JPS62103389A - 微小部分のメツキ装置 - Google Patents

微小部分のメツキ装置

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JPS62103389A
JPS62103389A JP24292585A JP24292585A JPS62103389A JP S62103389 A JPS62103389 A JP S62103389A JP 24292585 A JP24292585 A JP 24292585A JP 24292585 A JP24292585 A JP 24292585A JP S62103389 A JPS62103389 A JP S62103389A
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Yasuto Murata
康人 村田
Kenji Yamamoto
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は微小部分、特にコネクタ一端子のフォーク状
先端にある凸状のメッキ対象部の如き微小部分のメッキ
に好適な微小部分のメッキ装置に関する。
〈従来の技術〉 メッキ物として、コネクタ一端子を例に挙げて従来の技
術を説明する。コネクタ一端子は、バイロフト孔を有す
る連続帯状部に櫛歯状で複数形成されており、先端には
微小面積(例えば11−2以下)の凸状のメッキ対象部
を各々備えている。このメッキ対象部にメッキを施す手
段として従来より種々の技術が採用されてきた。例えば
凸状のメッキ対象部を含む先端の部分全体をメッキ槽に
浸漬し液面制御によってメッキ液を施す部位を特定して
メッキする浸漬メッキ装置、又はメッキしたくない部分
をマスクで覆いメ・7キ液を噴射して施す噴射メッキ装
置等(特開昭59−126784号公報、特開昭57−
161084号公報、特開昭55−83180号公報参
照)が代表的なメッキ装置として知られている。
しかしながら、このような従来のメッキ装置にあっては
、浸漬メッキ装置の場合コネクタ一端子の先端は凸状の
メッキ対象部を含め全面的にメッキされるためメッキエ
リア、特に微小面積でのメッキエリアの明確な限定が困
難であり、メッキが金メッキの如き貴金属メッキであれ
ば当然貴金属消費量がその分多くなってしまい、又マス
ク使用の噴射メッキ装置の場合メッキ対象部が平坦形状
であればともか(曲折されたり異形の複雑な形状のもの
ではマスク加工が非常に大変で完全にマスキングさせる
ことが困難であるため、やはりメッキエリアの明確な限
定が困難となり貴金属消費量の削減も十分に行なえない
という不具合がある。
そこでこの出願人はブラシメッキの技術を改良し、不溶
性の陽極表面に、メッキ液を常時補給自在とした保液材
を被覆して設は且つ全体をコネクタ一端子のフォーク状
の間隙と相応する幅に調整しておいて、保液材表面に接
触しつつ移動してゆ(コネクタ一端子の先端部にメッキ
する技術を先に提案した(特願昭60−89016号参
照)。
この技術は、第14図で概略的に示される如く、陽極1
表面の保液材2と接触してゆくコネクタ一端子の先端部
3の内の接触部分4にのみメッキ5が施されるため先の
従来技4JiをC部分メッキ」と称すればこの技術は寄
り一層メッキエリアを小さくした「微小部分メッキ」と
称せる程に貴金属消費量の削減と、メンキエリアの限定
化とが達成できたものである。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、先の提案に係る技術ではメッキ液の受は
渡しはメッキ液中より出し入れする保液材を介して直接
行なうため、保液材の材質、保液の状態、保液量の大小
等の保液材の条件によってメッキ対象部に受は渡される
メツキン&の量、メンキ液の施される範囲(面積)等が
直接影響を受けがちである。このため保液材の条件に左
右されないでメッキエリアを厳密に特定でき且つそれを
長時間にわたり維持でき、連続メッキ処理し易い微小部
分のメッキ装置が望まれるものであった。
〈問題点の解決手段〉 この発明に係る微小部分のメッキ装置は上記の要望に応
じて開発されたもので、この発明の第1実施例を示す第
1図〜第5図を参照して、その構成を説明すると、「メ
ンキ物」としてのコネクタ一端子IOの凸状のメッキ対
象部11が接触又は近接状態で移動してゆく相手方とし
て、メッキ液供給ボックス12上に立設され耐摩耗性と
電気絶縁性のある全体が厚さの薄いプレート素子13か
ら形成されるメッキ液供給体14を用いるようにしてい
る。そしてこのプレート素子13外面のメッキ対象部1
1と対応する部位又はその近辺には、複数のメッキ液供
給孔17がメッキ対象部11の移動方向で且つそのパス
ライン16に沿い非連続的に形成しである。そしてこれ
ら複数のメッキ液供給孔17にメッキ液18を常時供給
すべく、メッキ液供給ボックス12の内部を複数のメッ
キ液供給孔17に連通してメッキ液を滲出せしめる微小
幅のメッキ液通路19がプレート素子13内部の略全体
にわたって設けてあり、且つこのメッキ液通路19内に
「アノード」としての網体20を配したものとしている
〈作 用〉 そしてこの発明は前記の手段により、コネクタ一端子1
0の凸状のメッキ対象部11がプレート素子13に接触
又は近接状態で移動してゆく際、〔この時コネクタ一端
子10は適宜の手段でカソード化されており〕、メッキ
対象部11はプレート素子13外面に開孔しているメッ
キ液供給孔17の開孔外端21に臨むこととなり、そこ
に供給されているメッキ液18に触れることでメッキ液
18がメッキ対象部11に施される。この時メッキ液1
8を、メッキ液供給孔17の開孔外端21に滲出するよ
うな供給量と供給状態で供給するようにしておくことで
、メッキ対象部11の凸状の突端近辺22だけでなくそ
の近辺の他の部分23にも均等量のメッキ液18がそれ
もエリアを限って施されることになる。そして、プレー
ト素子13内部のメッキ液通路19に配した綱体20が
メッキ液供給孔17の開孔内端24に臨み且つこの網体
20からメッキ対象部11までの距離は、プレート素子
13の厚さが全体的に極めて薄いものとしであることに
より、極めて短かいものとなって、上記の突端近辺22
のみならず他の部分23に金属イオンを均等に供給でき
ることになる。従って、突端近辺22及び他の部分23
にほぼ均等な厚さのメッキ層を析出し得ることになる。
そして、かかる電気メッキの間中、メッキ液供給ボック
スI2内のメッキ液18に所定圧力を付与しておくこと
により、メッキ液18はメッキ液通路19内を流れメッ
キ液供給孔17の開孔内端24より開孔外端21に常時
必要にして十分な量が供給されるものであり、コネクタ
一端子10を移動させれば各々のメッキ対象部11は各
々のメッキ液供給孔17から滲出する新鮮なメッキ液1
8の供給を連続的に受け、メッキ液18の施された部分
、それも微小部分が、前記のメッキ対象部11として特
定されるのでメッキエリアを限定しながら連続的な微小
部分メッキを施せるものである。
〈実施例〉 次に実施例を説明する。尚、各実施例で共通する部分に
ついては同一符号を以って示し重複する説明は省略する
ものとする。
第1実施例 第1図〜第5図を参照して第1実施例を説明する。
「メッキ物」としてのコネクタ一端子lOは連続瀞状部
25の下方に櫛歯状に複数形成され、しかも連続幣状部
25の長手方向と直角交差方向に全体がフォーク状のも
のとして形成されている。
そして、メッキ対象部11は左右一対の先端部分の互い
に向き合う側面で三角形の凸状を呈している。従って凸
状のメッキ対象部11は左右一対存在することになり、
微小部分メッキも左右一対のメッキ対象部IIに同時に
施すことになるが、説明の便宜上、以下では右側のメッ
キ対象部11にのみ符号を付して説明し、双方について
説明する場合は符号を重ねて[メッキ対象部11.lI
Jとして述べる。
メッキ対象部11はパスライン16に沿って移動できる
ようにしてあり、このため連続帯状部25のパイロット
孔26に適合自在なピン27を円周面に備えるスプロケ
ット28とこのスプロヶソ1−28へ押圧力を付与する
ロール15が一対設けてあり、コぶフタ一端子10をカ
ソード化するためにロール15は陰極電源29に接続し
である。
メッキ液供給体14はパスライン16に沿って配される
もので、メッキ液供給ボックス12上に支持板30で支
持・立設された、耐摩耗性と電気絶縁性とを少なくとも
有する材質のものでしがも全体が厚さの薄い、プレート
素子13から形成しである。メッキ対象部11.11に
対応させてプレート素子13も左右一対のものとして示
しであるが、同一の形状、構造のものとしであるので、
上記のメッキ対象部IIと同じく右側のプレート素子1
3について主に説明し、双方の説明が必要な場合[プレ
ート素子13,13Jとして以下に示す。尚、プレート
素子I3は厚さの薄いものであるため支持板30に取付
ける前に他の補助支持手段(図示せず)を介在させても
よく、又プレート素子13を重ねるようにして取付は支
持板3゜で支持するようにしてもよい。   ゛プレー
ト素子13は耐摩耗性と電気絶縁性とを満足させる材質
で形成するものであり、図示の例ではセラミック製とし
であるが、それ以外にもP■C,ポリプロピレン、エポ
キシ、クロス入りのエポキシ含浸板、テフロン(登録商
標)、ポリイミド、ガラス等の素材を単独的に又は組合
わせて採用できる。ところで、このセラミック製のプレ
ート素子13は、コネクタ一端子10のフォーク状の先
端部分にあるメッキ対象部11.11間の間隔<p>が
非常に小さなものと設定しであるので、この間隔(1)
に応じて全体の厚さくtlが極薄(例えば0.05m■
〜0.25n+)のものとじてあり、プレート素子13
.13内部の微小幅のメッキ液通路19も同じく非常に
幅狭(例えば0゜05〜0.3+n)なサイズのものに
して、メッキ対象部11.11間にプレート素子13.
13が入り込めてメッキ対象部11.11が丁度プレー
ト素子13.13外面に接触できる程のものとして形成
される。
メッキ液通路19の形成の仕方はプレート素子13.1
3の間の上部にプレート素子13と同材質のシール体3
1を介在させるか又は適宜の接着剤を施せばよく、プレ
ート素子13.13の内部の殆ど全体にわたって形成し
ておくものである。
〔尚、メッキ液通路19の両側のシールも図示せぬが同
様のものとする。〕そしてメッキ液通路19を形成する
際に、プレート素子13.13間に「アノード」として
白金層の網体20を介在させる。
この網体20は陽極電源32に接続してあり、メッキ液
供給ボックス12の内部33とメッキ液通路19内とに
位置するようにし、内部33では横糸34及び縦糸35
が編成された状態を呈しメッキ液通路19内では横糸3
4を省略し縦糸35のみが小間隔で立設している状態を
呈せしめて「アノード」の厚さを薄クシ、内部33にあ
るメッキ液18に圧力が加わればメッキ液通路19内の
そして縦糸35間の狭い通路36を伝わり上昇して複数
のメッキ液供給孔17内に流れ、メッキ液通路19側の
開孔内端24よりプレート素子13外面側の開孔外端2
1へ滲出できるようにしである。
尚、複数本立設状態とされる縦糸35はその上部がそれ
ぞれメッキ液供給孔17の開孔内端24に臨むように配
置され、「アノード」としてメッキ対象部11と極めて
短かい距離を保てるようにしておくものである。
ところで、プレート素子13は、その外面の、メッキ対
象部11との対応する部位又はその近辺にパスライン1
6に沿ってメッキ対象部11の凸状形状に相応させた断
面形状の溝15が形成してあり、このs15にはその長
手方向で非連続的に複数のメッキ液供給孔17が開孔さ
れ、上記の開孔外端21は溝15の底に位置するように
なる。
図示の例で、メッキ対象部11は三角形の突出形状とさ
れており、溝15も三角形の断面形状のものとしてあっ
て、溝15の幅はメッキ液供給孔17の孔径(例えば0
.05〜0.5龍φ)サイズに相応するものと設定しで
ある。メッキ液供給孔17は図示の例で単数列のものと
されているが、これを複数列のものとすることも自由で
ある。
尚、前述の如く溝15の底にある開孔外端21とメッキ
液通路19側の開孔内端24との距離は、極薄サイズの
プレート素子13に溝15を凹設したため更に小さくな
り (例えば0.1mm) 、rアノード」とメッキ対
象部11との距離がこの結果極めて短かいものとされる
そしてプレート素子13を前述の如くセラミック製とし
た場合で、第1図に示すように横長状のものにする場合
、1枚物として形成し難く途中で接合することになるが
、この時はメッキ対象部11.11の移動方向37に対
し交差方向の傾斜合わせ面38で接合し、溝15に接触
してゆくメッキ対象部11.11がひっかからぬように
することが望ましい(第3図参照)。
次にこの第1実施例で示した微小部分のメブキ装置の使
用状態を説明する。
コネクタ一端子10はロール15を介してカソード化さ
れ且つスプロケット28との間に挟持されつつ室内され
て移動方向37に移動するので、メッキ対象部11.1
1はパスライン16上を移動して溝15内に接触又は近
接状態で移動してゆくことになる。
一方、メッキ液供給ボックス12の内部33でメッキ液
18に圧力が付与され或は図示せぬポンプで圧力の付与
されたメッキ液18が内部33に供給されると、メ・ツ
キ液18はメッキ液通路19内のそして「アノード」と
しての縦糸35間の狭い通路36を上昇し、メッキ液供
給孔17の開孔内端24から開孔外端21に流れ、そこ
で、滲出状態を呈す。
メッキ対象部11.11が溝15内に接触又は近接して
いる時、その三角形の突端近辺22はT皮溝15の中央
に位置し、415の底にある開花外端21で滲出してい
るメッキ液18は突端近辺22に触れて突端近辺22の
上下部へと溝15の幅より若干法がるが、その広がりは
限定されたものとなり突端近辺22及びそこに隣り合う
突端近辺22の上下部である他の部分23にほぼ均等に
施される。
従って、各コネクタ一端子10のメッキ対象部LL、1
1に、連続して微小部分メッキが、それも三角形の凸状
の部分で突端近辺22を含む、他の部分23にメッキエ
リアを限定した均等な厚さの微小部分メッキが、行なわ
れる′ことになる。
ところで以上の第1実施例にあっては溝15をプレート
素子13の外面に形成しであるが、溝15を省略し、a
15なしの一対のプレート素子13.13の厚さをメッ
キ対象部11.11間に十分大る程のサイズとしてもよ
い。又プレート素子13.13は間にメッキ液通路19
を残して1枚物を2つ折りした形状のものにしてもよい
第2〜第4実施例 先の第1実施例でメッキ液供給孔17の孔形状は「丸孔
」とされ、三角形のメッキ対象部11の突端近辺22と
その隣り合う他の部分23とに均等な厚さのメッキ層が
形成され、換言すると三角形のメッキ対象部11の上部
のメッキ層39と下部のメッキ層40とが均等に形成さ
れる(第5図参照)ものであったが、開孔外端21の孔
形状は「丸孔」に限定されず以下の如く他の形状が採用
できる。
第6図に示す゛第2実施例は開口外端21の孔形状を逆
三角形にした場合を示す。この逆三角形のメッキ液供給
孔41を用いると、上部42の方が下部43より電流密
度が高くなるので、メッキ対象部11の上部のメッキ層
39の方を下部のメッキ層40より厚く析出できる。
第7図に示す第3実施例は、第2実施例とは逆に正三角
形のメッキ液供給孔44を採用し、下部のメッキ層40
の方を上部のメッキ層39より厚く析出させるものであ
る。
第8図に示す第4実施例は、四角形のメッキ液供給孔4
5を採用することで、上部のメッキ層39と下部のメッ
キ層40とが均等厚さでしかも第5図の第1実施例の場
合に比べてより厚くメッキ層39.40を析出させたも
のである。
このように第2〜第4実施例によればメッキ液供給孔1
7.41,44.45の形状を変えることにより、メッ
キ対象部11.11に施すメッキ層のメッキエリアを限
定しつつ厚さを上部側と下部側とで調整できることにな
る。
第5実施例 第9図及び第10図は第5実施例を示す図である。先の
実施例が「アノード」として網体2oを使用しているの
に対し、この実施例では複数本の縦スリツト状の通路4
6が設けである薄板47が「アノード」として採用され
ている。薄板47は、フツート素子13.13間に挾持
される如くに配置され、挾持された状態で通路46の下
部48はメッキ液供給ボックス12の内部33と連通し
且つ上部49はメッキ液供給孔17と連通ずる状態とな
り、メッキ液18が内部33からメッキ液供給孔I7へ
と上昇して流れ易いように通路46の幅サイズは掻細幅
のものに設定されている。
筆i夫泪± 第11図は第6実施例を示すもので、プレート素子13
は左側にのみ配置され、第1実施例の両側メッキに対し
て片側メッキができるようにしである。この場合、メッ
キ液供給孔17は左側のプレート素子13に形成してあ
り、右側のプレート50には形成していない。尚プレー
ト5oのサイズ、材質等はプレート素子13と同一のも
のが採用しである。
第コU凱 第12図は第7実施例を示す図である。この実施例では
薄板状の素材を折り曲げて左右一対のプレート素子13
.13を形成している。従って、メッキ液通路19の上
部をシールするシール体31は省略されている。
第8実施例 第13図は第8実施例を示す図である。この実施例では
メッキ物が湾曲凸状のメッキ対象部11゜11を有し、
溝51はメッキ対象部11.11の形状に合わせ浅い底
の湾曲断面形状のものとしてあり、又溝51の上下両部
に2つの開孔外端52゜53が各々形成されるように上
下で一対のメッキ液供給孔54.55が設けである。
この実施例で判明するように、溝51の断面形状及びサ
イズはメッキ対象部11の凸状形状及びサイズに相応さ
せて種々のものが採用可能であり、溝51の深さも深い
もの浅いものと大小さまざまのものが採用できる。又メ
ッキ液供給孔54,55の形成位置、形成数、孔径のサ
イズ等も同様にメッキ対象部11の形状、サイズ等の条
件に相応させて種々のタイプのものを採用でき、例えば
第13図で下方のメッキ液供給孔55を省略し、「メッ
キ物」のうち上部の更に微小面積の湾曲面部56のみを
「メッキ対象部」として選定することも可能である。
〈効 果〉 この発明に係る微小部分のメッキ装置は以上説明してき
た如き内容のものなので多くの効果が回持でき、その内
の主なものを列挙すれば以下の通りである。
(A)プレート素子の外面で、メッキ対象部と対応する
部位又はその近辺にメ・ツキ液供給孔の開孔外端があり
そこにメッキ液が滲出させであることによりメッキ対象
部に施されるメッキ液の液量は多からずそして少なから
ず、しかも滲出している位置が特定されているためメッ
キ液を受は取るメッキ対象部のメッキエリアが明確に限
定され、(B)メッキ液供給孔のサイズ、形状、形成位
置。
形成数等を、メッキ物のメッキ対象部の条件に合わせて
種々選定することで、微小部分のメッキ対象部を更に区
分けしてそこに施すメッキ厚さの調整を全体的に均等に
も、薄・厚にも調整でき、(C)メッキ液は、メッキ液
供給ボンクス内部で圧をかけさえすればプレート素子内
部の略全体にわたって設けである幅狭のメッキ液通路内
を通り且つメッキ液通路内に位置するアノードに触れつ
つメッキ液供給孔から滲出するので、常時メッキ液の供
給を行なって連続メッキ処理し易く、(D)プレート素
子は耐摩耗性のある素材で形成され、メッキ物が長時間
接触しつつ移動しても磨滅せずにメッキエリアの明確な
限定状態を維持でき、 (E)上記(A)〜(D)の相乗効果により、コネクタ
一端子に代表されるメッキ物の微小面積の凸状のメッキ
対象部を効率よく電気メツキ処理できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係る微小部分のメッキ装置の原理説
明図、 第2図は第1図中の矢示■線方向より見た要部の拡大断
面図、 第3図は第1図中の矢示■線方向より見た要部の拡大斜
視図、 第4図は第1図中の矢示IV−IV線方向より見た要部
の拡大斜視図、 第5図は第1図中の矢示V線方向より見たメッキ液供給
孔の開孔外端形状と対応するメッキ対象部との対比説明
図、 第6図、第7図及び第8図は順次、第2実施例。 第3実施例及び第4実施例を示す第5図相当の対比説明
図、 第9図は第5実施例を示す第4図相当の拡大斜視図、 第10図は、第9図に示す薄板(アノード)の部分斜視
図、 第11図、第12図、第13図は順次第6実施例、第7
実施例及び第8実施例を示す第2図相当の拡大断面図、
そして 第14図は先に提案した技術を示すブラシメッキ装置の
要部拡大断面図である。 10・・・コネクタ一端子(メッキ物)11・・・メッ
キ対象部 12・・・メッキ液供給ボックス 13・・・プレート素子 14・・・メッキ液供給体 15.51・・・溝 16・・・バスライン 17.41・・・メッキ液供給孔 44.45    〃 54.55 18・・・メッキ液 19・・・メッキ液通路 20・・・網体(アノード) 21・・・開孔外端 52.53   〃 47・・・薄板(アノード) 第1図 2つ 凹面の汀1S′(内容に変更なし) 箒2図 第3図 第4図 第9図 第11図 第12図 図面の汀1譜内官、に恋更なし) 第13図 第1L+図 毛材E主甫正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和60年特許願第242925号 2、発明の名称 微lj哨粉のメッキ装置 3、補正をする者 羽生との関係   特 許 出 願 人〒105 住所 東京都港区虎ノ門2−7−9第1岡名ビル昭和6
1年 1月28日(発送日) 66補正の対象 図面        2葉 (3168−P)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 連続帯状部に櫛歯状に複数形成され、微小面積の凸状の
    メッキ対象部を各々先端に有するメッキ物に対し、その
    メッキ対象部のパスラインに沿い、メッキ液を供給自在
    としたプレート状のメッキ液供給体を配し且つこのメッ
    キ液供給体に接触又は近接状態で移動してゆく上記各々
    のメッキ物のメッキ対象部に電気メッキを施す微小部分
    のメッキ装置に於いて、 上記メッキ液供給体は、メッキ液供給ボックス上に立設
    された耐摩耗性及び電気絶縁性を有する全体が厚さの薄
    いプレート素子から形成され、プレート素子には、移動
    してゆく上記メッキ対象部と対応する部位又はその近辺
    に長手方向で非連続的に、複数のメッキ液供給孔が開孔
    され、プレート素子内部には、その略全体にわたって、
    メッキ液供給ボックスの内部を複数のメッキ液供給孔に
    連通してメッキ液を滲出せしめる微小幅のメッキ液通路
    が設けられ且つこのメッキ液通路内にアノードが配され
    ていることを特徴とする微小部分のメッキ装置。
JP24292585A 1985-10-31 1985-10-31 微小部分のメツキ装置 Granted JPS62103389A (ja)

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JPH02303584A (ja) * 1989-05-15 1990-12-17 Furuno Electric Co Ltd 超音波洗浄方法及びその装置

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