JPS6182697A - Manufacture of slip ring - Google Patents

Manufacture of slip ring

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JPS6182697A
JPS6182697A JP20365584A JP20365584A JPS6182697A JP S6182697 A JPS6182697 A JP S6182697A JP 20365584 A JP20365584 A JP 20365584A JP 20365584 A JP20365584 A JP 20365584A JP S6182697 A JPS6182697 A JP S6182697A
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JP
Japan
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pattern
substrate
conductive
resistant
insulating
Prior art date
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Pending
Application number
JP20365584A
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Japanese (ja)
Inventor
直樹 宮城
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Toshiba Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Audio Video Engineering Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野] 本発明は、例えばビデオテープレコーダの回転ヘッドを
駆動する圧電素子に電圧又は電流を供給する等に用いら
れる、無限軌道及び円周回転の電気的入出力及び制御信
号の送受を行なう回転装置であるスリップリング(摺動
接触子)をマルチチャンネルで小形、薄形化するスリッ
プリングの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an endless orbital and circumferentially rotating electric motor, which is used, for example, to supply voltage or current to a piezoelectric element that drives a rotating head of a video tape recorder. The present invention relates to a method of manufacturing a slip ring (sliding contact), which is a rotating device that transmits and receives input/output and control signals, to be made smaller and thinner using multiple channels.

[発明の技術的背景とその問題点] 従来、スリップリングは回転装置の電気的入出力及び制
御信号の送受を目的として幅広く用いられている。例え
ば、回転体上の圧電素子に電圧を供給する為に、固定部
に設けられたブラシを、回転体の回転面に設けられたス
リップリングの環状パターンに接触させ、これを通じて
供給するときに用いることができる。この場合、回転装
置の小形、薄形化も並行して必要となっている。
[Technical Background of the Invention and its Problems] Conventionally, slip rings have been widely used for the purpose of transmitting and receiving electrical input/output and control signals of rotating devices. For example, in order to supply voltage to a piezoelectric element on a rotating body, a brush provided on a fixed part is brought into contact with an annular pattern of slip rings provided on the rotating surface of the rotating body, and the voltage is supplied through this. be able to. In this case, it is also necessary to make the rotating device smaller and thinner.

従来の平板型スリップリングの代表的なものの構造及び
形状は、第7図(a)に断面図を示すような片面1層基
板型と、第7図(b)及び第7図(C)に断面図を示す
よう両面2@基板型の2種類がある。第8図(a)は、
第7図(a)〜(C)の表面形状を、第8図(b)は第
7図(b)及び第7図(C)の両面2層基板型の裏面形
状を示す平面図である。すなわち、片面1層基板型はガ
ラスエポキシ積層板等の絶縁基板1に接着された全系合
金箔、または銅系箔にロジウム等の耐摩耗性、耐食性に
富み、かつ、低接触抵抗のメッキを施した導電材料をエ
ツチング加工して連動パターン2を形成し、外部リード
引出しは基板の裏面よりビニル線等のリード線3を貫通
孔4に挿入して摺動パターン2より突出したランド部5
に半田付け6を行なうものである。
Typical structures and shapes of conventional flat plate slip rings are the single-sided, single-layer board type, the cross-sectional view of which is shown in Figure 7 (a), and the two types shown in Figures 7 (b) and 7 (C). As shown in the cross-sectional view, there are two types: double-sided 2@substrate type. Figure 8(a) shows
7(a) to (C), and FIG. 8(b) is a plan view showing the back surface shape of the double-sided double-layer substrate type shown in FIG. 7(b) and FIG. 7(C). . In other words, the single-sided, single-layer board type uses a full alloy foil bonded to the insulating substrate 1 such as a glass epoxy laminate, or a copper foil plated with rhodium or the like, which has high wear resistance, corrosion resistance, and low contact resistance. The applied conductive material is etched to form the interlocking pattern 2, and the external lead drawer is formed by inserting a lead wire 3 such as a vinyl wire into the through hole 4 from the back side of the board, and forming a land portion 5 protruding from the sliding pattern 2.
Soldering 6 is performed on the

同様にして、両面2層基板型は第8図(b>に示す如く
、絶縁基板1にスルーホールメッキ加工技術を用いて両
面に摺動パターン2.2′を形成し、外部リード引出し
はスルーホールメッキ7を通じ裏面の摺動パターン2′
より外部接点(図示せず)を介して行なうか、または第
1図(C)に示す如く、基板の両面にj買初パターン2
.2′を形成し、金属端子類8を貫通孔4に挿入して両
端を半田付け6を行なうものである。
Similarly, for the double-sided two-layer board type, as shown in Figure 8 (b>), a sliding pattern 2.2' is formed on both sides of the insulating board 1 using through-hole plating technology, and external lead drawers are provided through-hole. Sliding pattern 2' on the back side through hole plating 7
This can be done through external contacts (not shown), or as shown in FIG.
.. 2' is formed, metal terminals 8 are inserted into the through holes 4, and both ends are soldered 6.

しかしながら、上記の如き従来法のいずれにおいても、
ブラシ(図示せず)と接する摺動パターン2.2′の他
に貫通孔4及び半田付はランド5が必要となる為、基板
の外形が大きくなる。この影響はマルチチャンネルで摺
動パターンの数が多くなるほど大きい。更に、片面1層
基板型では、リード線3が基板下面より出る為、使用時
に台座(図示せず)が必要となり高さ方向を抑えること
ができない。また、両面2層基板型で金属端子類8を半
田付けした場合でも同様に台座が必要となる欠点を生ず
る。
However, in any of the above conventional methods,
In addition to the sliding pattern 2.2' in contact with a brush (not shown), a through hole 4 and a land 5 are required for soldering, which increases the external size of the board. This influence increases as the number of sliding patterns increases in multi-channels. Furthermore, in the single-sided, single-layer substrate type, since the lead wires 3 protrude from the bottom surface of the substrate, a pedestal (not shown) is required during use, and the height direction cannot be suppressed. Further, even when the metal terminals 8 are soldered to a double-sided, two-layer board type, a similar drawback arises in that a pedestal is required.

また、第7図(a)のものは基板1の裏面よりリードl
113を貫通孔4に挿入し半田付はランド部5に半田付
けする為、摺動パターン2に対して、リード線3の線径
に半田付け6を加えた凸起ができ、ブラシを接触すると
き、この凸起を避けて設置する必要がある。すなわち、
摺動パターン2とブラシとの接触角を大きく取る必要が
あり、高さ方向を抑えるには不利な要素となる。更に、
第7図(a)〜(C)は、摺動パターン2と半田付はラ
ンド部5が同一面に同一パターンとして存在している為
、半田付けのときに摺動パターン2へ半田の飛び跳ねが
起きたり、(買初パターン2への流れ付き等が起こり易
い。この様に、摺動パターン2に微量の半田の付着でも
あるとi買初時にブラシが飛び跳ね、ノイズや信号欠落
による誤動作の発生等の原因となる。
In addition, in the case shown in FIG. 7(a), the lead l is
113 is inserted into the through hole 4 and soldered to the land portion 5, a convexity is created with the diameter of the lead wire 3 plus the solder 6 with respect to the sliding pattern 2, and the brush comes into contact with it. In some cases, it is necessary to avoid this protrusion when installing. That is,
It is necessary to have a large contact angle between the sliding pattern 2 and the brush, which is a disadvantageous factor in suppressing the height direction. Furthermore,
In Figures 7(a) to (C), since the sliding pattern 2 and the soldering land portion 5 are present as the same pattern on the same surface, the solder may splatter onto the sliding pattern 2 during soldering. If there is even a small amount of solder attached to the sliding pattern 2, the brush will jump at the beginning of the purchase, causing malfunctions due to noise and signal loss. etc., etc.

[発明の目的] 本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、従来の印刷
基板技術を用いて片面2層型のスリップリングを薄形に
し1qると共に基板の表裏面を平坦にし得、かつ基板の
中心部にランド部を集中することにより、このランド部
に直接リード線を半田付けし博、かつブラシと干渉し得
る凸起部を有しないスリップリングの製造方法を提供す
ることを目的とする。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to make a single-sided, two-layer type slip ring thinner and thinner by using conventional printed circuit board technology, and to flatten the front and back surfaces of the board. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a slip ring in which the land portions are concentrated in the center of the substrate, so that lead wires can be soldered directly to the land portions, and there are no protrusions that may interfere with brushes. shall be.

[発明の概要] 本発明は、少なくとも一方の面が絶縁された基板のその
絶縁面に、少なくともリード引出しパターンを含む第1
の導電パターンを印刷、形成し、この基板上に、少なく
とも前記リード引出しパターンを覆う第1の絶縁パター
ンを印刷、形成した後に、第1の導電パターン上に第1
の絶縁パターン層と同厚の第2の導電性の金属を電気メ
ッキし、次に前記基板上に第3の導電性の金属の全面無
電解メッキを施し、第1の導電パターンと対応するよう
に所望の摺動パターン形状と逆パターンのメンキレジス
トを印刷、形成した後に、第3の導電パターン上に第4
の導電性の金属を電気メッキし。
[Summary of the Invention] The present invention provides a first substrate including at least a lead extraction pattern on the insulating surface of a substrate having at least one surface insulated.
After printing and forming a first insulating pattern covering at least the lead extraction pattern on this substrate, a first insulating pattern is printed and formed on the first conductive pattern.
electroplating a second conductive metal with the same thickness as the insulating pattern layer, and then electroless plating a third conductive metal over the entire surface of the substrate so as to correspond to the first conductive pattern. After printing and forming a Menki resist with a pattern opposite to the desired sliding pattern shape, a fourth conductive pattern is formed on the third conductive pattern.
electroplating conductive metal.

第4の導電パターン上に摺動材となる耐摩耗性、耐食性
に富み、かつ低接触抵抗である導電性の金属を電気メッ
キし、次に有機溶剤で前記メッキレジストを除去し、最
後に第3の導電性金属をエツチング除去したことを特徴
とした片面2層基板型のスリップリングの製造方法であ
る。
A conductive metal with high wear resistance, corrosion resistance, and low contact resistance is electroplated onto the fourth conductive pattern as a sliding material, and then the plating resist is removed using an organic solvent. This is a method for manufacturing a single-sided, two-layer substrate type slip ring characterized in that the conductive metal of No. 3 is removed by etching.

[発明の実施例] 以下本発明の一実施例を図面を用いて詳細に説明する。[Embodiments of the invention] An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

すなわち、本発明によるスリップリングの平面図を第1
図に示す。基板9上に、絶縁パターン11を施した後に
、スリップリングの3本の摺動パターン10a、 1’
Ob、10cを形成し、各摺動パターン10a〜IOc
と外部引出し端子12a。
That is, the top view of the slip ring according to the present invention is
As shown in the figure. After forming the insulation pattern 11 on the substrate 9, three sliding patterns 10a and 1' of the slip ring are formed.
Ob, 10c are formed, and each sliding pattern 10a to IOc
and an external lead-out terminal 12a.

12b、12cとの接続は、パターンを片面2層基板型
にしてリード引出し部を設けることにより行なうもので
ある。また、各摺動パターン10a〜10Cには夫々対
応してブラシ(図示せず)が接触される。この各ブラシ
はビデオテープレコーダのシリンダの外側に一端が固定
されシリンダの開口部よりその接触部が挿入される。尚
、位置決めには、基板9の内径及び切り欠き部を用いる
。また、リード引出し部における断面図を第2図(a)
〜(C)に示すが、第2図(a)は、第2図(1))の
2点破線での断面図であり、第2図<b>は、最外周の
震動パターン10aと外部引出し端子12aとを接続す
るリード引出しパターン19aにおける断面図であり、
同櫟に、第2図(C)は、中間の摺動パターン10bと
外部引出し端子12bとを接続するリード引出しパター
ン19bにおける断面図を示す。上記のスリップリング
の製造工程を第3図及び第4図に示す。
Connections with 12b and 12c are made by making the pattern a single-sided, two-layer board type and providing a lead lead-out portion. Furthermore, brushes (not shown) are brought into contact with each of the sliding patterns 10a to 10C, respectively. One end of each brush is fixed to the outside of the cylinder of the video tape recorder, and its contact portion is inserted through the opening of the cylinder. Note that the inner diameter and notch of the substrate 9 are used for positioning. In addition, a cross-sectional view of the lead extraction part is shown in Figure 2(a).
-(C), FIG. 2(a) is a sectional view taken along the two-dot dashed line of FIG. 2(1)), and FIG. 2<b> shows the outermost vibration pattern 10a and the external It is a sectional view of a lead extraction pattern 19a connecting with the extraction terminal 12a,
In the same manner, FIG. 2(C) shows a cross-sectional view of a lead extraction pattern 19b connecting the intermediate sliding pattern 10b and the external extraction terminal 12b. The manufacturing process of the above slip ring is shown in FIGS. 3 and 4.

第3図(a)に示す如く、例えば電気抵抗の20〜10
00ρ/Ω・cmと小さい波化物磁心材料であるフェラ
イト基板9の上面に第1の絶縁パターン11として例え
ばエポキシ系の絶縁樹脂等の耐酸性のある絶縁ペースト
を20〜40uI11の厚さで印刷し、例えば200’
C以下で1時間乾燥する。この時の平面図を第5図に示
すが、絶縁パターン11は外部引出し端子12a〜12
cを含む摺動パターン10a〜10cよりも広域にとる
As shown in FIG. 3(a), for example, the electrical resistance is 20 to 10
An acid-resistant insulating paste such as epoxy-based insulating resin is printed as a first insulating pattern 11 on the top surface of the ferrite substrate 9, which is a corrugated magnetic core material as small as 00ρ/Ω·cm, to a thickness of 20 to 40 uI. , for example 200'
Dry at below C for 1 hour. A plan view at this time is shown in FIG. 5, and the insulating pattern 11 is
The area is wider than the sliding patterns 10a to 10c including c.

次に、第3図(b)に示す如く、絶縁パータン11を施
したM板9上に第1の導電パターン13として例えば熱
硬化性エポキシ樹脂に銅粉を加えた樹脂系鋼ペースト等
の耐酸性のある導電性ペーストを10〜20μmの厚さ
で印′@II t、、例えば200℃以下で1時間乾燥
する。この時の第1の導電パターン13の平面図を第6
図に示すが、例えば3本の摺動パターンの場合、最外周
の導電パターン13a及び中間の導電パターン131)
と外部引出し端子12a、12bとをそれぞれ対応して
接続させるためには、最内周の導電パターン13cを慣
切るジャンパー線が必要であるが、本発明では、それぞ
れリード引出しパターン19a、19bを設け、最内周
の導電パターン13cには直接外部リード引出し端子1
2cを接続させた形状とする。この為、リード引出しパ
ターン19a、19bによりパターン13b、13cが
部分的に切断されるが、リード引出しパターン19a、
19bと切断された部分のパターン13b、13c間隔
は印刷可能範囲で狭く、例えば0405〜0.2#にす
るのが望ましい。
Next, as shown in FIG. 3(b), on the M plate 9 with the insulation pattern 11, a first conductive pattern 13 is made of an acid-resistant material such as a resin-based steel paste made of thermosetting epoxy resin and copper powder. The conductive paste is dried to a thickness of 10 to 20 μm, for example, at a temperature below 200° C. for 1 hour. The plan view of the first conductive pattern 13 at this time is shown in the sixth figure.
As shown in the figure, for example, in the case of three sliding patterns, the outermost conductive pattern 13a and the middle conductive pattern 131)
In order to connect the lead-out terminals 12a and 12b in correspondence with each other, a jumper wire that cuts the innermost conductive pattern 13c is required, but in the present invention, lead-out patterns 19a and 19b are provided, respectively. , the innermost conductive pattern 13c is directly connected to the external lead extraction terminal 1.
2c is connected. Therefore, although the patterns 13b and 13c are partially cut by the lead extraction patterns 19a and 19b, the lead extraction patterns 19a and
The distance between patterns 13b and 13c between 19b and the cut portion is preferably as narrow as possible within the printable range, for example, 0405 to 0.2#.

次に、第3図(C)に示す如く、前記基板9上に少なく
ともリード引出しパターン19a、19bを覆う第1の
絶縁パターン14として例えばエボ   ′キシ系の絶
縁樹脂等の耐酸性のある絶縁ペーストを20〜40μm
の厚さで印刷し、例えば200℃以下で1時間乾燥する
。次に、第3図(d)に示す如く、絶縁パターン14以
外の導電パターン13の上に、絶縁パターン14と同厚
となる様なメッキとして例えば銅等の耐酸性のある導電
性の金゛属の電気メッキにより第2の導電パターン15
を施し、導電パータン15と絶縁パターン14とを同一
の高さとする。次に、第3図(e)に示す如く、基板9
上に基板全面の第3の導電パターン16として例えば銅
等の耐酸性のある導電性の金属の全面無電解メッキを5
〜lC1mの厚さに行なう。次に、第3図(f)に示す
如く、前記基板9上に摺動パターン10と外部引出し端
子12とが対応するように位置決めされた所定のパター
ン10.12と逆パターンのレジスト17として例えば
耐酸性メッキレジストを印1ii+1、乾燥する。この
後、第3図(lに示す如く、露出している導電パターン
16上に、摺動パターン1oの摺動材料として例えばロ
ジウムを電気メッキする時の下地メッキとして例えば銀
メッキまたはホワイトゴールドメッキ等の耐酸性のある
導電性の金属の電気メッキによる第4のS電パターン1
8を施す。
Next, as shown in FIG. 3(C), an acid-resistant insulating paste such as an epoxy-based insulating resin is formed on the substrate 9 as a first insulating pattern 14 covering at least the lead extraction patterns 19a and 19b. 20~40μm
The film is printed to a thickness of 200° C. and dried at, for example, 200° C. or less for 1 hour. Next, as shown in FIG. 3(d), the conductive pattern 13 other than the insulating pattern 14 is plated with acid-resistant conductive gold such as copper, so as to have the same thickness as the insulating pattern 14. A second conductive pattern 15 is formed by electroplating
The conductive pattern 15 and the insulating pattern 14 are made to have the same height. Next, as shown in FIG. 3(e), the substrate 9
As a third conductive pattern 16 on the entire surface of the substrate, for example, electroless plating of acid-resistant conductive metal such as copper is applied to the entire surface of the substrate.
It is performed to a thickness of ~lC1 m. Next, as shown in FIG. 3(f), a resist 17 having a pattern opposite to a predetermined pattern 10.12 positioned on the substrate 9 so that the sliding pattern 10 and the external lead-out terminal 12 correspond to each other, for example. Mark 1ii+1 with acid-resistant plating resist and dry. After this, as shown in FIG. 3 (l), on the exposed conductive pattern 16, for example, silver plating or white gold plating is used as a base plating when electroplating rhodium as the sliding material of the sliding pattern 1o. Fourth S-electrode pattern 1 by electroplating acid-resistant conductive metal
Apply 8.

更に、導電パータン18上に、耐酸性、耐摩耗性、耐食
性に富み、低接触抵抗である摺動パターン10の摺動材
料として例えばロジウム等の導電性の金属を2〜3μm
の厚さで電気メッキする。このとき、外部引出し端子1
2も同様にメッキされる。
Further, on the conductive pattern 18, a conductive metal such as rhodium is coated with a thickness of 2 to 3 μm as a sliding material of the sliding pattern 10, which has high acid resistance, wear resistance, corrosion resistance, and low contact resistance.
electroplating to a thickness of . At this time, external drawer terminal 1
2 is similarly plated.

次に、第3図(h)に示す如く、耐酸性メッキレジスト
17を、例えば主成分がアセトン、トリエタン、トリク
レン等の有償溶剤で剥離し除去する。最後に、第3図(
i)に示す如く、摺動パターン10及び外部引出し端子
12で覆われていない部分の導電パターン16を、例え
ば銅ならば塩化第2鉄または塩化第2銅を用いてエツチ
ング除去してスリップリングを完成される。■初パター
ン10と第1の導電パターン13とはリード引出しパタ
ーン19a、19b以外は略同一形状である。
Next, as shown in FIG. 3(h), the acid-resistant plating resist 17 is stripped and removed using a paid solvent whose main component is acetone, triethane, trichlene, or the like. Finally, Figure 3 (
As shown in i), the portions of the conductive pattern 16 that are not covered by the sliding pattern 10 and the external lead-out terminals 12 are removed by etching using ferric chloride or cupric chloride in the case of copper, to form a slip ring. be completed. (2) The initial pattern 10 and the first conductive pattern 13 have substantially the same shape except for the lead extraction patterns 19a and 19b.

以上の工程により表面的には所望の形状の耐摩耗性、耐
食性に富み、低接触抵抗である導電性金属のスリップリ
ングが形成され、かつ外部引出し端子とはメッキにより
積み重ねられた導電性金属を介して内部的に接続された
、表面の平滑なスリップリングが得られる。
Through the above steps, a conductive metal slip ring with a desired shape, high wear resistance, corrosion resistance, and low contact resistance is formed on the surface, and the external lead terminal is made of conductive metal stacked by plating. A slip ring with a smooth surface is obtained, which is internally connected through.

また、スリップリング上の環状パターンは電圧等の供給
先の個数に合わせてその本数が増やされる。この場合、
環状パターンのうち1本はコモン(アース)となる。
Further, the number of annular patterns on the slip ring is increased according to the number of supply destinations of voltage, etc. in this case,
One of the annular patterns becomes a common (earth).

上記説明において、基板として電気抵抗の小さい酸化物
磁心材料における工、程を示したが、一般に、フェノー
ル、ガラスエポキシ等の積層型絶縁基板はじめアルミナ
、ジルコニア等の絶縁性セラミックス基板や電気抵抗の
5X10’〜10”ρ/Ω・cmと大きい酸化物磁心材
料においては、第3図(a)で示した絶縁パターンの形
成は不要となり、第3図(b)の第1の導電パターン1
3を形成する工程か行なうものである。
In the above explanation, the process for using an oxide magnetic core material with low electrical resistance as a substrate is shown, but in general, it is possible to use a laminated insulating substrate such as phenol or glass epoxy, an insulating ceramic substrate such as alumina or zirconia, or a 5×10 In the case of an oxide magnetic core material having a large value of ~10"ρ/Ω・cm, the formation of the insulating pattern shown in FIG. 3(a) becomes unnecessary, and the first conductive pattern 1 shown in FIG. 3(b)
3 is performed.

なお、第4図(a)〜(1)は、第3図(a)〜(i>
の工程と対応したリード引出しパターン19bにおける
工程の断面図である。
In addition, FIGS. 4(a) to (1) are shown in FIGS. 3(a) to (i>
FIG. 4 is a cross-sectional view of a step in the lead extraction pattern 19b corresponding to the step of FIG.

[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、従来の両面2層基板
型スリップリングに比べて厚さ方向の白部分が無いため
、また片面1帯基板型スリツプリングに比べて外部リー
ドの引出しが無いため、マルチチャンネルの場合におい
ても全てスリップリングの内周の端子部で、かつブラシ
の接触する表面側が行なえるため、スリップリングを極
めて薄くすることが可能である。また、従来のいずれの
方法と比較して最内周部分以外には外部リード半田付は
ランド部を活動パターン部内に設ける必要がないため、
基板の外形が小さくなる。即ち、小形、薄形のスリップ
リングが1qられる方法である。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, there is no white part in the thickness direction compared to the conventional double-sided double-layer substrate type slip ring, and there is no white part in the thickness direction compared to the single-sided single-strip substrate type slip ring. Since there is no lead extraction, even in the case of multi-channels, all terminals can be used on the inner circumference of the slip ring and on the surface side that the brush contacts, making it possible to make the slip ring extremely thin. In addition, compared to any of the conventional methods, external lead soldering does not require the provision of land parts within the active pattern part other than the innermost circumferential part.
The outline of the board becomes smaller. That is, this is a method in which 1q of small and thin slip rings are produced.

また、第3図及び第4図で基板9の裏面には何もないた
め(従来だと金属端子類等の半田付は部分があり凸状部
ができていた)、スリップリングの平面度を保つことが
でき、また、従来必要としていた台東も不要である。す
なわち、基板9の裏面か平らなため従来の台座が不要で
、かつまた必然的にパターン形成面も正確に水平とする
ことができ(パターン形成が平らであれば)、ブラシは
水平面をすへることになるので、ノイズや誤動作の原因
となるブラシの飛び跳ねが生じない。さらに、従来の印
刷基板技術を用いて簡単に行なえる工程であるので、摺
動パターンの金属材料もメッキが可能なものなら任意に
耐摩耗、耐食、低接触抵抗導電性金属を選定できるとい
う利点がある。
In addition, since there is nothing on the back side of the board 9 in Figures 3 and 4 (conventionally, soldering of metal terminals, etc. had a convex part), the flatness of the slip ring was checked. In addition, there is no need for Taito, which was required in the past. In other words, since the back surface of the substrate 9 is flat, there is no need for a conventional pedestal, and the pattern formation surface can also be made accurately horizontal (if the pattern formation is flat), and the brush can be applied to the horizontal surface. This prevents the brush from jumping, which can cause noise or malfunction. Furthermore, since it is a process that can be easily performed using conventional printed circuit board technology, the metal material for the sliding pattern can be arbitrarily selected from wear-resistant, corrosion-resistant, and conductive metal with low contact resistance as long as it can be plated. There is.

なお、本発明の応用例として、絶縁基板にアルミナ、ジ
ルコニア等の絶縁性セラミックス基板を用いた場合、高
温での加工が可能であるので、絶縁ペーストとして例え
ば結晶性ガラスペーストを −印制し、例えば850〜
900℃で1時間程度、焼成する工程及び導電ペースト
として例えば銀−パラジウム系の導電性厚膜ペーストを
印制し、例えば850〜900 ’Cで1時間程度焼成
する工程を用いても可能である。
In addition, as an application example of the present invention, when an insulating ceramic substrate such as alumina or zirconia is used as the insulating substrate, processing at high temperatures is possible, so for example, a crystalline glass paste is imprinted as the insulating paste. For example 850~
It is also possible to use a step of firing at 900° C. for about 1 hour and a step of printing, for example, a silver-palladium-based conductive thick film paste as the conductive paste and firing at 850 to 900° C. for about 1 hour. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るスリップリングの一例を示す表面
図、第2図は本発明のスリップリングの一例を示す一部
切欠断面図、第3図および第4図は本発明の実施例の各
工程で1!¥られるスリップリングを示す一部切欠断面
図、第5図は本発明に係るスリップリングの絶縁パター
ンの一例を示す平面図、第6図は本は発明に係るスリッ
プリングの第1の導電パターンの1例を示す平面図、第
7図は従来のスリップリングを示す一部切欠断面図、第
8図は従来のスリップリングを示す表面図および裏面図
である。 9・・・基板、10・・・摺動パターン、11・・・絶
縁パターン、12・・・外部引出し端子、13・・・第
1の導電パターン、14・・・第1の絶縁パターン、1
5・・・第2の導電パターン、16・・・第3の導電パ
ターン、17・・・メッキレジスト、18・・・導電パ
ターン、19a、19b・・・リード引出しパターン。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1 図 第3図 第4図 第5図 第6図 9b
FIG. 1 is a surface view showing an example of a slip ring according to the present invention, FIG. 2 is a partially cutaway sectional view showing an example of a slip ring according to the present invention, and FIGS. 1 for each process! FIG. 5 is a plan view showing an example of the insulating pattern of the slip ring according to the present invention, and FIG. 6 is a partially cutaway sectional view showing the slip ring according to the present invention. FIG. 7 is a partially cutaway sectional view of a conventional slip ring, and FIG. 8 is a front view and a back view of the conventional slip ring. 9... Substrate, 10... Sliding pattern, 11... Insulating pattern, 12... External lead terminal, 13... First conductive pattern, 14... First insulating pattern, 1
5... Second conductive pattern, 16... Third conductive pattern, 17... Plating resist, 18... Conductive pattern, 19a, 19b... Lead extraction pattern. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue No. 1 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6 Figure 9b

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくとも一方の面が絶縁された基板のその絶縁
面に耐酸性のある導電性ペーストを用いて少なくともリ
ード引出しパターンを含む第1の導電パターンを印刷、
形成し、この後前記基板上に耐酸性のある絶縁ペースト
を用いて少なくとも前記リード引出しパターンを覆う第
1の絶縁はパターンを印刷、形成し、この後前記第1の
導電パターン上に第1の絶縁パターンと同厚の第2の導
電パターンとして耐酸性のある導電性の金属を電気メッ
キし、この後前記基板上に第3の導電パターンとして耐
酸性のある導電性の金属を全面無電解メッキし、この後
前記基板上に所定の摺動パターン形状と逆パターンの耐
酸性のあるメッキレジストを印刷、形成し、この後第3
の導電パターン上、第4の導電パターンとして耐酸性の
ある導電性の金属を電気メッキし、この後第4の導電パ
ターン上に外部引出し端子及び摺動パターンとして耐酸
性、耐摩耗性、耐食性に富み、かつ、低接触抵抗である
導電性の金属を電気メッキし、この後有機溶剤で前記メ
ッキレジストを除去し、この後露出している第3の導電
パターンをエッチング除去することを特徴とするスリッ
プリングの製造方法。
(1) Printing a first conductive pattern including at least a lead extraction pattern on the insulating surface of a substrate whose at least one surface is insulated using an acid-resistant conductive paste;
A first insulating pattern covering at least the lead extraction pattern is printed and formed on the substrate using an acid-resistant insulating paste, and then a first insulating pattern is printed and formed on the first conductive pattern using an acid-resistant insulating paste. An acid-resistant conductive metal is electroplated as a second conductive pattern with the same thickness as the insulating pattern, and then an acid-resistant conductive metal is electrolessly plated on the entire surface of the substrate as a third conductive pattern. After that, an acid-resistant plating resist with a pattern opposite to the predetermined sliding pattern shape is printed and formed on the substrate, and then a third
A conductive metal with acid resistance is electroplated as a fourth conductive pattern on the conductive pattern, and then an acid-resistant, wear-resistant, and corrosion-resistant metal is applied as an external lead terminal and a sliding pattern on the fourth conductive pattern. It is characterized by electroplating a conductive metal that is rich and has low contact resistance, then removing the plating resist with an organic solvent, and then etching away the exposed third conductive pattern. How to manufacture slip rings.
(2)基板として、アルミナ、ジルコニア等の絶縁性セ
ラミックス基板もしくは酸化物磁心材料基板を用いたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスリップリ
ングの製造方法。
(2) The method for manufacturing a slip ring according to claim 1, wherein an insulating ceramic substrate such as alumina or zirconia or an oxide magnetic core material substrate is used as the substrate.
(3)リード引出しパターン部分以外は所定の摺動パタ
ーン形状と略同一形状の第1の導電パターンを用いたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスリップリ
ングの製造方法。
(3) The method for manufacturing a slip ring according to claim 1, wherein the first conductive pattern has substantially the same shape as the predetermined sliding pattern except for the lead extraction pattern.
(4)基板の一方の面に耐酸性のある絶縁ペーストを用
いて少くとも所定の摺動パターン形状より広域にわたり
第1の絶縁パターンを印刷形成する工程を行なつた後に
、第1の導電パターンを形成することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のスリップリングの製造方法。
(4) After carrying out a step of printing a first insulating pattern on one surface of the substrate using an acid-resistant insulating paste over a wider area than at least a predetermined sliding pattern shape, a first conductive pattern is formed on one surface of the substrate. 2. A method for manufacturing a slip ring according to claim 1, wherein the slip ring is formed by forming a slip ring.
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