JPS6183031U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6183031U JPS6183031U JP16964184U JP16964184U JPS6183031U JP S6183031 U JPS6183031 U JP S6183031U JP 16964184 U JP16964184 U JP 16964184U JP 16964184 U JP16964184 U JP 16964184U JP S6183031 U JPS6183031 U JP S6183031U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incident
- ion beam
- rotation mechanism
- substrate holder
- ion
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 3
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Description
第１図は、この考案の一実施例に関するイオン
ミリング装置の概念図、第２図は、その基板回転
機構を説明するための基板ホルダ単体斜視図、第
３図は従来の基板ホルダの単体斜視図、第４図は
従来の基板回転機構の側面図である。 ３…ワーク（素材）、１１…作業チヤンバ、２
０…回転駆動軸、２１…固着取付棒、２２…基板
ホルダ、２３…イオンビーム。
ミリング装置の概念図、第２図は、その基板回転
機構を説明するための基板ホルダ単体斜視図、第
３図は従来の基板ホルダの単体斜視図、第４図は
従来の基板回転機構の側面図である。 ３…ワーク（素材）、１１…作業チヤンバ、２
０…回転駆動軸、２１…固着取付棒、２２…基板
ホルダ、２３…イオンビーム。
Claims (1)
- イオンビームが入射する作業チヤンバ内に設け
られる板状基板ホルダを、入射イオンビームに対
し、一定の角度を保たせて回転可能に取付けした
ことを特徴とするイオンミリング装置の基板回転
機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16964184U JPS6183031U (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16964184U JPS6183031U (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183031U true JPS6183031U (ja) | 1986-06-02 |
Family
ID=30727359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16964184U Pending JPS6183031U (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6183031U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0336285A (ja) * | 1989-07-01 | 1991-02-15 | Hitachi Nakaseiki Ltd | イオンミリング方法及び装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5750436A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-24 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS58123711A (ja) * | 1982-01-19 | 1983-07-23 | Hitachi Ltd | 磁気バブルメモリ素子の製造方法 |
-
1984
- 1984-11-07 JP JP16964184U patent/JPS6183031U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5750436A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-24 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS58123711A (ja) * | 1982-01-19 | 1983-07-23 | Hitachi Ltd | 磁気バブルメモリ素子の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0336285A (ja) * | 1989-07-01 | 1991-02-15 | Hitachi Nakaseiki Ltd | イオンミリング方法及び装置 |