JPS6193189A - 置換プロパン‐亜ホスホン酸化合物及びその製造方法並びにそれを含有する医薬 - Google Patents
置換プロパン‐亜ホスホン酸化合物及びその製造方法並びにそれを含有する医薬Info
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
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- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、新規な3−アミノプロパン亜ホスホン酸、
その製造方法、及び医薬としてのその使用に関する。
その製造方法、及び医薬としてのその使用に関する。
この発明は、次の式(I)
〔式中、R1、R2及びR3の1つは水素、01〜.−
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C+〜4−アルキル、C6〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはct−to−フェニルアルキル(
場合によってはフェニル部分においてハロゲン、01〜
4−アルキル、01〜4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素である、〕で表わされる化合物;及びその
塩を提供する。
アルキル、C3〜6−シクロアルキル、フェニル(場合
によってはハロゲン、C+〜4−アルキル、C6〜4−
アルコキシ及び/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている)、あるいはct−to−フェニルアルキル(
場合によってはフェニル部分においてハロゲン、01〜
4−アルキル、01〜4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素である、〕で表わされる化合物;及びその
塩を提供する。
フェニル基は1個又はそれより多く、好ましくは2個ま
での同一の又は異る置換基を有することができる。
での同一の又は異る置換基を有することができる。
アルキルは例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、5ee−ブチル(2−メチル
プロピル)又はt−ブチル、さらにはれ−ペンチル、n
−ヘキシル、n−ヘプチル又はn−オクチルである。
ソプロピル、n−ブチル、5ee−ブチル(2−メチル
プロピル)又はt−ブチル、さらにはれ−ペンチル、n
−ヘキシル、n−ヘプチル又はn−オクチルである。
シクロアルキルは例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル又はシクロペンチルであってもよく、しかし好ましく
はシクロヘキシルである。
ル又はシクロペンチルであってもよく、しかし好ましく
はシクロヘキシルである。
アルコキシは例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5ec−ブトキ
シ又はt−ブトキシである。
キシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、5ec−ブトキ
シ又はt−ブトキシである。
ハロゲンは好ましくは弗素又は塩素、さらには臭素であ
る。
る。
フェニルアルキル基は例えば、ベンジル、1−もしくは
2−フェニルエチル、2−もしくは3−フェニルプロピ
ル、又は4−フェニルブチル基であり、各々は場合によ
ってはフェニル部分において前記のように置換されてい
る。
2−フェニルエチル、2−もしくは3−フェニルプロピ
ル、又は4−フェニルブチル基であり、各々は場合によ
ってはフェニル部分において前記のように置換されてい
る。
式(I)の化合物の塩は、特に、その医薬として許容さ
れる塩、例えば酸との対応する酸付加塩、及び塩基との
塩である。酸付加塩を形成するための適当な酸は、例え
ば、鉱酸、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸又はリン酸、
あるいは有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼ
ンスルホン酸、4−トルエンスルホン酸又はメタンスル
ホン酸、及び有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマ
ル酸、酒石酸、アスコルビン酸又はクエン酸である。塩
基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムもし
くはマグネシウム塩、又はアンモニウム塩、例えばアン
モニアもしくは適当な有機アミン、例えばジエチルアミ
ン、ジー(2−ヒドロキシエチル)−アミンもしくはト
リー(2−ヒドロキシエチル)−アミンとの塩である。
れる塩、例えば酸との対応する酸付加塩、及び塩基との
塩である。酸付加塩を形成するための適当な酸は、例え
ば、鉱酸、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸又はリン酸、
あるいは有機酸、例えば有機スルホン酸、例えばベンゼ
ンスルホン酸、4−トルエンスルホン酸又はメタンスル
ホン酸、及び有機カルボン酸、例えば酢酸、乳酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマ
ル酸、酒石酸、アスコルビン酸又はクエン酸である。塩
基との塩は、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムもし
くはマグネシウム塩、又はアンモニウム塩、例えばアン
モニアもしくは適当な有機アミン、例えばジエチルアミ
ン、ジー(2−ヒドロキシエチル)−アミンもしくはト
リー(2−ヒドロキシエチル)−アミンとの塩である。
式(I)の化合物はさらに内部塩を形成することもでき
る。
る。
不斉炭素原子の存在に依存して、この発明の化合物は異
性体の混合物、特にラセミ体の形、又は純粋な異性体、
特に光学対掌体の形であることができる。
性体の混合物、特にラセミ体の形、又は純粋な異性体、
特に光学対掌体の形であることができる。
R1及びR3がそれぞれ水素であり、そしてRZが水素
、上記のように置換されている場合があるフェニル、特
に水素、又はハロゲノ−フェニル、そして最も好ましく
は水素又は第1に4−クロロフェニルもしくは4−フル
オロフェニルである式(I)の化合物、又はその塩、特
に医薬として許容される塩ヂ好1番しし1゜ この発明はさらに、式(I)の化合物を製造するための
第1の方法を提供し、この方法は、次の式(II)、 以下余白 Q (式中、R1,R1及びR3は前記の意味を有し、Zは
−NH2又は保護されたアミノ基Z0であり、Qは水素
又は保護基Q0であり、そしてRcは水素、CI〜4−
アルキル、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イ
オンである、) で表わされる化合物において、基Rcを水素によ。
、上記のように置換されている場合があるフェニル、特
に水素、又はハロゲノ−フェニル、そして最も好ましく
は水素又は第1に4−クロロフェニルもしくは4−フル
オロフェニルである式(I)の化合物、又はその塩、特
に医薬として許容される塩ヂ好1番しし1゜ この発明はさらに、式(I)の化合物を製造するための
第1の方法を提供し、この方法は、次の式(II)、 以下余白 Q (式中、R1,R1及びR3は前記の意味を有し、Zは
−NH2又は保護されたアミノ基Z0であり、Qは水素
又は保護基Q0であり、そしてRcは水素、CI〜4−
アルキル、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イ
オンである、) で表わされる化合物において、基Rcを水素によ。
す、又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンに
より置き換え、そして基QがQoである場合にはこれを
水素により置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基
z0である場合にはこれをNHzに転換して式(I)の
化合物を生成せしめることを含んで成る。
より置き換え、そして基QがQoである場合にはこれを
水素により置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基
z0である場合にはこれをNHzに転換して式(I)の
化合物を生成せしめることを含んで成る。
用いられる基に依存して、前記の置き換え及び転換操作
はそれ自体公知の方法により順次に、又は同時に行うこ
とができる。
はそれ自体公知の方法により順次に、又は同時に行うこ
とができる。
所望により、得られた塩を遊離化合物又は他の塩に、そ
して/又は所望により、得られた遊離化合物を塩に転換
し、そして/又は所望により、異性体の得られた混合物
を単一の異性体に分離することができる。
して/又は所望により、得られた遊離化合物を塩に転換
し、そして/又は所望により、異性体の得られた混合物
を単一の異性体に分離することができる。
典型的な保護されたアミノ基Z0はアシルアミノ基、例
えばアセチルアミノ、フタリミド、ヘンシルオキシカル
ボニルアミノ又はtert−ブトキシカルボニルアミノ
基、又は1−アリール−C8〜4−アルキルアミノ基、
例えばベンジルアミノである。
えばアセチルアミノ、フタリミド、ヘンシルオキシカル
ボニルアミノ又はtert−ブトキシカルボニルアミノ
基、又は1−アリール−C8〜4−アルキルアミノ基、
例えばベンジルアミノである。
場合によっては存在する保護基Q0は、当業界。
において知られており、そしてE P O,009,3
48及びオーストラリアン・ジャーナル・オブ・ケミス
トリー(八ust、 J、 Chem、)33.292
(I980)に記載されている基、例えば式−C(C
,〜4−アルキル)(OR″)ORbヲ有スル基、特ニ
式−CH(OR’)OR’(式中R1及びRbはそれぞ
れ01〜4−アルキルである)を有する基、そして次に
式−CH(OC2H5) zを有する基である。
48及びオーストラリアン・ジャーナル・オブ・ケミス
トリー(八ust、 J、 Chem、)33.292
(I980)に記載されている基、例えば式−C(C
,〜4−アルキル)(OR″)ORbヲ有スル基、特ニ
式−CH(OR’)OR’(式中R1及びRbはそれぞ
れ01〜4−アルキルである)を有する基、そして次に
式−CH(OC2H5) zを有する基である。
式(II)の化合物中のアルキル基RCの水素による置
き換えは、適当な親核性試薬、例えばアルカリ金属水酸
化物、例えば水酸化ナトリウム、アルカリ金属ハロゲン
化物、特に臭化物又はヨウ化物、例えば臭化リチウム又
はヨウ化ナトリウム、チオ尿素、アルカリ金属チオフェ
ノラート、例えばナトリウムチオフェノラートで処理す
ることにより行うことができる。置き換え反応は溶剤の
非存在下又は存在下で、所望により冷却又は加熱しなが
ら、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行
うことができる。
き換えは、適当な親核性試薬、例えばアルカリ金属水酸
化物、例えば水酸化ナトリウム、アルカリ金属ハロゲン
化物、特に臭化物又はヨウ化物、例えば臭化リチウム又
はヨウ化ナトリウム、チオ尿素、アルカリ金属チオフェ
ノラート、例えばナトリウムチオフェノラートで処理す
ることにより行うことができる。置き換え反応は溶剤の
非存在下又は存在下で、所望により冷却又は加熱しなが
ら、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行
うことができる。
式(II)の化合物中の基Q0及び/又はRC(R’は
CI〜4−アルキルである)の水素による置き換えは、
加水分解条件下で酸により、特に鉱酸、例えばハロゲン
化水素酸、例えば希又は製水性形で使用されるオ笈酸に
より、処理することによって、あるいは有機シリルハラ
イド、例えばトリメチルーシリルイオジド又はプロミド
で処理し次に加水分解することによって、行うことがで
きる。
CI〜4−アルキルである)の水素による置き換えは、
加水分解条件下で酸により、特に鉱酸、例えばハロゲン
化水素酸、例えば希又は製水性形で使用されるオ笈酸に
より、処理することによって、あるいは有機シリルハラ
イド、例えばトリメチルーシリルイオジド又はプロミド
で処理し次に加水分解することによって、行うことがで
きる。
この反応は、好ましくは高温において、例えば反応混合
物を還流しながら、そして所望により有機稀釈剤を用い
て、密閉容器中で及び/又は不活性ガス雰囲気下で行わ
れる。
物を還流しながら、そして所望により有機稀釈剤を用い
て、密閉容器中で及び/又は不活性ガス雰囲気下で行わ
れる。
保護されたアミノ基Z0は、アミノ基に転換されるべき
保護されたアミノ基の特徴に従って選択される公知の方
法、例えば加溶媒分解法又は水素化分解法、例えば、酸
又は塩基の存在下での加水分解、酸分解、例えばトリフ
ルオロ酢酸による処理、ヒドラジンによる処理、又は金
属性水素化触媒の存在下での水素化分解、あるいはQが
水素である式(II)の化合物のために水素化/触媒法
が使用できない場合には任意の他の適当な方法により、
遊離アミノに転換することができる。加水分解条件下で
、酸、好ましくはハロゲン化水素酸、特に塩酸で処理す
ることにより、1段階ですべての基を、すなわちRC及
びQoは水素に、そしてZoはNl(□に転換するのが
好ましい。
保護されたアミノ基の特徴に従って選択される公知の方
法、例えば加溶媒分解法又は水素化分解法、例えば、酸
又は塩基の存在下での加水分解、酸分解、例えばトリフ
ルオロ酢酸による処理、ヒドラジンによる処理、又は金
属性水素化触媒の存在下での水素化分解、あるいはQが
水素である式(II)の化合物のために水素化/触媒法
が使用できない場合には任意の他の適当な方法により、
遊離アミノに転換することができる。加水分解条件下で
、酸、好ましくはハロゲン化水素酸、特に塩酸で処理す
ることにより、1段階ですべての基を、すなわちRC及
びQoは水素に、そしてZoはNl(□に転換するのが
好ましい。
式(If)の出発物質は新規化合物であり、そしてこの
発明の部分を形成する。すなわち、R1、R” 、R’
、R’ 、Q及びZが前記の意味を有する式(n)の
出発物質は、R2及びQがそれぞれ水素であり、RCが
アルキルでなければ、新規化金物であり、そしてこの発
明の部分を構成する。
発明の部分を形成する。すなわち、R1、R” 、R’
、R’ 、Q及びZが前記の意味を有する式(n)の
出発物質は、R2及びQがそれぞれ水素であり、RCが
アルキルでなければ、新規化金物であり、そしてこの発
明の部分を構成する。
式(汀)の新規化合物は、例えば、後に定義する式(I
V)中の基Xの性質に依存して種々の方法により、塩基
性触媒の存在下又は遊離ラジカル形成剤の存在下で、次
の式(III)、 。′ (式中、RC及びQは前記の意味を有する、)で表わさ
れる化合物を、次の式(rV)、〔式中、R1及びR2
は前記の意味を有し、そしてXは次の式(Ia)、 (式中、R3及びZは前記の意味を有する、)で表わさ
れる基に転換され得る基である、〕で表わされる化合物
と反応せしめて、次の式(V)。
V)中の基Xの性質に依存して種々の方法により、塩基
性触媒の存在下又は遊離ラジカル形成剤の存在下で、次
の式(III)、 。′ (式中、RC及びQは前記の意味を有する、)で表わさ
れる化合物を、次の式(rV)、〔式中、R1及びR2
は前記の意味を有し、そしてXは次の式(Ia)、 (式中、R3及びZは前記の意味を有する、)で表わさ
れる基に転換され得る基である、〕で表わされる化合物
と反応せしめて、次の式(V)。
。′
(式中、R’ 、Rt、、RCXQ及びXは前記の意味
を存する。)で表わされる化合物を生成せしめ、そして
次に基Xを式(Ia)の基に転換して式(n)の化合物
を生成せしめることにより製造される。
を存する。)で表わされる化合物を生成せしめ、そして
次に基Xを式(Ia)の基に転換して式(n)の化合物
を生成せしめることにより製造される。
基Xは第一にシアノであるが、しかしさらにカルバモイ
ル、次の式(Ib)、 (式中、R3及びzoは前記の意味を有する、)で表わ
される基であってもよく;あるいはXは次の式Nc)、 〔式中、R2は前記の意味を有し、そして−6−yは場
合によっては官能的に変形されているカルボニル基、例
えば対応するケタール又はチオケタール(対応する環状
基を含む)である、〕で表わされる基である。
ル、次の式(Ib)、 (式中、R3及びzoは前記の意味を有する、)で表わ
される基であってもよく;あるいはXは次の式Nc)、 〔式中、R2は前記の意味を有し、そして−6−yは場
合によっては官能的に変形されているカルボニル基、例
えば対応するケタール又はチオケタール(対応する環状
基を含む)である、〕で表わされる基である。
式(III)の化合物においてQが保護基Q0でありそ
してRCがCI〜、−アルキルであり、そして式(rl
/)の化合物においてXが活性化基Xa例えは遊離ラジ
カル触媒のいずれかを使用することができる。しかしな
がら式(III)の同じ化合物が式(IV) (Xが
例えば式(Ib)の残基である〕の化合物と反応する場
合、遊離ラジカル触媒が必要である。
してRCがCI〜、−アルキルであり、そして式(rl
/)の化合物においてXが活性化基Xa例えは遊離ラジ
カル触媒のいずれかを使用することができる。しかしな
がら式(III)の同じ化合物が式(IV) (Xが
例えば式(Ib)の残基である〕の化合物と反応する場
合、遊離ラジカル触媒が必要である。
第1段階において使用される塩基性触媒は、例えばアル
カリ金属CI〜4−アルコキシド、例えばナトリウムも
しくはカリウムC1〜4−アルコキシド、特にナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドもしくはカリウム
tert−ブトキシド、アルカリ金属もしくはアルカリ
土類金属フルオリド、例えば弗化カリウムもしくは弗化
セシウム、又はアルカリ金属ヒドリド、例えばナトリウ
ムヒドリドである。反応は溶剤を添加して又は添加しな
いで行われる。溶剤が添加される場合、これは好ましく
はアルコール、特に、塩基性触媒として使用されるアル
コキシドに対応する01〜4−アルカノールである。反
応温度は−O℃から添加された溶剤の沸点まで異ること
ができる。
カリ金属CI〜4−アルコキシド、例えばナトリウムも
しくはカリウムC1〜4−アルコキシド、特にナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドもしくはカリウム
tert−ブトキシド、アルカリ金属もしくはアルカリ
土類金属フルオリド、例えば弗化カリウムもしくは弗化
セシウム、又はアルカリ金属ヒドリド、例えばナトリウ
ムヒドリドである。反応は溶剤を添加して又は添加しな
いで行われる。溶剤が添加される場合、これは好ましく
はアルコール、特に、塩基性触媒として使用されるアル
コキシドに対応する01〜4−アルカノールである。反
応温度は−O℃から添加された溶剤の沸点まで異ること
ができる。
遊離ラジカル形成剤は、例えば、イオン化及び紫外線照
射、過酸化化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過
酸化水素又は過硫酸アンモニウム、又は有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイル又はter t−ブチルパーオ
キシド、又は有機アゾ化合物、例えばアゾ−ビス−イソ
ブチロニトリルである。
射、過酸化化合物、例えば無機過酸化化合物、例えば過
酸化水素又は過硫酸アンモニウム、又は有機過酸化物、
例えば過酸化ベンゾイル又はter t−ブチルパーオ
キシド、又は有機アゾ化合物、例えばアゾ−ビス−イソ
ブチロニトリルである。
遊離ラジカル形成剤を用いる反応は、場合によっては溶
剤の存在下で、そして所望により冷却又は加熱しながら
、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行わ
れる。
剤の存在下で、そして所望により冷却又は加熱しながら
、密閉容器中でそして/又は不活性ガス雰囲気中で行わ
れる。
基(X)の基(Ia)への転換は公知の方法に従って行
われる。シアノ及びカルバモイルは還元によりアミノメ
チルに転換される。シアノは、例えば、適当な触媒、例
えばラネーニッケル及び溶剤、例えば好ましくはアンモ
ニアを含有するエタノールの存在下での水素化により、
そしてカルバモイルは、例えば、適当なヒドリド還元剤
、例えばテトラヒドロフラン中ボラン(Qが水素である
式(V)の化合物のために水素化/触媒法が使用できな
い場合)で処理することにより、転換される。
われる。シアノ及びカルバモイルは還元によりアミノメ
チルに転換される。シアノは、例えば、適当な触媒、例
えばラネーニッケル及び溶剤、例えば好ましくはアンモ
ニアを含有するエタノールの存在下での水素化により、
そしてカルバモイルは、例えば、適当なヒドリド還元剤
、例えばテトラヒドロフラン中ボラン(Qが水素である
式(V)の化合物のために水素化/触媒法が使用できな
い場合)で処理することにより、転換される。
保護されたアミノ基Z0は前記のようにしてNl2に転
換され得る。
換され得る。
Xが基(Ic)でありYが酸素である式(V)の化合物
中の基Xの式(Ia)の基への転換は、公知。
中の基Xの式(Ia)の基への転換は、公知。
の還元的アミノ化法により、例えば、適当な溶剤、例え
ばジオキサン中酢酸アンモニウムの存在下で、そして例
えば約O℃に冷却しながら、ナトリウムシアノボロヒド
リドで処理することにより行われる。
ばジオキサン中酢酸アンモニウムの存在下で、そして例
えば約O℃に冷却しながら、ナトリウムシアノボロヒド
リドで処理することにより行われる。
式(III)の化合物は公知であり、又は公知の方法で
製造することができ、それぞれオーストラリアン・ジャ
ーナル・オフ゛・ケミストリー(八ust、 J。
製造することができ、それぞれオーストラリアン・ジャ
ーナル・オフ゛・ケミストリー(八ust、 J。
Chem、)33 : 292 (I980)、又はE
P O,009,348に記載されている。
P O,009,348に記載されている。
式(IV)の化合物は公知であり、又は公知の方法で製
造することができる。
造することができる。
式(III)の化合物の特定の例には次の化合物が含ま
れる。
れる。
メチル−(ジメトキシメチル)ホスホニド、エチル−(
ジメトキシメチル)ホスホニド、n−プロピル−(ジメ
トキシメチル)ホスホニド、i−プロピル−(ジメトキ
シメチル)ホスホニド、n−ブチル(ジメトキシメチル
)ホスホニド、メチル−(ジェトキシメチル)ホスホニ
ド、n−プロピル=(ジェトキシメチル)ホスホニド、
n−ブチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド、メチル
−(l、エージメトキシエチル)ホスホニド、エチル−
(I,1−ジメトキシエチル)ホスホニド、エチル−(
l、1−ジェトキシエチル)ホスホニド、メチル−(l
、1−ジメトキシブチル)ホスホニド;好ましくは、メ
チル=(ジメトキシメチル)ホスホニド、 エチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド、メチル−(
I,エージメトキシエチル)ホスホニド、エチル−(I
,1−ジェトキシエチル)ホスホニド;特に好ましくは
、エチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド。
ジメトキシメチル)ホスホニド、n−プロピル−(ジメ
トキシメチル)ホスホニド、i−プロピル−(ジメトキ
シメチル)ホスホニド、n−ブチル(ジメトキシメチル
)ホスホニド、メチル−(ジェトキシメチル)ホスホニ
ド、n−プロピル=(ジェトキシメチル)ホスホニド、
n−ブチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド、メチル
−(l、エージメトキシエチル)ホスホニド、エチル−
(I,1−ジメトキシエチル)ホスホニド、エチル−(
l、1−ジェトキシエチル)ホスホニド、メチル−(l
、1−ジメトキシブチル)ホスホニド;好ましくは、メ
チル=(ジメトキシメチル)ホスホニド、 エチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド、メチル−(
I,エージメトキシエチル)ホスホニド、エチル−(I
,1−ジェトキシエチル)ホスホニド;特に好ましくは
、エチル−(ジェトキシメチル)ホスホニド。
QがQoである式(V)の化合物、特にXがシアノ基又
は式(I c)の基である化合物はまた、次の式(Vl
)、 (式中、Qoは前記の意味を有し、RCOはC1〜4−
アルキルであり、そして各RDは独立にC3〜、−アル
キル、好ましくはC1〜2−アルキル、特にメチルであ
り、RCOとR6は同一であるか又は異る、)で表わさ
れる化合物を、次の式(■)、(式中、R1及びR2は
前記の意味を有し、そしてXは前記の意味を有するが、
しかし第一にシアノ又は式(Ic)の基であり、Hal
はハロゲン、例えばヨウ素、臭素又は塩素である。〕で
表わされる基と反応せしめることにより製造することが
できる。この反応は、好ましくはArbusov法の条
件下で、例えば、室温から高温、例えば160℃の範囲
の反応温度において、反応中に生成するトリアルキルシ
リルハライドを除去しながら行われる。
は式(I c)の基である化合物はまた、次の式(Vl
)、 (式中、Qoは前記の意味を有し、RCOはC1〜4−
アルキルであり、そして各RDは独立にC3〜、−アル
キル、好ましくはC1〜2−アルキル、特にメチルであ
り、RCOとR6は同一であるか又は異る、)で表わさ
れる化合物を、次の式(■)、(式中、R1及びR2は
前記の意味を有し、そしてXは前記の意味を有するが、
しかし第一にシアノ又は式(Ic)の基であり、Hal
はハロゲン、例えばヨウ素、臭素又は塩素である。〕で
表わされる基と反応せしめることにより製造することが
できる。この反応は、好ましくはArbusov法の条
件下で、例えば、室温から高温、例えば160℃の範囲
の反応温度において、反応中に生成するトリアルキルシ
リルハライドを除去しながら行われる。
さらに、QがQoでありそしてXが活性化基の化合物は
、上に定義された式(VI)の化合物を、R1、RZ及
びXが前記の意味を有する式(TV)の化合物と反応せ
しめることによって製造することができる。この反応は
好ましくは、ミバエリス付加反応の一般的条件下で、例
えば室温から80℃の間の温度において、不活性溶剤の
存在下、又は一層大きな可能性としては不存在下で実施
される。
、上に定義された式(VI)の化合物を、R1、RZ及
びXが前記の意味を有する式(TV)の化合物と反応せ
しめることによって製造することができる。この反応は
好ましくは、ミバエリス付加反応の一般的条件下で、例
えば室温から80℃の間の温度において、不活性溶剤の
存在下、又は一層大きな可能性としては不存在下で実施
される。
式(Vl)のシリル試薬は新規であり、そしてこの発明
の部分である。弐(Vl)の好ましい化合物は次の式(
VIA)、 (式中、R” 、R’ 、R”及びR’は前記の意味を
有し、そしてR4は水素又はC1〜4−アルキル、例え
ばエチル−トリメチルシリル(ジェトキシメチル)ホス
ホニド、メチル−トリメチルシリル(ジメトキシメチル
)ホスホニド、又はエチル−トリメチルシリル(I、1
−ジエトキシエチルホスホニドである、) を有する化合物である。
の部分である。弐(Vl)の好ましい化合物は次の式(
VIA)、 (式中、R” 、R’ 、R”及びR’は前記の意味を
有し、そしてR4は水素又はC1〜4−アルキル、例え
ばエチル−トリメチルシリル(ジェトキシメチル)ホス
ホニド、メチル−トリメチルシリル(ジメトキシメチル
)ホスホニド、又はエチル−トリメチルシリル(I、1
−ジエトキシエチルホスホニドである、) を有する化合物である。
式(Vl)の化合物は、場合によっては塩基性触媒の存
在下で、QがQoでありそしてReがアルキルである式
(III)の化合物、すなわち次の式(IIIA)、 (式中、Qo及びRCOは前記の意味を有する、)で表
わされる化合物、好ましくは次の式(mB)、(式中、
RCO1R′″及びRhは前記の意味を有し、そしてR
4は水素又はC8〜4−アルキルである、) で表わされる化合物を、適当なシリル化剤、例えばトリ
メチルシリルクロリド、ジメチル−tert −ブチル
−シリルクロリド又はジメチル(2,3−ジメチル−2
−ブチル)シリルクロリドと、第三級塩基、例えばピリ
ジンもしくはトリエチルアミン、ヘキサメチルジシラザ
ン、1−トリメチルシリル−イミダゾール、又は1−(
ジメチル−Lert−ブチル−シリル)−イミダゾール
、又は他の任意の適当なシリル化剤と反応せしめること
により製造することができる。
在下で、QがQoでありそしてReがアルキルである式
(III)の化合物、すなわち次の式(IIIA)、 (式中、Qo及びRCOは前記の意味を有する、)で表
わされる化合物、好ましくは次の式(mB)、(式中、
RCO1R′″及びRhは前記の意味を有し、そしてR
4は水素又はC8〜4−アルキルである、) で表わされる化合物を、適当なシリル化剤、例えばトリ
メチルシリルクロリド、ジメチル−tert −ブチル
−シリルクロリド又はジメチル(2,3−ジメチル−2
−ブチル)シリルクロリドと、第三級塩基、例えばピリ
ジンもしくはトリエチルアミン、ヘキサメチルジシラザ
ン、1−トリメチルシリル−イミダゾール、又は1−(
ジメチル−Lert−ブチル−シリル)−イミダゾール
、又は他の任意の適当なシリル化剤と反応せしめること
により製造することができる。
採用される工程条件は使用される特定のシリル化剤に依
存して異る。反応温度は約−20℃〜約150℃であり
、そして反応は不活性溶剤、例えばジエチルエーテル、
トルエン、テトラヒドロフラン又はジオキサンを使用し
て、又は使用しないで行われる。他の方法として、過剰
のシリル化剤を稀釈剤として使用することができる。式
(II[A)又は(I[[B)の化合物に対するシリル
化剤のモル比は便利には1;lであるが、ある場合には
モル過剰量のシリル化剤を使用するのが便利である。
存して異る。反応温度は約−20℃〜約150℃であり
、そして反応は不活性溶剤、例えばジエチルエーテル、
トルエン、テトラヒドロフラン又はジオキサンを使用し
て、又は使用しないで行われる。他の方法として、過剰
のシリル化剤を稀釈剤として使用することができる。式
(II[A)又は(I[[B)の化合物に対するシリル
化剤のモル比は便利には1;lであるが、ある場合には
モル過剰量のシリル化剤を使用するのが便利である。
式(■)の化合物は公知であり又は公知の方法により製
造することができる。
造することができる。
式(I)の化合物はまた、次の式(■)、C式中、R1
,R1及びXは前記の意味を有する。) で表わされる化合物において、基Xを次の式(Id)(
式中、R3は前記の意味を有する、)で表わされる基、
に転換することによっても製造することができる。
,R1及びXは前記の意味を有する。) で表わされる化合物において、基Xを次の式(Id)(
式中、R3は前記の意味を有する、)で表わされる基、
に転換することによっても製造することができる。
基Xの弐(Id)の基への転換は、弐(II)の出発物
質の製造に関して前記した任意の方法により行うことが
できる。
質の製造に関して前記した任意の方法により行うことが
できる。
上記の反応は、公知の方法に従って、試薬としても機能
し得る溶剤の存在下又は非存在下において、必要であれ
ば冷却又は加熱しながら、密閉容器中で、そして/又は
不活性雰囲気下で行われる。
し得る溶剤の存在下又は非存在下において、必要であれ
ば冷却又は加熱しながら、密閉容器中で、そして/又は
不活性雰囲気下で行われる。
式(■)の出発物質は、例えば、式(V)の化合物から
、Rc−0−基をヒドロキシに転換することにより製造
することができ、この反応は前記の方法に従って、例え
ば酸性加水分解により、例えば水性鉱酸、例えば塩酸で
処理することにより、あるいは親核性試薬で処理しそし
て同時に又は引き続きQoである基Qを水素に転換する
ことにより製造することができる。
、Rc−0−基をヒドロキシに転換することにより製造
することができ、この反応は前記の方法に従って、例え
ば酸性加水分解により、例えば水性鉱酸、例えば塩酸で
処理することにより、あるいは親核性試薬で処理しそし
て同時に又は引き続きQoである基Qを水素に転換する
ことにより製造することができる。
R’ 、R”及びR″が前記の意味を有し、RCがR”
であり、そしてQは前記の意味を有するQoである式(
If)の化合物はまた、次の式(IX)、で表わされる
化合物を、公知の方法により、例えば触媒的水素化によ
り還元することによっても製造することができる。
であり、そしてQは前記の意味を有するQoである式(
If)の化合物はまた、次の式(IX)、で表わされる
化合物を、公知の方法により、例えば触媒的水素化によ
り還元することによっても製造することができる。
式(IX)の化合物は、次の式(X)、で表わされる化
合物を、次の式(XI)、QOe (式中、Rl 、 QO及びRCOは前記の意味を有し
、そしてMはアルカリ金属又は遷移金属の原子であり、
好ましくはリチウムである、)で表わされる陰イオンの
形で、次の式(X■)、。
合物を、次の式(XI)、QOe (式中、Rl 、 QO及びRCOは前記の意味を有し
、そしてMはアルカリ金属又は遷移金属の原子であり、
好ましくはリチウムである、)で表わされる陰イオンの
形で、次の式(X■)、。
(式中、R2及びR1は前記の意味を有する、)で表わ
される化合物と反応せしめることにより製造することが
できる。式(XI)の化合物は式・(X)の化合物を、
金属原子M (Mは前記の意味を存する、)を含有する
塩基と反応せしめることにより製造することができる。
される化合物と反応せしめることにより製造することが
できる。式(XI)の化合物は式・(X)の化合物を、
金属原子M (Mは前記の意味を存する、)を含有する
塩基と反応せしめることにより製造することができる。
式(IX)の化合物及びその製造方法は新規であり、そ
してこの発明の部分を構成する。
してこの発明の部分を構成する。
第一段階において使用される塩基は、例えばC3〜4−
アルキルリチウム、02〜4−アルキルリチウムアミド
又は金属アミド、好ましくはリチウムジイソプロピルア
ミドである。反応は、非プロトン性溶剤、好ましくはエ
ーテルを用いて、特にテトラヒドロフランを用いて行う
ことができる。
アルキルリチウム、02〜4−アルキルリチウムアミド
又は金属アミド、好ましくはリチウムジイソプロピルア
ミドである。反応は、非プロトン性溶剤、好ましくはエ
ーテルを用いて、特にテトラヒドロフランを用いて行う
ことができる。
不活性ガス雰囲気下、反応温度は一り8℃〜室温の範囲
で異なることができる。
で異なることができる。
式(X)の化合物は公知であり(E Po、009,3
48)又は公知の方法により製造することができる。
48)又は公知の方法により製造することができる。
次の式(V)、
c式中、Rc及びR2は前記の意味を有し、Qは保護基
Q0であってこのQoは前記の意味を有し、R1は水素
であり、そしてXは前に定義した5xから選択されそし
て式(I a)の1−C11(R”)−”Z(ここで、
R3はHでありそしてZは前記の意味を有する)に転換
され得る基である活性基Xaである。〕 で表わされる化合物はまた、次の弐(VA)、で表わさ
れる化合物を、次の式(VB)、Q’
e (式中、Qo、Rco、Xa及びMは前記の意味を有す
る、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(X III)、
LR” (XI[) (式中、R2は前記の意味を有し、そしてLは脱離基、
例えばハロゲン又はトシルである、)で表わされる化合
物と反応せしめることにより製造することができる。
Q0であってこのQoは前記の意味を有し、R1は水素
であり、そしてXは前に定義した5xから選択されそし
て式(I a)の1−C11(R”)−”Z(ここで、
R3はHでありそしてZは前記の意味を有する)に転換
され得る基である活性基Xaである。〕 で表わされる化合物はまた、次の弐(VA)、で表わさ
れる化合物を、次の式(VB)、Q’
e (式中、Qo、Rco、Xa及びMは前記の意味を有す
る、) で表わされる陰イオンの形で、次の式(X III)、
LR” (XI[) (式中、R2は前記の意味を有し、そしてLは脱離基、
例えばハロゲン又はトシルである、)で表わされる化合
物と反応せしめることにより製造することができる。
式(VA)の出発物質は公知であり、又は式(VB)の
公知化合物について記載されている方法、例えばコーロ
ッパ特許出願E P O,009,348に記載されて
いる方法に従って製造することができる。
公知化合物について記載されている方法、例えばコーロ
ッパ特許出願E P O,009,348に記載されて
いる方法に従って製造することができる。
使用される工程条件に依存して、弐N)の化合物は遊離
の形(ツビフテルイオン)又はそれらの塩の形で得られ
る。遊離化合物は塩からそれ自体公知の方法により得る
ことができ、酸付加塩を塩基性剤で処理することにより
、そして塩基との塩を適当な酸性剤で処理することによ
り得られる。
の形(ツビフテルイオン)又はそれらの塩の形で得られ
る。遊離化合物は塩からそれ自体公知の方法により得る
ことができ、酸付加塩を塩基性剤で処理することにより
、そして塩基との塩を適当な酸性剤で処理することによ
り得られる。
酸付加塩は遊離化合物から酸又は陰イオン交換体との反
応により、塩基との塩は遊離化合物を塩基又は適当な陽
イオン交換体で処理することにより得ることができる。
応により、塩基との塩は遊離化合物を塩基又は適当な陽
イオン交換体で処理することにより得ることができる。
化合物(それらの塩を包含する)は、それらの水加物の
形で得ることができ、又は結晶化のために使用された他
の溶剤を含有することができる。
形で得ることができ、又は結晶化のために使用された他
の溶剤を含有することができる。
遊離形の及びその塩の形の新規化合物の密接な関連性に
基き、意味及び目的に依存して適切な場合には、”遊離
化合物”なる語は所望によりさらにその塩を包含すべき
であり、そして“塩”なる語は所望によりさらに遊離化
合物を包含すべきである。
基き、意味及び目的に依存して適切な場合には、”遊離
化合物”なる語は所望によりさらにその塩を包含すべき
であり、そして“塩”なる語は所望によりさらに遊離化
合物を包含すべきである。
式(I)の化合物の異性体の混合物は公知の方法に従っ
て単一異性体に分離することができる。
て単一異性体に分離することができる。
ラセミ体は、公知の古典的方法を用いて、例えば光学活
性塩形成酸、例えば(+)−もしくは(=)−酒石酸又
はD−(+)−樟脳スルホン酸、又は光学活性塩形成塩
基、例えば(+)−もしくは(−)−α−メチル−ベン
ジルアミンを用いてジアステレオマー塩を形成し、この
ジアステレオマー塩を分離し、そしてこの分離された所
望の遊離光学対掌体を遊離させることにより、個々の光
学対掌体に分割することができる。
性塩形成酸、例えば(+)−もしくは(=)−酒石酸又
はD−(+)−樟脳スルホン酸、又は光学活性塩形成塩
基、例えば(+)−もしくは(−)−α−メチル−ベン
ジルアミンを用いてジアステレオマー塩を形成し、この
ジアステレオマー塩を分離し、そしてこの分離された所
望の遊離光学対掌体を遊離させることにより、個々の光
学対掌体に分割することができる。
この発明はさらに、方法の任意の段階で中間体として得
られた化合物を出発物質として使用しそして残りの工程
段階を実施し、又は出発物質を反応条件下で生成せしめ
、又は誘導体、例えば塩の形で使用する方法の態様に関
する。
られた化合物を出発物質として使用しそして残りの工程
段階を実施し、又は出発物質を反応条件下で生成せしめ
、又は誘導体、例えば塩の形で使用する方法の態様に関
する。
この発明の方法において、使用される出発物質は、好ま
しくは特に価値があるとして最初に記載した化合物をも
たらす出発物質である。
しくは特に価値があるとして最初に記載した化合物をも
たらす出発物質である。
この発明の化合物は、1〜100100n/Vの阻害濃
度をもって、GABA、受容体部位に対して非常に強い
親和性を有することが見出された。例1の化合物につい
て、ハタロフェン(baclofen)の活性より少な
くとも20倍顕著な活性が観察される。GABAm受容
体部位における作動薬(agonist)は、バタロフ
ェンと同様に、を髄痙れん、多発性硬化症、及び脳性麻
痺において筋弛緩剤として使用することができ、さらに
これらは三叉神経痛において、薬物禁断症状において、
及び鎮痛薬として活性であることが予想される。GAB
AI及びGABAA受容体作動性を合わせ持つ化合物は
抗抑制剤として活性であろう。
度をもって、GABA、受容体部位に対して非常に強い
親和性を有することが見出された。例1の化合物につい
て、ハタロフェン(baclofen)の活性より少な
くとも20倍顕著な活性が観察される。GABAm受容
体部位における作動薬(agonist)は、バタロフ
ェンと同様に、を髄痙れん、多発性硬化症、及び脳性麻
痺において筋弛緩剤として使用することができ、さらに
これらは三叉神経痛において、薬物禁断症状において、
及び鎮痛薬として活性であることが予想される。GAB
AI及びGABAA受容体作動性を合わせ持つ化合物は
抗抑制剤として活性であろう。
他方、拮抗薬は筋刺激薬として作用し、そして筋萎縮、
ジストロフィー及び例えばパーキンソン病及びエルプ麻
痺に関連する弱化において活性であることが予想される
。GABAm受容器拮抗薬は神経伝達中にグルタミン酸
及びアスパラギン酸の放出を増加することが予想される
ので、脳での情報処理における陽性効果が予想される。
ジストロフィー及び例えばパーキンソン病及びエルプ麻
痺に関連する弱化において活性であることが予想される
。GABAm受容器拮抗薬は神経伝達中にグルタミン酸
及びアスパラギン酸の放出を増加することが予想される
ので、脳での情報処理における陽性効果が予想される。
この発明の代表的な化合物として、例8の化合物は、G
ABA、l受容体部位において35nMのIC5o−値
をもって、筋弛緩薬として(6〜9■/kgi、P。
ABA、l受容体部位において35nMのIC5o−値
をもって、筋弛緩薬として(6〜9■/kgi、P。
の回転棒マウスID5.値)、鎮痛薬として(4mg/
kg p、o、の、マウスにおけるフェニルキノン苦悶
EDS。値)及び抗痙れん薬として(DBA/2マウス
における聴性発作、6mg/kg i、p、のIDs。
kg p、o、の、マウスにおけるフェニルキノン苦悶
EDS。値)及び抗痙れん薬として(DBA/2マウス
における聴性発作、6mg/kg i、p、のIDs。
値)活性であることが示された。200mg/kg 1
.p、において死が観察されなかった。
.p、において死が観察されなかった。
この発明の化合物はそれらの薬理学的プロフィールに従
って筋弛緩薬、筋刺激薬、鎮痛薬、鎮痛薬、抗抑制薬、
ノートロピクス(nootropics)、及び薬物禁
断症状緩和薬として活性であることが要求される。
って筋弛緩薬、筋刺激薬、鎮痛薬、鎮痛薬、抗抑制薬、
ノートロピクス(nootropics)、及び薬物禁
断症状緩和薬として活性であることが要求される。
前記の有利な性質がこの発明の化合物を、ヒトを含む哺
乳類動物のための特異的療法剤として非常に価値あるも
のにしている。
乳類動物のための特異的療法剤として非常に価値あるも
のにしている。
この発明はまた、式(I)の化合物又はその医薬として
許容される塩を含有する医薬組成物に関する。これらの
製造は、それが経口的に又は非経腸的に、例えば静脈内
に、訪中に又は皮下に投与された場合、特に上記の症状
において使用することができる。必要な投与量は、治療
されるべき特定の疾患、その重症度及び療法期間に依存
する。
許容される塩を含有する医薬組成物に関する。これらの
製造は、それが経口的に又は非経腸的に、例えば静脈内
に、訪中に又は皮下に投与された場合、特に上記の症状
において使用することができる。必要な投与量は、治療
されるべき特定の疾患、その重症度及び療法期間に依存
する。
個々の投与の回数及び量並びにさらに投与方法は、関与
する宿主の個々の試験を基礎にして最良に決定され、こ
の方法は当業者に良く知られている。
する宿主の個々の試験を基礎にして最良に決定され、こ
の方法は当業者に良く知られている。
しかしながら、原則として、この発明の医療的有効量は
約O3l〜lomg/kg体重・日である。医薬製剤は
公知の方法に従って標準的助剤を用いて製造される。
約O3l〜lomg/kg体重・日である。医薬製剤は
公知の方法に従って標準的助剤を用いて製造される。
次の例はこの発明を説明することを意図するものであり
、そしてこの発明をこの例に限定することを意図するも
のではない。すべての部は重量による。とくにことわら
ない限り、減圧蒸発は好ましくは20−130 ミリバ
ールの間で行う。ff1pとして示すデータはリン31
− NMRデータである。
、そしてこの発明をこの例に限定することを意図するも
のではない。すべての部は重量による。とくにことわら
ない限り、減圧蒸発は好ましくは20−130 ミリバ
ールの間で行う。ff1pとして示すデータはリン31
− NMRデータである。
適−玉
a)30mlの36%水性塩酸中5.4gのエチル3−
アミノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの
溶液を、窒素雰囲気下で3時間還流加熱する。次に、こ
の反応混合物を室温に冷却し、減圧fM k’Wし、そ
して10mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる
。粗生成物を5Qrrlの乾燥メタノールに溶解し、溶
液を0℃に冷却し、そして5mj2のプロピレンオキシ
ドを滴加する。混合物を減圧濃縮し、50m1のエタノ
ールと共にすりつぶし、そして粗生成物を濾過する。エ
タノールとメタノールとの混合物からの再結晶化により
3−アミノプロピル亜ホスホン酸を得る。m、p。
アミノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの
溶液を、窒素雰囲気下で3時間還流加熱する。次に、こ
の反応混合物を室温に冷却し、減圧fM k’Wし、そ
して10mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる
。粗生成物を5Qrrlの乾燥メタノールに溶解し、溶
液を0℃に冷却し、そして5mj2のプロピレンオキシ
ドを滴加する。混合物を減圧濃縮し、50m1のエタノ
ールと共にすりつぶし、そして粗生成物を濾過する。エ
タノールとメタノールとの混合物からの再結晶化により
3−アミノプロピル亜ホスホン酸を得る。m、p。
209℃〜213℃、” P = +28.2ppm(
DzO)。
DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
25rrlのエタノール中20gのエチル−(ジェトキ
シメチル)ホスホニド〔オーストラリアン・ジャーナル
・オブ・ケミストリー(Aust、J。
シメチル)ホスホニド〔オーストラリアン・ジャーナル
・オブ・ケミストリー(Aust、J。
Chem、 )33.292 (I980))及び5g
のアクリロニトリルの溶液を、25ml1のエタノール
中1gの水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪拌
された混合物に加える。反応混合物を室温に放置加温し
、そして4時間攪拌する。1mβの氷酢酸を加え、そし
てこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を59m
1の酢酸エチルに溶解し、26m1の水で2回洗浄し、
そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして
次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧蒸留してエチル
2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネート
を得る。
のアクリロニトリルの溶液を、25ml1のエタノール
中1gの水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪拌
された混合物に加える。反応混合物を室温に放置加温し
、そして4時間攪拌する。1mβの氷酢酸を加え、そし
てこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物を59m
1の酢酸エチルに溶解し、26m1の水で2回洗浄し、
そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして
次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧蒸留してエチル
2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネート
を得る。
b、p、 114℃/ 0.01mbar、” P =
+40.8ppm (CDCl 3)。
+40.8ppm (CDCl 3)。
この生成物はまた次のようにして製造することができる
。
。
9gのへキサメチルジシラザン中10.6gのエチル−
(ジェトキシメチル)ホスホニドの溶液を窒素雰囲気下
で3時間還流加熱する。反応混合物を20℃に放冷し、
そして次に減圧蒸留してエチル−トリメチルシリル(ジ
ェトキシメチル)ホスホニドを得る。b、P、51℃/
0.01mbar、、、” P = +146.9p
pm(CDCl 、)。
(ジェトキシメチル)ホスホニドの溶液を窒素雰囲気下
で3時間還流加熱する。反応混合物を20℃に放冷し、
そして次に減圧蒸留してエチル−トリメチルシリル(ジ
ェトキシメチル)ホスホニドを得る。b、P、51℃/
0.01mbar、、、” P = +146.9p
pm(CDCl 、)。
エチル−トリメチルシリル(ジェトキシメチル)ホスホ
ニドと3−クロロプロピオニトリルとの反応によりエチ
ル2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。上記化合物と同一。
ニドと3−クロロプロピオニトリルとの反応によりエチ
ル2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。上記化合物と同一。
450 m 12のエタノール中9.6gのエチル2−
シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの?
9 ?flをエタノール中8%アンモニア溶液82gに
加える。これに、5mlのラネーニッケルを加え、そし
て生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまでl
barにて水素化する。次にこの混合物を濾過し、濾
液を減圧縮宿し、そして粗生成物を蒸留してエチル3−
アミノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを
得る。b、p、 150℃/ 0.01mbar、 ”
P = +46.4ppm (CDCj2 z)。
シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの?
9 ?flをエタノール中8%アンモニア溶液82gに
加える。これに、5mlのラネーニッケルを加え、そし
て生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまでl
barにて水素化する。次にこの混合物を濾過し、濾
液を減圧縮宿し、そして粗生成物を蒸留してエチル3−
アミノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを
得る。b、p、 150℃/ 0.01mbar、 ”
P = +46.4ppm (CDCj2 z)。
例2゜
前記の例1に例示された方法に従って得られる他の化合
物は、例えば、次の表に示す化合物である。
物は、例えば、次の表に示す化合物である。
RI RZ Rj
a)水素 4−クロロフェニル 水素(R
5,R又はS形) b)水素 2−メチルフェニル 水素C)
水素 4−ブコモフェニル 水素d)水素
2−メトキシフェニル 水素e)水素3,
4−ジメトキシフェニル 水素f)水素 4−ト
リフルオロメチルフェニル 水素g)水素 3,4−ジ
クロロフェニル 水Rh)水素 5ec−ブチ
ル 水素i)水素 n−オクチル
水素a)50mj!の36%水性塩
酸中14.1gのエチル3−アミノ−1−メチルプロピ
ル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を5時間
還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧
下で濃縮しそして20m7!の水と共に減圧下で共蒸留
する。次に、粗生成物を29m1の水に溶解し、29m
1のジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を
分離し、そして減圧濃縮する。粗生成物を50m1の乾
燥エタノールに溶解し、そして5mj2のプロピレンオ
キシドを滴加して油状固体を生成せしめる。次に、この
生成物をダウエックス50W−X2により調製されたイ
オン交換樹脂カラムに通し、そして水により溶出する。
a)水素 4−クロロフェニル 水素(R
5,R又はS形) b)水素 2−メチルフェニル 水素C)
水素 4−ブコモフェニル 水素d)水素
2−メトキシフェニル 水素e)水素3,
4−ジメトキシフェニル 水素f)水素 4−ト
リフルオロメチルフェニル 水素g)水素 3,4−ジ
クロロフェニル 水Rh)水素 5ec−ブチ
ル 水素i)水素 n−オクチル
水素a)50mj!の36%水性塩
酸中14.1gのエチル3−アミノ−1−メチルプロピ
ル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を5時間
還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧
下で濃縮しそして20m7!の水と共に減圧下で共蒸留
する。次に、粗生成物を29m1の水に溶解し、29m
1のジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を
分離し、そして減圧濃縮する。粗生成物を50m1の乾
燥エタノールに溶解し、そして5mj2のプロピレンオ
キシドを滴加して油状固体を生成せしめる。次に、この
生成物をダウエックス50W−X2により調製されたイ
オン交換樹脂カラムに通し、そして水により溶出する。
ニンヒドリン陽性を示す画分を集め、そして減圧蒸発を
行って3−アミノ−1−メチル−プロピル亜ホスホン酸
を吸湿性固体として得る。m、p、55℃〜60℃、”
P =35.1 ppm(DzO)。
行って3−アミノ−1−メチル−プロピル亜ホスホン酸
を吸湿性固体として得る。m、p、55℃〜60℃、”
P =35.1 ppm(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
30m1lの乾燥エタノール中23.5gのエチル−(
ジェトキシメチル)ホスホニド及び6.7gのクロトノ
ニトリルの溶液を、30m1のエタノール中1.2gの
水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪拌された混
合物に、窒素雰囲気下O℃にて加える。この反応混合物
を室温まで放置加温し、そして4時間攪拌する。1rr
lの氷酢酸を加え、そして混合物を減圧濃縮する。生ず
る粗生成物を50rrlの酢酸エチルに溶解し、25m
j+の水で2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物を
減圧蒸留してエチル2−シアノ−1−メチルエチル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートを得る。
ジェトキシメチル)ホスホニド及び6.7gのクロトノ
ニトリルの溶液を、30m1のエタノール中1.2gの
水酸化ナトリウム(油中50%分散体)の攪拌された混
合物に、窒素雰囲気下O℃にて加える。この反応混合物
を室温まで放置加温し、そして4時間攪拌する。1rr
lの氷酢酸を加え、そして混合物を減圧濃縮する。生ず
る粗生成物を50rrlの酢酸エチルに溶解し、25m
j+の水で2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして次に減圧濃縮する。粗生成物を
減圧蒸留してエチル2−シアノ−1−メチルエチル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートを得る。
b、p、 116℃/ 0.01mbar、 ” P
= +42.2及び+42.0ppm (CD(I,)
。
= +42.2及び+42.0ppm (CD(I,)
。
150 meのエタノール中17.0 gのエチル1−
メチル−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を、エタノール中8%アンモニウム溶液
155.0gに加える。これに、10m7!のラネーニ
ッケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が
取り込まれるまで1 barにて水素化する。次に、こ
の混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮し、そして粗
生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−1−メチルプ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを得る。b
、p、 140℃10.01mbarS” P = +
47.0及び46.7ppm (CDCj!3)。
メチル−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を、エタノール中8%アンモニウム溶液
155.0gに加える。これに、10m7!のラネーニ
ッケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が
取り込まれるまで1 barにて水素化する。次に、こ
の混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮し、そして粗
生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−1−メチルプ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを得る。b
、p、 140℃10.01mbarS” P = +
47.0及び46.7ppm (CDCj!3)。
■−工
a)30mj!の36%水性塩酸中6.0gのエチル3
−アミノ−2−メチルプロピル(ジェトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を7時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10m1の
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめた。粗生成物を50
m1の乾燥エーテルに溶解し、そして5mA’のプロピ
レンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過し、そし
て乾燥して3−アミノ−2−メチルプロピル亜ホスホン
酸−水和物を得る。m、p、76℃〜100℃、31
p = +25.8ppm(DzO)。
−アミノ−2−メチルプロピル(ジェトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を7時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、そして10m1の
水と共に減圧下で2回共蒸発せしめた。粗生成物を50
m1の乾燥エーテルに溶解し、そして5mA’のプロピ
レンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過し、そし
て乾燥して3−アミノ−2−メチルプロピル亜ホスホン
酸−水和物を得る。m、p、76℃〜100℃、31
p = +25.8ppm(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
。
30m1のエタノール中23.5gのエチル−(ジェト
キシメチル)ホスホニド及び6.7gメタクリ口ニトリ
ルの溶液を、30m1のエタノール中1.2gのナトリ
ウムヒドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物
に窒素雰囲気下O℃にて滴加する。反応混合物を室温に
放置加温し、そして4時間攪拌する。1mJの酢酸を加
え、そしてこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物
を50mj2の酢酸エチルに溶解し、”15m1の水で
2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾
燥し、そして次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧濃
縮してエチル2−シアノプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートを得る。b、p、 116℃10.01
mbar、 ” P = +40.4及び+40.3p
pm (CDCl :l)。
キシメチル)ホスホニド及び6.7gメタクリ口ニトリ
ルの溶液を、30m1のエタノール中1.2gのナトリ
ウムヒドリド(油中50%分散体)の攪拌された混合物
に窒素雰囲気下O℃にて滴加する。反応混合物を室温に
放置加温し、そして4時間攪拌する。1mJの酢酸を加
え、そしてこの混合物を減圧濃縮する。生ずる粗生成物
を50mj2の酢酸エチルに溶解し、”15m1の水で
2回洗浄し、そして有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾
燥し、そして次に減圧下で濃縮する。粗生成物を減圧濃
縮してエチル2−シアノプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートを得る。b、p、 116℃10.01
mbar、 ” P = +40.4及び+40.3p
pm (CDCl :l)。
150m7!のエタノール中17.0gのエチル2−シ
アノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネート溶液
を、エタノール中8%アンモニア?容液155gに加え
る。これに、lQmj!のラネーニッケルを加えそして
生ずる混合物を理論量を水素が取り込まれるまで1バー
ルで水素化する。この混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮
し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−
2−メチルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。
アノプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネート溶液
を、エタノール中8%アンモニア?容液155gに加え
る。これに、lQmj!のラネーニッケルを加えそして
生ずる混合物を理論量を水素が取り込まれるまで1バー
ルで水素化する。この混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮
し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチル3−アミノ−
2−メチルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。
b、p、 150℃/ 0.01bar 、” P =
+45.8及び+45.7ppm (CDCI!3)
。
+45.8及び+45.7ppm (CDCI!3)
。
a) 1oOrr+1の36%水性塩酸中9.8gの
エチル3−アミノブチル(ジェトキシメチル)ホスフィ
ネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反応混合物
を室温に放冷し、減圧濃縮し、そしてlQmlの水と共
に減圧下で共蒸発せしめる。次に、粗生成物を29m1
の水に溶解し、20m/のジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして水性相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。
エチル3−アミノブチル(ジェトキシメチル)ホスフィ
ネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反応混合物
を室温に放冷し、減圧濃縮し、そしてlQmlの水と共
に減圧下で共蒸発せしめる。次に、粗生成物を29m1
の水に溶解し、20m/のジエチルエーテルで2回洗浄
し、そして水性相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。
粗生成物をダウエックス50W−X2のカラムに通し、
水で溶出する。ニンヒドリン陽性を示す両分を一緒にし
、そして減圧濃縮して3−アミノブチル亜ホスホン酸(
I/3 MH20)を得る。m、p、 195℃〜20
0℃、ff1p= +28.1ppn+(DzO)。
水で溶出する。ニンヒドリン陽性を示す両分を一緒にし
、そして減圧濃縮して3−アミノブチル亜ホスホン酸(
I/3 MH20)を得る。m、p、 195℃〜20
0℃、ff1p= +28.1ppn+(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
15.0gのエチル−トリメチルシリル(ジェトキシメ
チル)ホスホニドを、3.9gのメチルビニルケトンの
攪拌された溶液に、窒素雰囲気化室温にて滴下する。次
に、混合物を50℃にて1時間加熱する。次に、この混
合物を室温に放冷し、そして25m1のクロロホルムを
加え次に10m1の水を加え、この混合物を0.5時間
激して攪拌する。
チル)ホスホニドを、3.9gのメチルビニルケトンの
攪拌された溶液に、窒素雰囲気化室温にて滴下する。次
に、混合物を50℃にて1時間加熱する。次に、この混
合物を室温に放冷し、そして25m1のクロロホルムを
加え次に10m1の水を加え、この混合物を0.5時間
激して攪拌する。
次に有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し・そし
て減圧下で濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチ
ル3−オキソブチル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。b、p、 130℃〜135℃/ 0.02
mbar、 ” P = +45.3ppm (CDC
l 3)。
て減圧下で濃縮し、そして粗生成物を減圧蒸留してエチ
ル3−オキソブチル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを得る。b、p、 130℃〜135℃/ 0.02
mbar、 ” P = +45.3ppm (CDC
l 3)。
100m1のメタノール中8.0gのエチル3−オキソ
ブチル(ジェトキシメチル)ホスフィネート(7)mH
に、22.8gの酢酸アンモニウム及び1.3gのナト
リウムシアノボロヒドレートを加える。この混合物を窒
素雰囲気下で室温にて2.5時間攪拌し、そして次に一
夜放置する。次に、必要量の希塩酸により混合物をpH
2に酸性化し、そしてメタノールを減圧蒸発せしめる。
ブチル(ジェトキシメチル)ホスフィネート(7)mH
に、22.8gの酢酸アンモニウム及び1.3gのナト
リウムシアノボロヒドレートを加える。この混合物を窒
素雰囲気下で室温にて2.5時間攪拌し、そして次に一
夜放置する。次に、必要量の希塩酸により混合物をpH
2に酸性化し、そしてメタノールを減圧蒸発せしめる。
粗生成物を25m7!の水に溶解し、20mj?のジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水相を水酸化カ
リウムによりpH12にアルカリ性化する。次に、溶液
を塩化ナトリウムで飽和しそして25m1ずつのジクロ
ロメタンで3回抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで
乾燥し、濾過しそして減圧蒸発せしめ、そして粗生成物
を蒸発してエチル3−アミノブチル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを得る。b、p。
チルエーテルで2回洗浄し、そして次に水相を水酸化カ
リウムによりpH12にアルカリ性化する。次に、溶液
を塩化ナトリウムで飽和しそして25m1ずつのジクロ
ロメタンで3回抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで
乾燥し、濾過しそして減圧蒸発せしめ、そして粗生成物
を蒸発してエチル3−アミノブチル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを得る。b、p。
150℃/ 0.01mbar、 ” P = +46
.lppm (CDC1s”)。
.lppm (CDC1s”)。
班−五
a) 200mj+の36%の水性塩酸中17.9
gのエチル3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートのt8液を
6時間還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷し
、減圧下で濃縮し、そして50rrlの水と共に減圧下
で共蒸発する。次に、粗生成物を50m1の水に溶解し
、20rrlのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして
次に水相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。次に、粗
生成物を50m1のエタノールに溶解し、そして5ml
のプロピレンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過
により集め、そして乾燥して3−アミノ−1−(4−ク
ロロフェニル)プロピル亜ホスホン酸を得る。
gのエチル3−アミノ−1−(4−クロロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートのt8液を
6時間還流加熱する。次に、反応混合物を室温に放冷し
、減圧下で濃縮し、そして50rrlの水と共に減圧下
で共蒸発する。次に、粗生成物を50m1の水に溶解し
、20rrlのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして
次に水相を分離し、そして減圧蒸発せしめる。次に、粗
生成物を50m1のエタノールに溶解し、そして5ml
のプロピレンオキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過
により集め、そして乾燥して3−アミノ−1−(4−ク
ロロフェニル)プロピル亜ホスホン酸を得る。
m、p 210℃〜220℃、” P = +29.
6ppm(DzO)。
6ppm(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
100 m 12のエタノール中25.8 gのエチル
−(ジェトキシメチル)ホスホニド及び18.0 gの
4−クロロシナモニトリルの溶液を30m1のエタノー
ル中1.2gのナトリウムヒドリド(油中50%分散体
)の攪拌された混合物に、窒素雰囲気下O℃にて加える
。反応混合物を室温に放置加温し、そして4時間撹拌す
る。1mlの氷酢酸を加え、そして混合物を減圧下で遠
心分離する。得られる粗生成物を50mj!の酢酸エチ
ルに溶解し、25m7!の水で2回洗浄し、そして有機
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃
縮する。粗生成物を減圧蒸留してエチル1−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)
ホスフィ5ネートを得る。b、9.180℃〜200℃
10.02mbar、 ” P = +37.9及び+
37.8ppm (CDCI!z)。
−(ジェトキシメチル)ホスホニド及び18.0 gの
4−クロロシナモニトリルの溶液を30m1のエタノー
ル中1.2gのナトリウムヒドリド(油中50%分散体
)の攪拌された混合物に、窒素雰囲気下O℃にて加える
。反応混合物を室温に放置加温し、そして4時間撹拌す
る。1mlの氷酢酸を加え、そして混合物を減圧下で遠
心分離する。得られる粗生成物を50mj!の酢酸エチ
ルに溶解し、25m7!の水で2回洗浄し、そして有機
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして次に減圧濃
縮する。粗生成物を減圧蒸留してエチル1−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)
ホスフィ5ネートを得る。b、9.180℃〜200℃
10.02mbar、 ” P = +37.9及び+
37.8ppm (CDCI!z)。
85m1のエタノール中20gのエチル1−(4−クロ
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートのン容液をエタノール98%アンモニア
溶液131gに加える。これに、8.5mA’のラネー
ニッケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量を水素
が取り込まれるまで1 barにて水素化する。この混
合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減
圧蒸留してエチル3−アミノ−1−(4−クロロフェニ
ル)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを得
る。
ロフェニル)−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートのン容液をエタノール98%アンモニア
溶液131gに加える。これに、8.5mA’のラネー
ニッケルを加え、そして生ずる混合物を、理論量を水素
が取り込まれるまで1 barにて水素化する。この混
合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、そして粗生成物を減
圧蒸留してエチル3−アミノ−1−(4−クロロフェニ
ル)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを得
る。
b、p、 190℃/ 0.02mbarS3.’ P
= +41.5及び41.3ppm(CDCl 3)
。
= +41.5及び41.3ppm(CDCl 3)
。
a) 100mj!の36%水性塩酸中10.5 g
のエチル3−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロ
ピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を2時
間還流する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃
縮し、そして25m#の水と共に減圧下で2回共蒸発せ
しめる。次に、粗生成物を20m/の水に溶解し、20
m1のジエチルエーテルで2回洗浄し、そして水性層を
分離し、そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mf
fのエタノールに?8解し、そして5mlのプロピレン
オキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、
そして3−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピ
ル亜ホスホン酸を得る。m、p、 284℃〜286℃
、 ” P = +27.2ppm(口20)。
のエチル3−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロ
ピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を2時
間還流する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃
縮し、そして25m#の水と共に減圧下で2回共蒸発せ
しめる。次に、粗生成物を20m/の水に溶解し、20
m1のジエチルエーテルで2回洗浄し、そして水性層を
分離し、そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mf
fのエタノールに?8解し、そして5mlのプロピレン
オキシドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、
そして3−アミノ−3−(4−クロロフェニル)プロピ
ル亜ホスホン酸を得る。m、p、 284℃〜286℃
、 ” P = +27.2ppm(口20)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
17.7gのエチル−トリメチルシリル(ジェトキシメ
チル)ホスホニドを11.7gの4−クロロフェニルビ
ニルケトンの攪拌された溶液に室温にて滴下する。反応
混合物を1時間攪拌し、25m7!のクロロホルムを加
え次にlomlの水を加え、そしてこの混合物を0.5
時間、激しく攪拌する。次に、有機層を分離し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そして減圧下で濃縮してエチル2
−4−クロロベンゾイル−エチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートを油状物として得る。” P = +4
5.5ppmCCDCI!、J)。
チル)ホスホニドを11.7gの4−クロロフェニルビ
ニルケトンの攪拌された溶液に室温にて滴下する。反応
混合物を1時間攪拌し、25m7!のクロロホルムを加
え次にlomlの水を加え、そしてこの混合物を0.5
時間、激しく攪拌する。次に、有機層を分離し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そして減圧下で濃縮してエチル2
−4−クロロベンゾイル−エチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートを油状物として得る。” P = +4
5.5ppmCCDCI!、J)。
200m1tのメタノール中25.4’gのエチル2−
(4−クロロベンゾイル)エチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液に、52gの酢酸アンモニウム及
び4.23gのナトリウムシアノポロヒドレートを加え
る。この混合物を窒素雰囲気上室温にて3日間攪拌する
。次に、この混合物を、必要量の希塩酸によりpH2に
酸性化し、そしてメタノールを減圧下で蒸発せしめる。
(4−クロロベンゾイル)エチル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液に、52gの酢酸アンモニウム及
び4.23gのナトリウムシアノポロヒドレートを加え
る。この混合物を窒素雰囲気上室温にて3日間攪拌する
。次に、この混合物を、必要量の希塩酸によりpH2に
酸性化し、そしてメタノールを減圧下で蒸発せしめる。
粗生成物を25m1の水に溶解し、20m1のジエチル
エーテルで2回洗浄し、そして次に水層を水酸化カリウ
ムでpH12にする。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽
和し、そして’15 m、lずつのジクロロメタンで抽
出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして次
に減圧濃縮してエチル3−アミノ−3−(4−クロロフ
ェニルシンプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。
エーテルで2回洗浄し、そして次に水層を水酸化カリウ
ムでpH12にする。次に、溶液を塩化ナトリウムで飽
和し、そして’15 m、lずつのジクロロメタンで抽
出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして次
に減圧濃縮してエチル3−アミノ−3−(4−クロロフ
ェニルシンプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。
” P −45,9ppm (CDCI 、)。
−刑−」ユ
a)60mfの36%水性塩酸中5.0gのエチル3−
アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジェト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を、1時間還流加熱
する。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧下で
S縮し、そして20rrlの水と共に減圧下で2回共蒸
発せしめる。粗生成物を20m1の水に溶液し、20m
βのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を
分離しそして減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を50m
1のエタノールに溶解し、そして5mlのプロピレンオ
キシドを滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、
そして乾燥して3−アミノ−2−(4−クロロフェニル
)プロピル亜ホスホン酸(L/3 MHtO)を得る。
アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジェト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を、1時間還流加熱
する。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧下で
S縮し、そして20rrlの水と共に減圧下で2回共蒸
発せしめる。粗生成物を20m1の水に溶液し、20m
βのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を
分離しそして減圧下で蒸発せしめる。粗生成物を50m
1のエタノールに溶解し、そして5mlのプロピレンオ
キシドを滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、
そして乾燥して3−アミノ−2−(4−クロロフェニル
)プロピル亜ホスホン酸(L/3 MHtO)を得る。
m、p、 235℃〜240℃、” P = +23.
9ppm (DzO)。
9ppm (DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40mj2のテトラヒドロフラン中1.16gのジイソ
クロピルアミンの溶液にヘキサン中1.6Mn−ブチル
リチウム溶液1.2mlを加える。次に、この溶液をこ
の温度にて10分間攪拌し、次に20m1のテトラヒド
ロフラン中2.0gのエチル−(ジェトキシメチル)メ
チルホスフィネートのt客演を加える。次にこの混合物
を一78℃にて1時間攪拌し、この後20m1のテトラ
ビトロフラン中1.75gの4−クロロ−β−ニトロス
チレンの溶液を導入する。次にこの混合物を室温に放置
加温し、4QmIlの飽和塩化アンモニウム溶液を加え
る。次に水層を25m1ずつのジエチルエーテルで2回
抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫酸マグ
ネシウムにより乾燥する。次に溶剤を減圧濃縮し、そし
て粗生成物を、シリカゲル上で、溶離液として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理しエチル2−(4−クロ
ロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。”P =
+42.8及び+41.8ppm (CDCII z>
。
クロピルアミンの溶液にヘキサン中1.6Mn−ブチル
リチウム溶液1.2mlを加える。次に、この溶液をこ
の温度にて10分間攪拌し、次に20m1のテトラヒド
ロフラン中2.0gのエチル−(ジェトキシメチル)メ
チルホスフィネートのt客演を加える。次にこの混合物
を一78℃にて1時間攪拌し、この後20m1のテトラ
ビトロフラン中1.75gの4−クロロ−β−ニトロス
チレンの溶液を導入する。次にこの混合物を室温に放置
加温し、4QmIlの飽和塩化アンモニウム溶液を加え
る。次に水層を25m1ずつのジエチルエーテルで2回
抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、そして硫酸マグ
ネシウムにより乾燥する。次に溶剤を減圧濃縮し、そし
て粗生成物を、シリカゲル上で、溶離液として酢酸エチ
ルを用いてクロマトグラフ処理しエチル2−(4−クロ
ロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。”P =
+42.8及び+41.8ppm (CDCII z>
。
70mnのエタノール中8.0gのエチル2−(4−ク
ロロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール98%アンモ
ニアを容液64gに加える。
ロロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメチ
ル)ホスフィネートの溶液を、エタノール98%アンモ
ニアを容液64gに加える。
これに、8mlのラネーニッケルを加え、生ずる混合物
を、理論量の水素が取り込まれるまで1 barにて水
素化する。次に混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮
してエチル3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状
物として得る。32P=+44.2及び44.lppm
(CDC1:+)。
を、理論量の水素が取り込まれるまで1 barにて水
素化する。次に混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮
してエチル3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状
物として得る。32P=+44.2及び44.lppm
(CDC1:+)。
例9゜
3Qmlの36%水性塩酸中1.4gのエチル3−アミ
ノ−2−シクロへキシルプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反
応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして10rr
lの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、粗生
成物を29mfの水に溶解し、20mnのジエチルエー
テルで2回洗浄し、そして次に水相を分離しそして減圧
蒸発せしめる。粗生成物を50m7!の乾燥エタノール
に熔解し、そして5mj2のプロピレンオキシドを添加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−シクロヘキシルプロピル亜ホスホン酸
を得る。m、p、 235℃〜240℃、” P =2
8.2ppm(DzO)。
ノ−2−シクロへキシルプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する。次に、反
応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、そして10rr
lの水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。次に、粗生
成物を29mfの水に溶解し、20mnのジエチルエー
テルで2回洗浄し、そして次に水相を分離しそして減圧
蒸発せしめる。粗生成物を50m7!の乾燥エタノール
に熔解し、そして5mj2のプロピレンオキシドを添加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−シクロヘキシルプロピル亜ホスホン酸
を得る。m、p、 235℃〜240℃、” P =2
8.2ppm(DzO)。
b)40rrlのテトラヒドロフラン中5.8gのジイ
ソプロピルアミンの溶液に、窒素雰囲気下−78℃にて
ヘキサン中1.6 M n−ブチルリチウム溶液35.
7mlを加える。次にこの溶液をこの温度にて10分間
攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.
0 gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィ
ネートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃に
て一時間撹拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン
中8.5gのβ−テトロスチレンの溶液を導入する。次
にこの混合物を室温に放置加温し、4Qmlの飽和塩化
アンモニウム溶液を加える。次に水層を25mfずつの
ジエチルエーテルで抽出し、そして有機抽出液を一緒に
し、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。
ソプロピルアミンの溶液に、窒素雰囲気下−78℃にて
ヘキサン中1.6 M n−ブチルリチウム溶液35.
7mlを加える。次にこの溶液をこの温度にて10分間
攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.
0 gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィ
ネートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃に
て一時間撹拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン
中8.5gのβ−テトロスチレンの溶液を導入する。次
にこの混合物を室温に放置加温し、4Qmlの飽和塩化
アンモニウム溶液を加える。次に水層を25mfずつの
ジエチルエーテルで抽出し、そして有機抽出液を一緒に
し、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。
次に、溶剤を減圧蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカ
ゲル上で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラ
フ処理し、エチル3−ニトロ−2−フェニルプロピル(
ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として
得る。” P = +42.3及び+42.0ppm
(CDCβ3)。
ゲル上で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラ
フ処理し、エチル3−ニトロ−2−フェニルプロピル(
ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として
得る。” P = +42.3及び+42.0ppm
(CDCβ3)。
25m1のエタノール中1.0gのエチル3−ニトロ−
2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25g
に加える。これに、0.5rrlのラネーニッケルを加
え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれ
るまで1 barにて水素化する。次に、混合物を濾過
し、そして濾液を減圧蒸発せしめてエチル3−アミノ−
2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。” P = +44.4
ppm (CDCIIz)。
2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25g
に加える。これに、0.5rrlのラネーニッケルを加
え、そして生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれ
るまで1 barにて水素化する。次に、混合物を濾過
し、そして濾液を減圧蒸発せしめてエチル3−アミノ−
2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートを粘稠油状物として得る。” P = +44.4
ppm (CDCIIz)。
25m1のtert−ブタノール中3.45gのエチル
3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートの溶液、を、25m/のtert−7
”タノールに懸濁されたアルミニウム95%ロジウム2
.0gに加える。生ずる混合物を150barの雰囲気
中100℃の温度にて20時間水素化する。次にこの混
合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮する。粗生成物を
シリカゲル上で溶離剤としてエタノールを使用してクロ
マトグラフ処理し、エチル3−アミノ−2−シクロへキ
シルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘
稠油状物として得る。” p=47.1及び+47.0
ppm (COCl、)。
3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートの溶液、を、25m/のtert−7
”タノールに懸濁されたアルミニウム95%ロジウム2
.0gに加える。生ずる混合物を150barの雰囲気
中100℃の温度にて20時間水素化する。次にこの混
合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮する。粗生成物を
シリカゲル上で溶離剤としてエタノールを使用してクロ
マトグラフ処理し、エチル3−アミノ−2−シクロへキ
シルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘
稠油状物として得る。” p=47.1及び+47.0
ppm (COCl、)。
■−則・
a)35mj+の36%水性塩酸中3.5gのエチル3
−アミノ−2−ベンジルプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液を3時間還流加熱する0次に、こ
の反応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃縮し、そして
20m!!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗
生成物を20m1の水に溶解し、’1Qrnlのジエチ
ルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mj!のエタノ
ール中に溶解し、そして5rrlのプロピレンオキシド
を滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、そして
乾燥して3−アミノ−2−ベンジルプロピル亜ホスホン
酸を得る。m、p、 205℃〜212℃、!!p=
+26.1ppm(DzO)。
−アミノ−2−ベンジルプロピル(ジェトキシメチル)
ホスフィネートの溶液を3時間還流加熱する0次に、こ
の反応混合物を室温に冷却し、減圧下で濃縮し、そして
20m!!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗
生成物を20m1の水に溶解し、’1Qrnlのジエチ
ルエーテルで2回洗浄し、そして次に水層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mj!のエタノ
ール中に溶解し、そして5rrlのプロピレンオキシド
を滴加する。沈澱した固形物を濾過により集め、そして
乾燥して3−アミノ−2−ベンジルプロピル亜ホスホン
酸を得る。m、p、 205℃〜212℃、!!p=
+26.1ppm(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40m1のテトラヒドロフラン中0.97gのジイソプ
ロピルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下でヘ
キサン中1.6 M n−ブチルリチウムの溶液6.0
mlを加える。次に、この溶液をこの温度で10分間攪
拌し、この後10m1のテトラヒドロフラン中2.0g
のエチル2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃
にて一時間撹拌し、この後10m1のテトラヒドロフラ
ン中1.4gのベンジルプロミドの溶液を導入する。次
にこの混合物を室温に放置加温し、40m1の飽和塩化
アンモニウムを加える9次に、水層を25mj2ずつの
ジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一
緒にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に溶剤
を減圧下で蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上
で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理
してエチル2−ベンジル−2−シアノエチル(ジェトキ
シメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。
ロピルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下でヘ
キサン中1.6 M n−ブチルリチウムの溶液6.0
mlを加える。次に、この溶液をこの温度で10分間攪
拌し、この後10m1のテトラヒドロフラン中2.0g
のエチル2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフ
ィネートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃
にて一時間撹拌し、この後10m1のテトラヒドロフラ
ン中1.4gのベンジルプロミドの溶液を導入する。次
にこの混合物を室温に放置加温し、40m1の飽和塩化
アンモニウムを加える9次に、水層を25mj2ずつの
ジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一
緒にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に溶剤
を減圧下で蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上
で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理
してエチル2−ベンジル−2−シアノエチル(ジェトキ
シメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。
” P = +40.7及び+40.5ppm (CD
Cj13)。
Cj13)。
59mj!のエタノール中3.5gのエチル2−ベンジ
ル−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25g
に加える。これに’1mlのラネーニッケルを加え、そ
して生ずる生成物を、理論量の水素が取り込まれるまで
1 barにて水素化する。次に、この混合物を濾過し
、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−ベ
ンジルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを
粘稠油状物として得る。” P −+ 446−3pp
(CDCIt x)。
ル−2−シアノエチル(ジェトキシメチル)ホスフィネ
ートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液25g
に加える。これに’1mlのラネーニッケルを加え、そ
して生ずる生成物を、理論量の水素が取り込まれるまで
1 barにて水素化する。次に、この混合物を濾過し
、そして濾液を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−ベ
ンジルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを
粘稠油状物として得る。” P −+ 446−3pp
(CDCIt x)。
五−■、 ・
60m1!の36%水性塩酸中5.0gのエチル3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジェトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する
。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、
そして20mj+の水と共に減圧下で3回共蒸発せしめ
3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸塩酸塩を吸湿性固体として得る。” P =
+30.1ppm(020)。
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル(ジェトキ
シメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱する
。次に、この反応混合物を室温に冷却し、減圧濃縮し、
そして20mj+の水と共に減圧下で3回共蒸発せしめ
3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル亜ホ
スホン酸塩酸塩を吸湿性固体として得る。” P =
+30.1ppm(020)。
開−■・
10rrlの0.1M水酸化ナトリウム溶液中0.25
gの3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル
亜ホスホン酸の溶液を室温にて1時間攪拌し、そして次
に減圧下で濃縮して吸湿性固体としてナトリウム3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピルホスフィネ
ートを得る。” P ” +26.0ppm(0,0)
。
gの3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル
亜ホスホン酸の溶液を室温にて1時間攪拌し、そして次
に減圧下で濃縮して吸湿性固体としてナトリウム3−ア
ミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピルホスフィネ
ートを得る。” P ” +26.0ppm(0,0)
。
開−■・
a)40mAの36%水性塩酸中4.0gのエチル3−
アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を2時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮し、そして20m
1の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗精製物を
20rrlの水に 、溶解し、2Qmfのジエチルエー
テルで2回洗浄し、そして水層を水離し、そして減圧下
で蒸発せしめる。粗生成物を59m/のエタノールに溶
解し、(−して5mAのプロピレンオキシドを滴加する
。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3−
アミノ−2−フェニルプロピル亜ホスホン酸を得る。m
、p、 228℃〜235℃、” P = +24.3
ppm(DzO)。
アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホ
スフィネートの溶液を2時間還流加熱する。次に、反応
混合物を室温に放冷し、減圧下で濃縮し、そして20m
1の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめる。粗精製物を
20rrlの水に 、溶解し、2Qmfのジエチルエー
テルで2回洗浄し、そして水層を水離し、そして減圧下
で蒸発せしめる。粗生成物を59m/のエタノールに溶
解し、(−して5mAのプロピレンオキシドを滴加する
。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して3−
アミノ−2−フェニルプロピル亜ホスホン酸を得る。m
、p、 228℃〜235℃、” P = +24.3
ppm(DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40m1のテトラヒドロフラン中5.8gのジイソプロ
ピルアミンの溶液に、−78℃窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6Mn−ブチルリチウム?客演35.7mlを
加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し
、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.0gの
エチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネートの
溶液を加える。次にこの混合物を一78℃にて1時間攪
拌し、この後20mAのテトラヒドロフラン中8.5g
のβ−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、この混
合物を室温に放置加温して4Qmj!飽和塩化アンモニ
ウム溶液を加える。次に水層を25mA1ずつのジエチ
ルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にし
そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧
下で蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離
剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエ
チル3−ニトロ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。” P
−+42.4及び42.0pprn (CDl13)
。
ピルアミンの溶液に、−78℃窒素雰囲気下で、ヘキサ
ン中1.6Mn−ブチルリチウム?客演35.7mlを
加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌し
、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.0gの
エチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネートの
溶液を加える。次にこの混合物を一78℃にて1時間攪
拌し、この後20mAのテトラヒドロフラン中8.5g
のβ−ニトロスチレンの溶液を導入する。次に、この混
合物を室温に放置加温して4Qmj!飽和塩化アンモニ
ウム溶液を加える。次に水層を25mA1ずつのジエチ
ルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒にし
そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に、溶剤を減圧
下で蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離
剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエ
チル3−ニトロ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。” P
−+42.4及び42.0pprn (CDl13)
。
5Qmj2のエタノール中5.7gのエチル3−ニトロ
−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィ
ネートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液50
gに加える。これに、9mlのラネーニッケルを加え、
生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで1
barにて水素化する。
−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル)ホスフィ
ネートの溶液を、エタノール中8%アンモニア溶液50
gに加える。これに、9mlのラネーニッケルを加え、
生ずる混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで1
barにて水素化する。
次に、この混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮してエチル
3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。” P =
+44.4ppm (CDCI23)。
3−アミノ−2−フェニルプロピル(ジェトキシメチル
)ホスフィネートを粘稠油状物として得る。” P =
+44.4ppm (CDCI23)。
以下余白
例二」1・
a)40m#の36%水素塩酸中4.4gのエチル3−
アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル(ジェ
トキシメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流加熱
する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、
そして29mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20m1の水に溶解し、20m1のジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50m1のエタノー
ルに溶解し、そして5mnのプロピレンオキシドを滴加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル亜
ホスホン酸(I/3 M HzO)を得る。m、p、
225℃〜235℃、3重P −+24.11’pm(
DzO)。
アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル(ジェ
トキシメチル)ホスフィネートの溶液を2時間還流加熱
する。次に、反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し、
そして29mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20m1の水に溶解し、20m1のジエ
チルエーテルで2回洗浄し、そして水性層を分離し、そ
して減圧蒸発せしめる。粗生成物を50m1のエタノー
ルに溶解し、そして5mnのプロピレンオキシドを滴加
する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥して
3−アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プロピル亜
ホスホン酸(I/3 M HzO)を得る。m、p、
225℃〜235℃、3重P −+24.11’pm(
DzO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40m1のテトラヒドロフラン中5.8gのジイソプロ
ピルアミンの溶液を一78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキ
サ791.6Mn−ブチルリチウム溶液35.7mj!
を加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌
し、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.0
gのエチル=(ジェトキシエチル)メチルホスフィネー
トの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃にて1
時間撹拌し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中
7.96gの4−フルオロ−β−ニトロスチレンの溶液
を導入する。
ピルアミンの溶液を一78℃にて窒素雰囲気下で、ヘキ
サ791.6Mn−ブチルリチウム溶液35.7mj!
を加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌
し、この後20m1のテトラヒドロフラン中10.0
gのエチル=(ジェトキシエチル)メチルホスフィネー
トの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃にて1
時間撹拌し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中
7.96gの4−フルオロ−β−ニトロスチレンの溶液
を導入する。
次に、この混合物を室温に放置加熱し、40m1の飽和
塩加アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25m1
ずつのジエチルエーテルで2回抽出しそして有機抽出液
を一緒にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に
溶剤を減圧蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上
で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理
してエチル2−(4−フルオロフェニル)−3−ニトロ
プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油
状物として得る。” P = +42.3及び+41.
9ppm(CDC7!3)。
塩加アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25m1
ずつのジエチルエーテルで2回抽出しそして有機抽出液
を一緒にし、そして硫酸マグネシウムで乾燥する。次に
溶剤を減圧蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上
で溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理
してエチル2−(4−フルオロフェニル)−3−ニトロ
プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油
状物として得る。” P = +42.3及び+41.
9ppm(CDC7!3)。
59m1のエタノール中5.0gのエチル2−(4−フ
ルオロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を、エタノール98%アン
モニア溶液40gに加える。
ルオロフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を、エタノール98%アン
モニア溶液40gに加える。
これに、7mlのラネーニッケルを加え、そして生ずる
混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで水素化する
。次に、この混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮し
てエチル3−アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状
物として得る。
混合物を、理論量の水素が取り込まれるまで水素化する
。次に、この混合物を濾過し、そして濾液を減圧濃縮し
てエチル3−アミノ−2−(4−フルオロフェニル)プ
ロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状
物として得る。
” P = +44.4ppm (CDC13)。
斑−■・
a)40mlの36%水性塩酸中3.7gのエチル3−
アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル(ジェト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し
、そして20m1の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20ml2の水に溶解し、20ml2の
ジエチルエーテルで2回洗浄し、そして水層を分離し、
そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mfのエタノ
ールに溶解し、そして5ml1のプロピレンオキシドを
滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥
して3−アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル
亜ホスホン酸を得る。m、、p、 250℃〜255℃
、” P = +24.5ppm(DtO)。
アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル(ジェト
キシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加熱す
る。次に、この反応混合物を室温に放冷し、減圧濃縮し
、そして20m1の水と共に減圧下で2回共蒸発せしめ
る。粗生成物を20ml2の水に溶解し、20ml2の
ジエチルエーテルで2回洗浄し、そして水層を分離し、
そして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mfのエタノ
ールに溶解し、そして5ml1のプロピレンオキシドを
滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そして乾燥
して3−アミノ−2−(4−メチルフェニル)プロピル
亜ホスホン酸を得る。m、、p、 250℃〜255℃
、” P = +24.5ppm(DtO)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
40m1のテトラヒドロフラン中8.7gのジイソプロ
ピルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘ
キサン中1.6Mn−ブチルリチウム溶液53.2ml
を加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌
し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中15.0
gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネ
ートの溶液を加える。次にこの混合物を一78℃にて1
時間攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中1
1.6gの4−メチル−β−ニトロスチレンの溶液を遵
入する。
ピルアミンの溶液に、−78℃にて窒素雰囲気下で、ヘ
キサン中1.6Mn−ブチルリチウム溶液53.2ml
を加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪拌
し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中15.0
gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネ
ートの溶液を加える。次にこの混合物を一78℃にて1
時間攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中1
1.6gの4−メチル−β−ニトロスチレンの溶液を遵
入する。
次にこの混合物を室温に放置加温し49m7!の飽和塩
化アンモニウムを加える。次に水層を25mfずつのジ
エチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒
にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤と
して酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル
2−(4−メチルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
°る。” P = +42.5及び+42.lppm
(CDCj!z)。
化アンモニウムを加える。次に水層を25mfずつのジ
エチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液を一緒
にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤を減圧
蒸発せしめ、そして粗生成物をシリカゲル上で溶離剤と
して酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理してエチル
2−(4−メチルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油状物として得
°る。” P = +42.5及び+42.lppm
(CDCj!z)。
60mffのエタノール中6.5gのエチル2−(4−
メチルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートのt客演を、エタノール98%ア
ンモニア溶液52gに加える。
メチルフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートのt客演を、エタノール98%ア
ンモニア溶液52gに加える。
これに、8mlのラネーニッケルを加えそして生ずる混
合物を理論量の水素が取り込まれるまで1barにて水
素化する。次にこの混合物を濾過し、そして濾液を減圧
濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−メチルフェニル
)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠
油状物として得る。
合物を理論量の水素が取り込まれるまで1barにて水
素化する。次にこの混合物を濾過し、そして濾液を減圧
濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−メチルフェニル
)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠
油状物として得る。
” P = +44.6ppm (CDCl 3)。
皿−圧・
a)30rrlの36%水素塩酸中4.6gのエチル3
−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加
熱する。次にこの反応混合物を室温に放冷し゛、減圧濃
縮し、そして20mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発
せしめる。粗生成物を20m1の水に溶解し、’lQm
lのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水性層
を分離しそして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mf
のエタノールに溶解し、そして5mfのプロピレンオキ
シドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そし
て乾燥して3−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)
プロピル亜ホスホン酸(I/2 M HzO)を得る。
−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)プロピル(ジ
ェトキシメチル)ホスフィネートの溶液を1時間還流加
熱する。次にこの反応混合物を室温に放冷し゛、減圧濃
縮し、そして20mj!の水と共に減圧下で2回共蒸発
せしめる。粗生成物を20m1の水に溶解し、’lQm
lのジエチルエーテルで2回洗浄し、そして次に水性層
を分離しそして減圧蒸発せしめる。粗生成物を50mf
のエタノールに溶解し、そして5mfのプロピレンオキ
シドを滴加する。沈澱した固体を濾過により集め、そし
て乾燥して3−アミノ−2−(4−メトキシフェニル)
プロピル亜ホスホン酸(I/2 M HzO)を得る。
m、p、 260℃〜265℃、” P = +24.
5ppm(0,0)。
5ppm(0,0)。
b)出発物質は次のようにして製造することができる。
49ml1のテトラヒドロフラン中8.7gのジ・イソ
プロピルアミンの溶液を一78℃にて窒素雰囲気下で、
ヘキサン中1.6Mn−ブチルリチウム溶液53.6m
Nを加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪
拌し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中15.
0gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネ
ートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃にて
1時間攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中
12.8gの4−メトキシ−β−ニトロスチレンの溶液
を導入する。
プロピルアミンの溶液を一78℃にて窒素雰囲気下で、
ヘキサン中1.6Mn−ブチルリチウム溶液53.6m
Nを加える。次に、この溶液をこの温度にて10分間攪
拌し、この後20m7!のテトラヒドロフラン中15.
0gのエチル−(ジェトキシメチル)メチルホスフィネ
ートの溶液を加える。次に、この混合物を一78℃にて
1時間攪拌し、この後20m1のテトラヒドロフラン中
12.8gの4−メトキシ−β−ニトロスチレンの溶液
を導入する。
次に、この混合物を室温まで放置加温し、4Qmlの飽
和塩化アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25m
1のジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液
を一緒にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤
を減圧蒸発せしめ、そし°ζ粗生成物をシリカゲル上で
溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理し
てエチル2−4(4−メトキシフェニル)−3−ニトロ
プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油
状物として得る。31 P = +42.4及び+42
.1ppm(CDCl 3)。
和塩化アンモニウム溶液を加える。次に、水層を25m
1のジエチルエーテルで2回抽出し、そして有機抽出液
を一緒にしそして硫酸マグネシウム乾燥する。次に溶剤
を減圧蒸発せしめ、そし°ζ粗生成物をシリカゲル上で
溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフ処理し
てエチル2−4(4−メトキシフェニル)−3−ニトロ
プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネートを粘稠油
状物として得る。31 P = +42.4及び+42
.1ppm(CDCl 3)。
5Qmfのエタノール中6.6gのエチル2−(4−メ
トキシフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アン
モニア溶液52gに加える。
トキシフェニル)−3−ニトロプロピル(ジェトキシメ
チル)ホスフィネートの溶液を、エタノール中8%アン
モニア溶液52gに加える。
これに、8mlのラネーニッケルを加え、そして生ずる
混合物を理論量の水素が取り込まれるまでI barに
て水素化する。次に、この混合物を濾過し、そして濾液
を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−メトキシ
フェニル)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。” P = +44.5p
pm (CDCI! 3)。
混合物を理論量の水素が取り込まれるまでI barに
て水素化する。次に、この混合物を濾過し、そして濾液
を減圧濃縮してエチル3−アミノ−2−(4−メトキシ
フェニル)プロピル(ジェトキシメチル)ホスフィネー
トを粘稠油状物として得る。” P = +44.5p
pm (CDCI! 3)。
桝−U。
次の成分と共に10mgの活性成分を含有する錠剤10
.000個を製造する。
.000個を製造する。
3−アミノプロピル亜ホスホン酸100.00gラクト
ース 1.157.00gコー
ンスターチ 75.00gポリエ
チレングリコール6.000 75.00gステ
アリン酸マグネシウム 18.00g精製水
適当量方法:粉末のす
べてを0.6 ms目の篩に通す。次に、薬剤物質、ラ
クトース、ステアリン酸マグネシウム及び澱粉の半分を
40m1の水に懸濁し、そしてこの懸濁液を150 m
lの水中ポリエチレングリコールの沸騰溶液に加える
。形成されたペーストを、所望により追加量の水で粒状
化された粉末に加える。顆粒を35℃にて一夜乾燥し、
1.2mm目の篩に通して破砕し、そして上面に分割溝
を有する直径6.4mmの錠剤に圧縮する。
ース 1.157.00gコー
ンスターチ 75.00gポリエ
チレングリコール6.000 75.00gステ
アリン酸マグネシウム 18.00g精製水
適当量方法:粉末のす
べてを0.6 ms目の篩に通す。次に、薬剤物質、ラ
クトース、ステアリン酸マグネシウム及び澱粉の半分を
40m1の水に懸濁し、そしてこの懸濁液を150 m
lの水中ポリエチレングリコールの沸騰溶液に加える
。形成されたペーストを、所望により追加量の水で粒状
化された粉末に加える。顆粒を35℃にて一夜乾燥し、
1.2mm目の篩に通して破砕し、そして上面に分割溝
を有する直径6.4mmの錠剤に圧縮する。
■−■・
次の成分と共に25mgの活性成分を含有するカプセル
to、oooの製造を行う。
to、oooの製造を行う。
3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)−プロピル亜
ホスホン酸 250.0gラクトース
1,750.0g方法:すべての
粉末を0.611101目の篩に通す。次に、薬剤物質
を適当なミキサーに入れ、そして均一になるまでラクト
ースと混合する。カプセル充填機を用いて200mgを
患3カプセルに充填する。
ホスホン酸 250.0gラクトース
1,750.0g方法:すべての
粉末を0.611101目の篩に通す。次に、薬剤物質
を適当なミキサーに入れ、そして均一になるまでラクト
ースと混合する。カプセル充填機を用いて200mgを
患3カプセルに充填する。
この発明の他の化合物、例えば例に記載した化合物の活
性成分lO〜100mgを含有する錠剤及びカプセルが
同様にして製造される。
性成分lO〜100mgを含有する錠剤及びカプセルが
同様にして製造される。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素である、〕で表わされる化合物、又はその
塩。 2、R^1およびR^2が水素であり、そしてR^2が
水素又はフェニル(場合によってはハロゲン、C_1_
〜_4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/
又はトリフルオロメチルにより置換されている)である
特許請求の範囲第1項に記載の式( I )の化合物、又
はその塩。 3、R^1及びR^3が水素であり、そしてR^2が水
素又はハロゲンフェニルである特許請求の範囲第1項に
記載の式( I )の化合物、又はその塩。 4、R^1及びR^3が水素であり、そしてR^2が水
素、4−クロロフェニル又は4−フルオロフェニルであ
る特許請求の範囲第1項に記載の式( I )の化合物、
又はその塩。 5、3−アミノプロピル亜ホスホン酸である特許請求の
範囲第1項に記載の化合物又はその塩。 6、3−アミノ−2−(4−クロロフェニル)プロピル
亜ホスホン酸である特許請求の範囲第1項に記載の化合
物又はその塩。 7、不斉炭素原子を有するラセミ体形又は光学対掌体形
の特許請求の範囲第1項〜4項及び第6項のいずれか1
項に記載の化合物、及びその塩。 8、特許請求の範囲第1項に記載の式( I )の化合物
の酸付加塩。 9、特許請求の範囲第8項に試験の式( I )の化合物
の医薬として許容される酸付加塩。 10、次の式( I )、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素である、〕で表わされる化合物、又はその
塩の製造方法であって、次の式(II)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^2及びR^3は前記の意味を有し
、Zは−NH_2又は保護されたアミノ基Z^oであり
、Qは水素又は保護基Q^oであり、そしてR^cは水
素、C_1_〜_4−アルキル、又はアルカリ金属もし
くはアンモニウム陽イオンである、) で表わされる化合物において、基R^cを水素により、
又はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンにより
置き換え、そして基QがQ^oである場合にはこれを水
素により置き換え、そして基Zが保護されたアミノ基Z
^oである場合にはこれを−NH_2に転換するか;あ
るいは、 次の式(VIII)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中、R^1及びR^2は前記の意味を有し、そして
Xは次の式( I d)、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I d) (式中、R^3は前記の意味を有する、) で表わされる基に転換することができる基である、〕で
表わされる化合物において、基Xを式( I d)の基に
転換し;そして所望により、得られた塩を遊離化合物に
、又は他の塩に転換し、そして/又は所望により、得ら
れた遊離化合物を塩に転換し、そして/又は所望により
異性体の得られた混合物を個々の異性体に分離すること
を特徴とする方法。 11、次の式( I )、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素である、〕で表わされる化合物、又はその
塩を医薬として許容される担体と共に含んで成る医薬。 12、ヒト及び動物の処置の医療的方法において使用す
るための特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項
に記載の化合物。 13、筋弛緩剤、鎮痙剤又は鎮痛剤としての特許請求の
範囲第1項〜第9項のいずれか1項に記載の化合物。 14、医薬を製造するための特許請求の範囲第1項〜第
9項のいずれか1項に記載の化合物の使用。 15、次の式(II)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素であり;Zは−NH_2又は保護されたア
ミノ基Z^oであり、Qは水素又は保護基Q^oであり
、そしてR^cは水素、C_1_〜_4−アルキル、又
はアルカリ金属もしくはアンモニウム陽イオンである、
〕 で表わされる化合物。 16、次の式(VI)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、Q^oは保護基であり、R^c^oはC_1_
〜_4−アルキルであり、そしてR^4は独立にC_1
_〜_6−アルキルであり、R^c^oとR^dは同一
であり又は異る)で表わされる化合物。 17、次の式(IX)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素であり、Q^oは保護基であり、そしてR
^c^oはC_1_〜_4−アルキルである、〕 で表わされる化合物。 18、次の式(IX)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) 〔式中、R^1、R^2及びR^3の1つは水素、C_
1_〜_8−アルキル、C_3_〜_6−シクロアルキ
ル、フェニル(場合によってはハロゲン、C_1_〜_
4−アルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又は
トリフルオロメチルにより置換されている)、あるいは
C_7_〜_1_0−フェニルアルキル(場合によって
はフェニル部分においてハロゲン、C_1_〜_4−ア
ルキル、C_1_〜_4−アルコキシ及び/又はトリフ
ルオロメチルにより置換されている)であり;そして他
の2者は水素であり、Q^oは保護基であり、そしてR
^c^oはC_1_〜_4−アルキルである、〕 で表わされる化合物の製造方法において、次の式(X)
、 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) (式中、R^1、Q^o及びR^c^oは前記の意味を
有する)で表わされる化合物を、次の式(X I )、▲
数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中、Mはアルカリ金属原子又は遷移金属原子である
、)で表わされる陰イオンの形で、次の式(XII)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) (式中、R^2及びR^3は前記の意味を有する、)で
表わされる化合物と反応せしめることを含んで成る方法
。
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---|---|---|---|
GB848425872A GB8425872D0 (en) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | Chemical compounds |
GB8425872 | 1984-10-12 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6193189A true JPS6193189A (ja) | 1986-05-12 |
JPH0631275B2 JPH0631275B2 (ja) | 1994-04-27 |
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---|---|
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EP (1) | EP0181833B1 (ja) |
JP (1) | JPH0631275B2 (ja) |
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DE (1) | DE3577442D1 (ja) |
DK (2) | DK168572C (ja) |
ES (1) | ES8800250A1 (ja) |
FI (1) | FI853923L (ja) |
GB (1) | GB8425872D0 (ja) |
GR (1) | GR852451B (ja) |
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