JPS619518A - 水素ガス雰囲気炉 - Google Patents
水素ガス雰囲気炉Info
- Publication number
- JPS619518A JPS619518A JP12946184A JP12946184A JPS619518A JP S619518 A JPS619518 A JP S619518A JP 12946184 A JP12946184 A JP 12946184A JP 12946184 A JP12946184 A JP 12946184A JP S619518 A JPS619518 A JP S619518A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gaseous
- hydrogen
- furnace
- gaseous hydrogen
- atmosphere
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
- C21D9/667—Multi-station furnaces
- C21D9/67—Multi-station furnaces adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Thermal Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、金属部品等のろう付、又は焼鈍に使用する
水素ガス雰囲気炉の構造に関するものである。
水素ガス雰囲気炉の構造に関するものである。
従来この種の装置として第１図に示すものがあった。図
において、（１）は炉体の外囲器を形成する外壁、（２
）は断熱材、（３）はヒーター、（４）は炉の内筒、（
５）は炉の内筒に水素ガスへ導入する導入口、（６）は
うろ付又は焼鈍等を行なう処理物、（７）は処理物の置
台、（８）は水素ガスの流れを模式的に示す流線、（９
）は炉のスカート部、αｑは大気を示す。
において、（１）は炉体の外囲器を形成する外壁、（２
）は断熱材、（３）はヒーター、（４）は炉の内筒、（
５）は炉の内筒に水素ガスへ導入する導入口、（６）は
うろ付又は焼鈍等を行なう処理物、（７）は処理物の置
台、（８）は水素ガスの流れを模式的に示す流線、（９
）は炉のスカート部、αｑは大気を示す。
次に、動作について説明する。（４）の炉内筒は（３）
のヒーターによってうろ付又は熱処理温度に加熱される
。炉内筒（４）の内部は（５）の水素ガス導入口からの
高純度の水素ガスによって満たされている。
のヒーターによってうろ付又は熱処理温度に加熱される
。炉内筒（４）の内部は（５）の水素ガス導入口からの
高純度の水素ガスによって満たされている。
（６）の被処理物は（７）の置台によって炉内の加熱領
域に送られ、高純度の水素ガス中で加熱される。（５）
の水素ガス導入口から導入され、（４）の炉内筒を満た
した水素ガスは、（９）の炉心スカート部を通って大気
中に放出、拡散される。他方μｑに示す大気は（９）の
スカート部に逆方向に拡散し、（６）の処理物を酸化さ
せる。仁の影響を防止するための炉心スカート部の長さ
と水素ガス流量が必要である。
域に送られ、高純度の水素ガス中で加熱される。（５）
の水素ガス導入口から導入され、（４）の炉内筒を満た
した水素ガスは、（９）の炉心スカート部を通って大気
中に放出、拡散される。他方μｑに示す大気は（９）の
スカート部に逆方向に拡散し、（６）の処理物を酸化さ
せる。仁の影響を防止するための炉心スカート部の長さ
と水素ガス流量が必要である。
水素ガス雰囲気炉は、処理物の雰囲気水素を高純度に保
持する必要があるが、炉スカート部の開口部からの大気
の拡散によって、水素ガスの純度は低下し、これを防止
するため、大量の水素ガスを供給する必要があった。
持する必要があるが、炉スカート部の開口部からの大気
の拡散によって、水素ガスの純度は低下し、これを防止
するため、大量の水素ガスを供給する必要があった。
しかし、水素ガスは大気中に拡散すると４チ〜７５チの
広い範囲に爆発限界があり、大量に使用する場合安全性
に問題であり、又エネルギー的にも大きな損失となる。
広い範囲に爆発限界があり、大量に使用する場合安全性
に問題であり、又エネルギー的にも大きな損失となる。
本発明は上記のような水素ガス雰囲気炉の欠点を除去す
るためになされたもので、炉のスカート部に〃口部して
、密度を小さくした不活性ガスを導入して水素ガスへの
大気からの酸素の拡散を防止し、水素ガス使用量の削減
を可能とし、又併せて水素ガスと大気の直接的な混合を
防ぐ事により、安全性の高い、水素ガス雰囲気炉の装置
を提供するものである。
るためになされたもので、炉のスカート部に〃口部して
、密度を小さくした不活性ガスを導入して水素ガスへの
大気からの酸素の拡散を防止し、水素ガス使用量の削減
を可能とし、又併せて水素ガスと大気の直接的な混合を
防ぐ事により、安全性の高い、水素ガス雰囲気炉の装置
を提供するものである。
以下、この発明の一実施例を図について説明する０
第２図において、（１）からσＱは第１図と同一構成、
（ロ）は窒素ガス導入パイプ、（ロ）は断熱材、０は窒
素ガス加熱用ヒーター、α４）は窒素ガスの流れを模式
的に示す窒素ガスの流線である。
（ロ）は窒素ガス導入パイプ、（ロ）は断熱材、０は窒
素ガス加熱用ヒーター、α４）は窒素ガスの流れを模式
的に示す窒素ガスの流線である。
第２図に示すように、窒素ガスを加熱領域と使用済ガス
の放出口との間に供給することにより、水素ガスの流量
を増やすことなく水素ガスと空気層を隔離することが出
来る。
の放出口との間に供給することにより、水素ガスの流量
を増やすことなく水素ガスと空気層を隔離することが出
来る。
この効果を一層高めるためには窒素ガスを加熱して供給
すると良い。
すると良い。
窒素ガスを加熱することにより、例えば窒素ガスを約３
０００℃迄加熱すると、その重量は約１／２となり、空
気と水素ガスの中間重量となるため水素ガスと空気層と
の中間に窒素ガス層を形成することが出来、第２図に示
す様にα尋の窒素ガス層の流れが、（８）の水素ガスの
流れと（ＩＱの大気とのシールド効果を発揮し、（８）
の水素ガスと（１００大気の直接的な拡散を防止するこ
とによって、高価な水素ガスの使用量を削減し、安価で
、安全性の高い水素ガス雰囲気炉を提供することが出来
る。
０００℃迄加熱すると、その重量は約１／２となり、空
気と水素ガスの中間重量となるため水素ガスと空気層と
の中間に窒素ガス層を形成することが出来、第２図に示
す様にα尋の窒素ガス層の流れが、（８）の水素ガスの
流れと（ＩＱの大気とのシールド効果を発揮し、（８）
の水素ガスと（１００大気の直接的な拡散を防止するこ
とによって、高価な水素ガスの使用量を削減し、安価で
、安全性の高い水素ガス雰囲気炉を提供することが出来
る。
窒素ガスは安価に大量に供給できるので、運転コストが
安く且つ安全性の高い炉か得られる。
安く且つ安全性の高い炉か得られる。
また、上記実施例では整形水素雰囲気炉について説明し
たが、横型等信の形式の水素雰囲気炉又は窒素・水素の
混合ガス雰囲気炉にあってもよく、上記実施例と同様の
効果を奏する。
たが、横型等信の形式の水素雰囲気炉又は窒素・水素の
混合ガス雰囲気炉にあってもよく、上記実施例と同様の
効果を奏する。
また、不活性ガスとして窒素ガスの池にヘリウム（Ｈｅ
）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス等が使用できることは言
うまでもない。
）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス等が使用できることは言
うまでもない。
Ｈｅガスは水素より重く空気より軽いので加熱する必要
は全くない。
は全くない。
以上のように、この発明によれ１／ｉ′、水素ガス雰囲
気炉に安全な不活性ガスを加熱供給することにより、安
全性の高い装置の供給をお能とするものである。
気炉に安全な不活性ガスを加熱供給することにより、安
全性の高い装置の供給をお能とするものである。
第１図は従来の水素ガス雰囲気炉の断面側面図、第２図
はこの発明の一実施例による水素ガス雰囲気炉の断面側
面図である。 図中（１）は炉外壁、（２）は断熱材、（３）はヒータ
ー、（４）は炉内筒、（５）は水素ガス導入口、（６）
被処理物、（７）は置台、（８）は水素ガスの流れを示
す流線、（９）社炉スカート部、α］）は不活性ガス導
入管、＠は断熱材、鵠は不活性ガス加熱用ヒーター、α
４は不活性ガスの流れを示す流線である。尚、図中同一
符号は同−又は相当部分を示す０
はこの発明の一実施例による水素ガス雰囲気炉の断面側
面図である。 図中（１）は炉外壁、（２）は断熱材、（３）はヒータ
ー、（４）は炉内筒、（５）は水素ガス導入口、（６）
被処理物、（７）は置台、（８）は水素ガスの流れを示
す流線、（９）社炉スカート部、α］）は不活性ガス導
入管、＠は断熱材、鵠は不活性ガス加熱用ヒーター、α
４は不活性ガスの流れを示す流線である。尚、図中同一
符号は同−又は相当部分を示す０
Claims (3)
- （１）水素ガス雰囲気中で加熱処理する炉において、加
熱領域と使用済ガスの放出口との間に不活性ガスを導入
し、水素ガスと空気層を隔離することを特徴とする水素
ガス雰囲気炉。 - （２）加熱した不活性ガスを導入することを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の水素ガス雰囲気炉。 - （３）不活性ガスが窒素ガスであることを特徴とする特
許請求の範囲第２項記載の水素ガス雰囲気炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12946184A JPS619518A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 水素ガス雰囲気炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12946184A JPS619518A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 水素ガス雰囲気炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619518A true JPS619518A (ja) | 1986-01-17 |
Family
ID=15010062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12946184A Pending JPS619518A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 水素ガス雰囲気炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619518A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63199070A (ja) * | 1987-02-14 | 1988-08-17 | Ulvac Corp | 真空ロウ付け装置 |
| EP1367139A2 (de) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Schmetz GmbH | Wärmebehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen Anlage |
| KR100639832B1 (ko) | 2005-04-19 | 2006-10-30 | (주)이례파워테크 | 다이아몬드 공구 제조를 위한 연속식 수소로 장치 및 이를 이용한 열처리방법 |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12946184A patent/JPS619518A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63199070A (ja) * | 1987-02-14 | 1988-08-17 | Ulvac Corp | 真空ロウ付け装置 |
| JPH0525592B2 (ja) * | 1987-02-14 | 1993-04-13 | Nippon Shinku Gijutsu Kk | |
| EP1367139A2 (de) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Schmetz GmbH | Wärmebehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen Anlage |
| EP1367139A3 (de) * | 2002-05-29 | 2004-12-29 | Schmetz GmbH | Wärmebehandlungsanlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen Anlage |
| KR100639832B1 (ko) | 2005-04-19 | 2006-10-30 | (주)이례파워테크 | 다이아몬드 공구 제조를 위한 연속식 수소로 장치 및 이를 이용한 열처리방법 |
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