JPS6192418A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6192418A JPS6192418A JP21152784A JP21152784A JPS6192418A JP S6192418 A JPS6192418 A JP S6192418A JP 21152784 A JP21152784 A JP 21152784A JP 21152784 A JP21152784 A JP 21152784A JP S6192418 A JPS6192418 A JP S6192418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- cobalt
- co3o4
- cobalt oxide
- layers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［利用分野］
本発明は垂直磁気記録媒体に関するものであり、更に詳
しくは摩耗性に優れた薄膜型の垂直磁気記録媒体に関す
るものである。
しくは摩耗性に優れた薄膜型の垂直磁気記録媒体に関す
るものである。
［従来技術］
近年高密度記録への要求はますます高くなり、磁気記録
層として強磁性金属層を用いたもの、更には特公昭５８
−９１号公報等の如く垂直磁気異方性を有するコバルト
系合金層を用いたものが提案されている。しかし磁気記
録層どしてかかる金属薄膜を用いた薄膜型の磁気記録媒
体の場合には、磁気記録ヘッドとの１１！ＩＱ抵抗が大
きいために摩耗や損傷を受けやすく耐久性に欠けるとい
う難点がある。
層として強磁性金属層を用いたもの、更には特公昭５８
−９１号公報等の如く垂直磁気異方性を有するコバルト
系合金層を用いたものが提案されている。しかし磁気記
録層どしてかかる金属薄膜を用いた薄膜型の磁気記録媒
体の場合には、磁気記録ヘッドとの１１！ＩＱ抵抗が大
きいために摩耗や損傷を受けやすく耐久性に欠けるとい
う難点がある。
このため従来より強磁性金属薄膜上に更に保護層として
有機高分子、高硬度金属、セラミックス等を設けたもの
が秒々提案されている。
有機高分子、高硬度金属、セラミックス等を設けたもの
が秒々提案されている。
しかし、前記薄膜型の磁気記録媒体の耐摩耗性、即ち磁
気記録ヘッド上に磁気記録媒体を繰返し走行させた時の
磁気記録媒体の寿命は従来の塗布型の磁気記録媒体にく
らべて劣り、実用上未だ充分ではない状態である。
気記録ヘッド上に磁気記録媒体を繰返し走行させた時の
磁気記録媒体の寿命は従来の塗布型の磁気記録媒体にく
らべて劣り、実用上未だ充分ではない状態である。
［発明の目的］
本発明はかかる現状に鑑みなされたもので、耐摩耗性に
優れた薄膜型の垂直磁気記録媒体を目的としたものであ
る。
優れた薄膜型の垂直磁気記録媒体を目的としたものであ
る。
［発明の構成０作用］
すなわち本発明は公知の薄膜型の垂直磁気記録媒体、例
えば基体上に垂直磁気異方性を有するコバルト系合金等
の金属薄膜層を形成したもの、または基体上に鉄、パー
マロイ、コバルト・ニオブ・ジルコン合金等の高透磁率
を有する金属層、続いてその上に垂直磁気異方性を有す
るコバルト系合金等の金属薄膜層を順次、形成したもの
等の改良に関し、その垂直磁気記録層の金属薄膜層上に
Ｃｏ３Ｏ４よりなるコバルト酸化物保護層を設けたもの
である。
えば基体上に垂直磁気異方性を有するコバルト系合金等
の金属薄膜層を形成したもの、または基体上に鉄、パー
マロイ、コバルト・ニオブ・ジルコン合金等の高透磁率
を有する金属層、続いてその上に垂直磁気異方性を有す
るコバルト系合金等の金属薄膜層を順次、形成したもの
等の改良に関し、その垂直磁気記録層の金属薄膜層上に
Ｃｏ３Ｏ４よりなるコバルト酸化物保護層を設けたもの
である。
Ｃｏ３Ｏ４のコバルト酸化物保護層としては、更に好ま
しくはランダム配向した保護層である。
しくはランダム配向した保護層である。
コバルト酸化物のＣｏ３Ｏ４はコバルト金属をターゲッ
ト、蒸発源として酸化性ガス雰囲気下でのスパッタリン
グ法、真空蒸着法等により形成される。又、コバルト酸
化物であるＣｏ３０ａの分析はオージェ電子分光法（Ａ
ＥＳ）、Ｘ線回折法（Ｄ×）が用いられた。
ト、蒸発源として酸化性ガス雰囲気下でのスパッタリン
グ法、真空蒸着法等により形成される。又、コバルト酸
化物であるＣｏ３０ａの分析はオージェ電子分光法（Ａ
ＥＳ）、Ｘ線回折法（Ｄ×）が用いられた。
本発明はかかるコバルト酸化物Ｃｏ３Ｏ４よりなる保護
層を垂直磁気記録層上に設ける事により、該記録層の耐
久性の向上を大いに計る事が出来た。
層を垂直磁気記録層上に設ける事により、該記録層の耐
久性の向上を大いに計る事が出来た。
以下に本発明の実施例を示す。
第１図は本発明の一構成例を示すもので、フロッピーデ
ィスク用のフレキシブル両面垂直磁気記録媒体である。
ィスク用のフレキシブル両面垂直磁気記録媒体である。
直径５．２５インチ、厚さ５０μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムを基体１とし、その両面に０．４μ
ｍのニッケル鉄合金よりなる高透磁率の金属薄層２と、
０．４μ■のコバルト・クロム（クロム： ２０ｗｔ％
）の合金薄膜よりなる垂直磁気記録層３とを特開昭５７
−１００６２７号公報と同様に対向ターゲット式スパッ
タ法で順次積層し、更にその上にコバルト金属をターゲ
ットとした酸化性ガス雰囲気下の反応性スパッタ法で３
５０人のコバルト酸化物ＣＯ３Ｏ４の保護層４を積層し
たものである（実施例）。
フタレートフィルムを基体１とし、その両面に０．４μ
ｍのニッケル鉄合金よりなる高透磁率の金属薄層２と、
０．４μ■のコバルト・クロム（クロム： ２０ｗｔ％
）の合金薄膜よりなる垂直磁気記録層３とを特開昭５７
−１００６２７号公報と同様に対向ターゲット式スパッ
タ法で順次積層し、更にその上にコバルト金属をターゲ
ットとした酸化性ガス雰囲気下の反応性スパッタ法で３
５０人のコバルト酸化物ＣＯ３Ｏ４の保護層４を積層し
たものである（実施例）。
又、比較例として、保護層を除いて実施例と同じで保護
層としてクロム、硅素、タングステン各酸化物、及びタ
ングステン炭化物を高周波スパッタリングで積層したサ
ンプルを作成した。
層としてクロム、硅素、タングステン各酸化物、及びタ
ングステン炭化物を高周波スパッタリングで積層したサ
ンプルを作成した。
表には、これらサンプルを摺動部（ヘッドスライダ一部
）にオプチカルガラス（ＢＫ７）を用いた磁気記録ヘッ
ドを使用したドライブ装置で３００ｒｐｌで３００万パ
ス回転させた後のサンプルの表面粗さを以下のように評
価した結果が示しである。
）にオプチカルガラス（ＢＫ７）を用いた磁気記録ヘッ
ドを使用したドライブ装置で３００ｒｐｌで３００万パ
ス回転させた後のサンプルの表面粗さを以下のように評
価した結果が示しである。
すなわち、耐久性評価は摺動テスト前後のサンプルの表
面粗さを表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＭ。
面粗さを表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＭ。
東京精密■製）を用いて中心線平均粗さＣＬＡとして求
め、摺動後のＣＬＡ値を開動前のＣＬＡ数値で除算した
相対的表面粗さを算出して行なった。
め、摺動後のＣＬＡ値を開動前のＣＬＡ数値で除算した
相対的表面粗さを算出して行なった。
（以下余白）
表から明らかの様に、本発明のコバルト酸化物Ｃｏ３Ｏ
４による保１ｆｆｌを用いた実施例では媒体の表面粗さ
に摺動テスト前後で変化もなく、比較例のいづれに比し
ても最良の結果であり、高い耐久性を示した。なお、実
施例のＣｏ３Ｏ４の保護層はランダム配向したものであ
った。
４による保１ｆｆｌを用いた実施例では媒体の表面粗さ
に摺動テスト前後で変化もなく、比較例のいづれに比し
ても最良の結果であり、高い耐久性を示した。なお、実
施例のＣｏ３Ｏ４の保護層はランダム配向したものであ
った。
以上の本発明はその主旨からいって、実施例に示したフ
ロッピーディスク及び垂直磁気記録媒体に同等限定され
るものではなく、アルミナ酸化処理をしたアルミディス
ク等所謂ハードディスク。
ロッピーディスク及び垂直磁気記録媒体に同等限定され
るものではなく、アルミナ酸化処理をしたアルミディス
ク等所謂ハードディスク。
磁気テープへの適用が出来る事は云うまでもない。
又記録層、保護層の製法も実施例以外の他の公知の膜形
成手段が適用できる。
成手段が適用できる。
第１図は本発明の一実施例の構成を示す部分側断面図で
ある。 １；基体、 ２：高透磁率金属薄膜層。 ３：コバルト・クロム合金薄膜層。 ４：コバルト酸化物ＣＯ３Ｏ４の保護層第１配
ある。 １；基体、 ２：高透磁率金属薄膜層。 ３：コバルト・クロム合金薄膜層。 ４：コバルト酸化物ＣＯ３Ｏ４の保護層第１配
Claims (1)
- １、垂直磁気記録層が金属薄膜からなる薄膜型の垂直磁
気記録媒体において、垂直磁気記録層上にＣｏ＿３Ｏ＿
４よりなるコバルト酸化物保護層を設けた事を特徴とす
る垂直磁気記録媒体、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21152784A JPS6192418A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21152784A JPS6192418A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6192418A true JPS6192418A (ja) | 1986-05-10 |
Family
ID=16607362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21152784A Pending JPS6192418A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6192418A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5841439A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-10-11 JP JP21152784A patent/JPS6192418A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5841439A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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