JPS62101354A - 銅及び銅合金の鋳造方法 - Google Patents
銅及び銅合金の鋳造方法Info
- Publication number
- JPS62101354A JPS62101354A JP23935385A JP23935385A JPS62101354A JP S62101354 A JPS62101354 A JP S62101354A JP 23935385 A JP23935385 A JP 23935385A JP 23935385 A JP23935385 A JP 23935385A JP S62101354 A JPS62101354 A JP S62101354A
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- JP
- Japan
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- copper
- casting
- conditions
- cooling
- diagonally
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象とする金属は、純銅及びりん青銅、Ｃ０−
８ｎ、Ｃｕ−Ｉｎ、Ｃｕ−ａ、３ＸＦｅ−ｏ、１ＸＰ−
ＩｌｌＬＩＸＩｎ 等の銅合金である。りん青銅、Ｉｎ
含有鋼合金のような加工性の悪い銅合金であっても、本
発明は加工性の良い鋳造物を生成することを可能ならし
める。
８ｎ、Ｃｕ−Ｉｎ、Ｃｕ−ａ、３ＸＦｅ−ｏ、１ＸＰ−
ＩｌｌＬＩＸＩｎ 等の銅合金である。りん青銅、Ｉｎ
含有鋼合金のような加工性の悪い銅合金であっても、本
発明は加工性の良い鋳造物を生成することを可能ならし
める。
本発明は、板や棒の形態の鋳造物を製造しうるが、以下
ロッドを例にとって説明する。
ロッドを例にとって説明する。
第１図は斜め凝固ロッドの鋳造組織を説明するロッド長
手方向断面図である。柱状晶ｉＪｉ城形成角α（αとは
表皮部（チルｊ−）及び中央部を除いた柱状晶の平均的
成長方向を表す。即ち当該部位の結晶粒界の長手方向と
の角度を表す。）が２５〜６５度、好ましくは３０〜６
０度のものをここでは斜め凝固ロッドと定義する。一方
向凝固においてはαは０〜１０度の範囲にある。他方普
通凝固においてはαは約８０〜９０°の範囲にある。
手方向断面図である。柱状晶ｉＪｉ城形成角α（αとは
表皮部（チルｊ−）及び中央部を除いた柱状晶の平均的
成長方向を表す。即ち当該部位の結晶粒界の長手方向と
の角度を表す。）が２５〜６５度、好ましくは３０〜６
０度のものをここでは斜め凝固ロッドと定義する。一方
向凝固においてはαは０〜１０度の範囲にある。他方普
通凝固においてはαは約８０〜９０°の範囲にある。
第２図は、斜め凝固ロッドを製造する装置の一例を示す
。溶融金属保持炉２内には溶融金属浴Ｍが保持されてい
る。鋳型４０入口端は溶融金属浴中に突出してそれによ
り加熱された状態にあり、他方鋳型の他端は冷却構造体
６に接した状態にある。凝固したロッドＲはビンチロー
ル８により抜出される。鋳型の材料としては熱良導体の
耐火物を用いることが好ましく、例えば窒化珪素、炭化
珪素、黒鉛等が用いられる。ロッドは水平に引抜くもの
として図示したが、垂直下方に引抜いてもよい。ロッド
の引抜は好ましくはパルス引抜によって行われる。
。溶融金属保持炉２内には溶融金属浴Ｍが保持されてい
る。鋳型４０入口端は溶融金属浴中に突出してそれによ
り加熱された状態にあり、他方鋳型の他端は冷却構造体
６に接した状態にある。凝固したロッドＲはビンチロー
ル８により抜出される。鋳型の材料としては熱良導体の
耐火物を用いることが好ましく、例えば窒化珪素、炭化
珪素、黒鉛等が用いられる。ロッドは水平に引抜くもの
として図示したが、垂直下方に引抜いてもよい。ロッド
の引抜は好ましくはパルス引抜によって行われる。
この装置を使用して製造される鋳造物の鋳造組織は、鋳
造条件即ち （１） 引抜条件 （１１）冷却条件 を管理することにより、一方向凝固、斜め凝固及び普通
凝固の各組織を自在に創出することが出来る。
造条件即ち （１） 引抜条件 （１１）冷却条件 を管理することにより、一方向凝固、斜め凝固及び普通
凝固の各組織を自在に創出することが出来る。
引抜条件は代表的には引抜線速度により指定される。一
方向凝固では、引抜はきわめて遅い速度で実施されねば
ならない。本発明では、引抜速度は、一方向凝固と普通
凝固との間の中間条件が採用され、１００〜’２００１
ｏＩ ７分である。引抜はパルス引抜により行うことが
好ましい。この場合平均引抜線速度を上記引抜線速度と
して採用する。
方向凝固では、引抜はきわめて遅い速度で実施されねば
ならない。本発明では、引抜速度は、一方向凝固と普通
凝固との間の中間条件が採用され、１００〜’２００１
ｏＩ ７分である。引抜はパルス引抜により行うことが
好ましい。この場合平均引抜線速度を上記引抜線速度と
して採用する。
パルス引抜とは、所定時間の引抜と停止を繰返すことＫ
より引抜を行うものであり、引抜停止時間（ｔ８）と、
引抜時間（ｔＤ）と、−回当りの引抜長とによって規定
される。斜め凝固組織を実現しうる条件は次の通りであ
る： （１） ｓ ） ｔＳ／ ｔＤ〉ｓ （秒／秒）（１
：） 引抜長さ＝６〜１０簡／回をｌ、そして鋳型の
冷却構造体と接する部分の厚さを１２とすると、／、
＝４ ｏ〜６ ｒｏｍｓモして１２くｄ（ｄ−鋳造物の
厚さまたは直径）なる条件が斜め凝固をもたらす。
より引抜を行うものであり、引抜停止時間（ｔ８）と、
引抜時間（ｔＤ）と、−回当りの引抜長とによって規定
される。斜め凝固組織を実現しうる条件は次の通りであ
る： （１） ｓ ） ｔＳ／ ｔＤ〉ｓ （秒／秒）（１
：） 引抜長さ＝６〜１０簡／回をｌ、そして鋳型の
冷却構造体と接する部分の厚さを１２とすると、／、
＝４ ｏ〜６ ｒｏｍｓモして１２くｄ（ｄ−鋳造物の
厚さまたは直径）なる条件が斜め凝固をもたらす。
より好ましくは、溶湯温度条件を管理することである。
この温度は、対象とする溶湯の融点に依存して決定され
る。
る。
以上の条件を表１にまとめて示す。表１には、一方向凝
固と普通凝固との条件をも参考までに併記した。
固と普通凝固との条件をも参考までに併記した。
板の場合は、ロッドな複数本並置したものとみなすこと
が出来、上記と同等の条件の下で斜め１凝固鋳造組織を
得ることが出来ろ。
が出来、上記と同等の条件の下で斜め１凝固鋳造組織を
得ることが出来ろ。
得られた鋳造物は、用途に応じて、薄板、箔、押出加工
品、細線、極細線等の最終形態に続いて強加工される。
品、細線、極細線等の最終形態に続いて強加工される。
発明の効果
ｔ 一方向凝固に較べて数倍の製造速度での鋳造が可能
である。
である。
２、 得られる斜め凝固鋳造組織は非常に加工性が良い
。
。
五 表面及び内部欠陥の少い材料が得られろ。
４、 爾後加工工程において熱間圧延、焼鈍等の負担を
減じ、酸化物スケールに起因する欠陥の導入を防止する
。
減じ、酸化物スケールに起因する欠陥の導入を防止する
。
実施例
純銅及びＣｕ −ａ ３ Ｘ Ｆｅ −ｏ、 １％Ｐ−
０．１Ｘ工ｎ銅合金を第２図に示した装置を用いて一方
向凝固（α中０°）、斜め凝固（α中４５°）及び普通
凝固（αキ８０°）させた鋳造粂件値を表２に示す。鋳
型はグラファイト製としそして引抜はパルス引抜により
行った。冷却は水冷である。鋳造物は８ｎφロツドであ
る。
０．１Ｘ工ｎ銅合金を第２図に示した装置を用いて一方
向凝固（α中０°）、斜め凝固（α中４５°）及び普通
凝固（αキ８０°）させた鋳造粂件値を表２に示す。鋳
型はグラファイト製としそして引抜はパルス引抜により
行った。冷却は水冷である。鋳造物は８ｎφロツドであ
る。
参考例
実施例において得られた斜め凝固ロッドを伸線加工した
結果、非常に良好な伸線性能が得られた。
結果、非常に良好な伸線性能が得られた。
伸線は、伸線用ダイスを使い潤滑剤中で２５％及び３５
％の減面率で初期伸線加工を行い、５，７鴎φ線材を得
た。この線材について、５．７■φ〜１閤φまで１ダイ
ス毎の減面率を平均２５Ｘ、ＩＵφ〜α１謔φまでの１
ダイス毎の減面率を平均１５％、モしてα１■φ〜（１
０５■φまでの１ダイス毎の減面率を平均１０Ｘで極細
線加工を行った。１３７ ／ ０ （伸線量（２）／断
線回数）の優れた線引性能が得られた。
％の減面率で初期伸線加工を行い、５，７鴎φ線材を得
た。この線材について、５．７■φ〜１閤φまで１ダイ
ス毎の減面率を平均２５Ｘ、ＩＵφ〜α１謔φまでの１
ダイス毎の減面率を平均１５％、モしてα１■φ〜（１
０５■φまでの１ダイス毎の減面率を平均１０Ｘで極細
線加工を行った。１３７ ／ ０ （伸線量（２）／断
線回数）の優れた線引性能が得られた。
第１図は斜め凝固υ造組織なしｊ解する説明図、第２図
は本発明方法を実施するロッド鋳造装置の一例を示す断
面図、そして第３図は第２図の一部の拡大図である。 ２：炉 ４： 鋳型 ′ ６： 冷却構造体 ８： ピンチロール Ｒ： 鋳造物 Ｍ： 溶融金属浴 第３図
は本発明方法を実施するロッド鋳造装置の一例を示す断
面図、そして第３図は第２図の一部の拡大図である。 ２：炉 ４： 鋳型 ′ ６： 冷却構造体 ８： ピンチロール Ｒ： 鋳造物 Ｍ： 溶融金属浴 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）銅或いは銅合金溶湯浴を保持する炉から、一端が溶
湯浴中に突出しそして他端が冷却構造体に接触する鋳型
を通して鋳造物を引抜く連続鋳造方法であつて、鋳造条
件を （イ）引抜条件：引抜線速度＝１００〜２００ｍｍ／分
（ロ）冷却条件：ｌ＿１＝４０〜６０ｍｍｌ＿２≦ｄ但
しｌ＿１＝鋳型内の溶湯と凝固部との接触面から冷却構
造体までの距離 ｌ＿２＝鋳型の出口側厚さまたは直径 ｄ＝鋳造物厚さまたは直径 と設定することにより、柱状晶が引抜方向に対して斜め
に発達した斜め凝固鋳造組織を有する銅及び銅合金の鋳
造方法。 ２）引抜がパルス引抜により実施され、 ｔ＿Ｓ／ｔ＿Ｄ≧３（ｔ＿Ｓ＝停止時間（秒）、ｔ＿Ｄ
＝引抜時間（秒）） 及び 引抜長さ＝６〜１０ｍｍ／回 の条件の下に行われる特許請求の範囲第１項記載の方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23935385A JPS62101354A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 銅及び銅合金の鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23935385A JPS62101354A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 銅及び銅合金の鋳造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62101354A true JPS62101354A (ja) | 1987-05-11 |
| JPH0112579B2 JPH0112579B2 (ja) | 1989-03-01 |
Family
ID=17043486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23935385A Granted JPS62101354A (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | 銅及び銅合金の鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62101354A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03133543A (ja) * | 1989-10-18 | 1991-06-06 | Dowa Mining Co Ltd | 連続鋳造法 |
| EP2684978A1 (en) * | 2011-08-29 | 2014-01-15 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME |
| JP5960282B2 (ja) * | 2012-11-13 | 2016-08-02 | Ｊｘ金属株式会社 | Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-10-28 JP JP23935385A patent/JPS62101354A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03133543A (ja) * | 1989-10-18 | 1991-06-06 | Dowa Mining Co Ltd | 連続鋳造法 |
| EP2684978A1 (en) * | 2011-08-29 | 2014-01-15 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME |
| JP5519800B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2014-06-11 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| EP2684978A4 (en) * | 2011-08-29 | 2015-01-14 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | CU-GA ALLOY SPUTTER TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
| JP5960282B2 (ja) * | 2012-11-13 | 2016-08-02 | Ｊｘ金属株式会社 | Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| JPWO2014077110A1 (ja) * | 2012-11-13 | 2017-01-05 | Ｊｘ金属株式会社 | Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0112579B2 (ja) | 1989-03-01 |
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