラインの線図である。 第３図は本発明例および比較例のめっき浴組成を示す図
である。 第４図は１耐レトルト処理性試験の試験結果を示すグラ
フである。 符壮の説明 ｌ・・・陰極処理用電極、２・・・陽極処理用電極、３
．４，５．６・・・陰極処理用゛電極、７・・・コンタ
クタ−ロール、８・・・めっき液、９・・・ターンロー
ル、１０・・・めっき浴、１１・・・鋼板 特許出願人　　川崎製鉄株式会社 代理人　弁理ト　　渡　辺　望　捻 回　　　ゴ１′理十　　　石　　井　　陽　　−ＦｆＧ
、Ｉ Ｆ　Ｉ　Ｇ、　２ ＦＩＧ、３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 耐レトルト処理性に優れたティンフリースチールを製造
   するに際し、 （１）下記組成 ＣｒＯ＿３　　　　　　　　　　４０〜１２０ｇ／ｌＨ
   ＿２ＳＯ＿４／ＣｒＯ＿３　　０．４〜１．２ｗｔ％Ｆ
   ／ＣｒＯ＿３　　　　　　　　０．１〜１．６ｗｔ％を
   有する複数のめっき浴を用い、複数のめっき浴の電極の
   内最初と最後の電極以外の少なくとも１個の電極で陽極
   処理を行い、それ以外の電極では陰極処理を行うことを
   特徴とする耐レトルト処理性に優れたティンフリースチ
   ールの製造方法。